由引发剂组合物（下述）产生的自由基而聚合（交联）的可自由基聚合基团（例如烯式 不饱和基团）。每个分子可具有这些侧链中的至少两条。所述可自由基聚合基团（或烯式 不饱和基团）可为连接到所述聚合物主链上的脂族或芳族丙烯酸酯侧链的一部分。通常， 每个分子具有至少2个和最多且包括20个这类基团。
[0075] 这类可自由基聚合的聚合物还可包含亲水性基团，其包括但不限于羧基、磺基或 磷酸基团，所述基团直接连接到主链上，或作为不是可自由基聚合侧链的侧链的一部分连 接到主链上。
[0076] 所述辐射敏感性组合物（阴图制版可成像层）还包括引发剂组合物，所述引发剂 组合物包括一种或更多种能够在所述组合物暴露于成像辐射后生成足以引发所有各种可 自由基聚合组分的聚合的自由基的引发剂。所述引发剂组合物通常响应例如期望光谱区 中，例如在至少700nm和最多且包括1400nm的宽红外光谱范围内的电磁辐射，或通常至少 700nm和最多且包括1250nm的辐射。备选地，所述引发剂组合物可响应至少250nm和最多 且包括450nm并通常至少350nm和最多且包括450nm的紫光区中的曝光辐射。
[0077] 更通常地，所述引发剂组合物包括一种或更多种电子受体和能够贡献电子、氢原 子或烃类基团的一种或更多种共引发剂。
[0078] 通常，用于辐射敏感性组合物的适合引发剂组合物包含包括但不限于以下的引发 剂：芳族磺酰卤化物、三卤甲基砜、酰亚胺（例如N-苯甲酰氧邻苯二甲酰亚胺）、重氮磺酸 酯（盐）、9, 10-二氢化蒽衍生物、具有至少2个羧基基团且其中至少一个羧基基团结合到 芳基部分的氮、氧或硫原子上的N-芳基、S-芳基或0-芳基多羧酸（例如苯胺二乙酸及其衍 生物，和描述在West等人的美国专利5, 629, 354中的其它"共引发剂"）、肟醚和肟酯（例 如衍生自安息香的那些）、a-羟基或a-氨基苯乙酮、三卤甲基-芳基砜、安息香醚和酯、 过氧化物（例如过氧化苯甲酰）、氢过氧化物（例如枯基过氧化氢）、偶氮化合物（例如偶 氮双异丁腈）、例如美国专利4, 565, 769 (Dueber等人）中描述的2, 4, 5-三芳基咪唑基二聚 物（又称为六芳基二咪唑，或"HABI"）、三卤甲基取代的三嗪、含硼化合物（例如四芳基硼 酸盐和烷基三芳基硼酸盐）和有机硼酸盐（例如美国专利6, 562, 543 (Ogata等人）中描述 的那些），以及鐵盐（如钱盐、^芳基鹏鐵盐、二芳基疏盐、芳基重氣鐵盐和N-烷氧基P比陡鐵 盐）。
[0079] 六芳基二咪唑、鑰类化合物和硫醇化合物以及它们中的两种或更多种的混合物 为期望的共引发剂或自由基生成剂，和特别地六芳基二咪唑以及它与硫醇化合物的混 合物是有用的。合适的六芳基二咪唑还描述在美国专利4, 565, 769(Dueber等人）和 3, 445, 232 (Shirey)中，并可根据已知方法制备，例如三芳基咪唑的氧化二聚。
[0080] 用于IR辐射敏感性组合物的有用引发剂组合物包括鑰类化合物（盐），其包 括铵、銃、碘鑰和磷鑰化合物，尤其与菁红外辐射敏感性染料结合。可用的碘鑰阳离子 在本领域是熟知的，包括但不限于美国专利申请公开2002/0068241 (Oohashi等人）、 TO2004/101280 (Munnelly 等人）以及美国专利 5, 086, 086 (Brown-Wensley 等人）、 5, 965, 319 (Kobayashi)和6, 051，366 (Baumann等人）。例如，可用的碘鐵阳离子包括带正 电的碘鑰、（4-甲基苯基）[4-(2-甲基丙基）苯基]-部分和合适的带负电的反离子。
[0081] 由此，碘鑰阳离子可作为一种或更多种碘鑰盐的一部分供应，并且碘鑰阳离子可 作为还含有合适的含硼阴离子的碘鑰硼酸盐供应，尤其与菁红外辐射敏感性染料结合。例 如，碘鑰阳离子和含硼阴离子可作为取代或未取代的二芳基碘鑰盐的一部分供应，所述二 芳基碘鑰盐为美国专利7, 524, 614(Tao等人）的第6-8栏中描述的结构（I)与（II)的组 合。
[0082] 可用的红外辐射敏感性引发剂组合物可包含一种或更多种二芳基碘鑰硼酸盐化 合物。可用于本发明的代表性碘鑰硼酸盐化合物包括但不限于：4_辛氧基-苯基苯基碘鑰 四苯基硼酸盐、[4-[(2_羟基十四烷基）-氧基]苯基]苯基碘鑰四苯基硼酸盐、双（4-叔 丁基苯基）碘鑰四苯基硼酸盐、4-甲基苯基-4' -己基苯基碘鑰四苯基硼酸盐、4-甲基苯 基-4' -环己基苯基碘鑰四苯基硼酸盐、双（叔丁基苯基）碘鑰四（五氟苯基）硼酸盐、 4-己基苯基苯基碘鑰四苯基硼酸盐、4-甲基苯基-4' -环己基-苯基碘鑰正丁基三苯基硼 酸盐、4-环己基苯基苯基碘鑰四苯基硼酸盐、2-甲基-4-叔丁基苯基-4'-甲基苯基碘鑰四 苯基硼酸盐、4-甲基苯基-4'-戊基苯基碘鑰四[3, 5-双（三氟甲基）苯基]硼酸盐、4-甲 氧基苯基-4'-环己基苯基碘鑰四（五氟苯基）硼酸盐、4-甲基苯基-4'-十二烷基苯基碘 鑰四（4-氟苯基）硼酸盐、双（十二烷基苯基）_碘鑰四（五氟苯基）_硼酸盐和双（4-叔 丁基苯基）碘鑰四（1-咪唑基）硼酸盐。可用的化合物包括双（4-叔丁基苯基）碘鑰四苯 基硼酸盐、4-甲基苯基-4'-己基苯基碘鑰四苯基硼酸盐、2-甲基-4-叔丁基苯基-4'-甲 基苯基碘鑰四苯基硼酸盐和4-甲基苯基-4环己基苯基碘鑰四苯基硼酸盐。这些化合物 中的两种或更多种的混合物也可用于所述引发剂组合物。关于可用的引发剂组合物的美国 专利8, 043, 787 (Hauck等人）特别描述了含有含硼阴离子的二芳基碘鑰引发剂组合物。 [0083] 因此，在一些实施方案中，能够在暴露于成像辐射后生成自由基的引发剂组合物 包含二芳基碘鑰阳离子和含硼阴离子，其中所述二芳基碘鑰阳离子由以下结构（I)表示：
其中R和R'独立地表不卤素、硝基、烷基、芳基、环烷基、烷氧基、芳氧基、烯基、炔基、烧 基氣基、^烷基亚氣基、烷基醜胺基、芳基醜胺基、幾基、駿基、横醜基、硫代烷基或硫代芳基 基团，或所述R和R'基团中的两个或更多个能够结合以形成稠合的碳环或杂环（带有各自 的苯基基团），并且n和m独立地为0或1至5的整数。m和n之和可为1至6。
[0084] 所述含硼阴离子由以下结构（II)表示： B (R1) (R2) (R3) (R4) (II) 其中R1、R2、R3和R 4独立地表示烷基、芳基、烯基、炔基、环烷基或杂环基团，或R \ R2、 R3和R4中的两个或更多个能够连接在一起以形成带有硼原子的杂环，这类环具有最多7个 碳、氮、氧或氮原子。在一些实施方案中，所有的R1、R2、R3和R 4为相同或不同取代或未取 代的芳基基团例如取代或未取代的苯基基团，或更可能地所有这些基团为未取代的苯基基 团，并且m和n之和可为1至6。
[0085] 在阴图制版可成像层中的引发剂组合物的量对于本领域技术人员会是容易显而 易见的并且将取决于待使用的具体的辐射敏感性组合物。
[0086] 所述阴图制版可成像层包含辐射敏感性成像组合物，其包括一种或更多种辐射吸 收化合物例如红外福射吸收剂或一种或更多种UV增感剂（sensitizer)。基于阴图制版可 成像层总的固体，一种或更多种辐射吸收化合物的总量为至少1重量％和最多且包括30重 量％，或通常至少5重量％和最多且包括20重量％。
[0087] 在一些实施方案中，当生成自由基的化合物为UV辐射敏感的（即至少250nm和最 多且包括450nm)时，所述辐射敏感性组合物含有作为辐射吸收化合物的UV增感剂，由此 促进光致聚合。因此在其它实施方案中，使辐射敏感性组合物对至少350nm和最多且包括 450nm范围内的"紫光"辐射敏感。
[0088] 可用于这类组合物的增感剂包括某些吡喃鑰（pyrilium)和硫代吡喃鑰染料和 3_香豆素酮类（3-ketocoumarins)。用于这类光谱灵敏性的一些其它有用的增感剂描述在 例如描述了可用的双噁唑衍生物及类似物的美国专利6, 908, 726 (Korionoff等人）和TO 2004/074929 (Baumann 等人）中，和美国专利申请公开 2006/0063101 和 2006/0234155 (均 为Baumann等人）中。
[0089] 其它可用的增感剂为具有W0 2006/053689 (Strehmel等人）中所定义的结构（I) 单元的低聚或聚合化合物，其具有在两个杂原子之间提供共辄Ji-体系的合适的芳族或杂 芳族单元。
[0090] 另外的可用的"紫光可见辐射吸收化合物为W0 2004/074929(Baumann等人） 中所描述的化合物。这些化合物包括用包含至少一个碳-碳双键的间隔基部分连接的相同 或不同的芳族杂环基团，所述至少一个碳-碳双键与所述芳族杂环基团共辄，并且所述化 合物由所述公开的式（I)更详细地表示。
[0091] 用于紫光区域增感的其它可用辐射吸收化合物为2, 4, 5-三芳基噁唑衍生物，如 W02004/074930 (Baumann等人）中所述。这些化合物可以单独使用或者与如上所述的共引 发剂一起使用。可用的2, 4, 5-三芳基噁唑衍生物可以由结构G- (ArJ 3表示，其中Ar 1为在 环中具有6至12个碳原子的相同或不同、取代或未取代的碳环芳基基团，并且G为呋喃或 噁唑环，或者由结构G-(A ri)2表示，其中G为噁二唑环。Ari基团可被一个或更多个卤素、取 代或未取代的烷基、取代或未取代的环烷基、取代或未取代的芳基、氨基（伯、仲或叔）或取 代或未取代的烷氧基或芳氧基基团取代。由此，所述芳基基团可分别被一个或更多个R' :至 尺'3基团取代，所述R' ：至!?' 3基团独立地为氢或具有1至20个碳原子的取代或未取代的烷 基（例如甲基、乙基、异丙基、正己基、苄基和甲氧基甲基基团）、在环中具有6至10个碳原 子的取代或未取代的碳环芳基基团（例如苯基、萘基、4-甲氧基苯基和3-甲基苯基基团）、 在环中具有5至10个碳原子的取代或未取代的环烷基基团、-N(R'4) (R'5)基团、或-0R'6基 团，其中1?'4至1?' 6独立地代表如上文定义的取代或未取代的烷基或芳基基团。R' ：至!?' 3中 至少一个为_N(R'4)(R'5)基团，其中R'JPR' 5为相同或不同的烷基基团。用于各Ari基团 的可用取代基包括相同或不同的伯、仲和叔胺。
[0092] 另一类有用的紫光福射增感剂包括由结构ArfG-Ar；；表示的化合物，其中Ar :和 Ar2为在环中具有6至12个碳原子的相同或不同的取代或未取代的芳基基团，或Ar 2可为 亚芳基亚芳基-G-Ar 2基团，并且G为咲喃、噁唑或噁二唑环。Ar :与如上文所定义 的相同，并且Ar2可为与Ar 4目同或不同的芳基基团。"亚芳基"可为针对Ar i定义的任何芳 基，但是除去了氢原子以赋予其二价性质。
[0093] 一些可用的红外辐射吸收化合物对红外辐射（通常为至少700nm和最多且包 括1400nm)和可见辐射（通常为至少450nm和最多且包括700nm)两者敏感。这些化合 物还具有四芳基戊二烯发色团。这类发色团通常包括在链中具有5个碳原子的戊二烯 (pentadiene)连接基团，两个取代或未取代的芳基在所述连接基团的各末端处与其相连。 这些芳基可被相同或不同的叔胺基团取代。所述戊二烯连接基团也可被替代氢原子的一个 或更多个取代基取代，或两个或更多个氢原子可被原子替代以在连接基团中形成环，只要 在所述链中存在交替的（alternative)碳-碳单键和碳-碳双键。这类化合物的其它细节 提供在美国专利7, 429, 445(Munnelly等人）中。
[0094] 其它可用的红外福射吸收化合物包括但不限于偶氮染料、方酸（squarilium) 染料、克酮酸盐（croconate)染料、三芳基胺染料、硫代偶氮鐵染料、吲噪鐵染料、氧杂 菁（oxonol)染料、嚼唑鐵（oxazolium)染料、花青染料、部花青染料、酞菁染料、剛噪菁 染料、吲噪三幾菁（indotricarbocyanine)染料、氧杂三幾菁（oxatricarbocyanine)染 料、硫代菁染料、硫杂三羰菁染料、隐花青染料、萘酞菁（naphthalocyanine)染料、聚苯胺 染料、聚吡略染料、聚噻吩染料、硫属吡喃并亚芳基（chalcogenopyryloarylidene)和双 硫属吡喃并聚甲炔（bi (chalcogenopyrylo)polymethine)染料、氧基吲嗪染料、吡喃鐵 染料、吡唑啉偶氮染料、噁嗪染料、萘醌染料、蒽醌染料、醌亚胺染料、甲川染料、芳基甲川 染料、方酸菁（squarine)染料、嚼唑染料、克酮酸菁（croconine)染料、卟啉染料，以及 前述染料类别的任何取代或离子形式。合适的染料还描述在美国专利5, 208, 135 (Patel 等人）、6, 153, 356(Urano 等人）、6, 264, 920 (Achilefu 等人）、6, 309, 792(Hauck 等 人）、6,569,603(如上所述）、6,787,281(Tao 等人）、7, 135,271 (Kawaushi 等人）和 EP1，182, 033A2(如上所述）。红外辐射吸收N-烷基硫酸盐菁染料描述在例如美国专利 7, 018, 775 (Tao)中。一类合适的菁类染料的概述由W0 2004/101280 (Munnelly等人）的第 [0026]段中的化学式显示。
[0095] 除了低分子量IR吸收染料之外，结合到聚合物上的IR染料发色团的IR吸收染料 也可以使用。此外，也可以使用IR染料阳离子，也就是说，所述阳离子为与在侧链中包含羧 基、磺基、二氧磷基（phospho)或膦酰基（phosphono)的聚合物离子相互作用的染料盐的IR 吸收部分。
[0096] 近红外吸收的菁类染料也是可用的，并描述在例如美国专利6, 309, 792(上述）、 6,264,92〇(Achilefu等人）、6，153,356(上述）和5,4%，9〇3(Watanabe等人）中。合 适的染料可使用常规方法以及起始物料来形成，或获自各种商业来源，所述商业来源包括 AmericanDyeSource(BaieD'Urfe,Quebec,Canada)和FEWChemicals(Germany) 〇用于 近红外二极管激光束的其它可用染料描述在美国专利4, 973, 572 (DeBoer)中。
[0097] 可用的IR-辐射敏感性组合物还描述在例如美国专利7, 452, 638 (Yu等人）以及 美国专利申请公开 2008/0254387(Yu等人）、2008/0311520(Yu等人）、2009/0263746(Ray等人）和2〇10/0〇2l844(Yu等人）中。
[0098] 由此，在许多实施方案中，所述辐射吸收化合物可为红外辐射吸收剂并且所述阴 图制版可成像层对红外辐射敏感。在其它实施方案中，所述辐射吸收化合物对UV(紫光） 辐射敏感并且使得所述阴图制版可成像层也以这种方式敏感。
[0099] 所述阴图制版可成像层还可包括分子量为至少200和最多且包括4000的聚（亚 烷基二醇）或其醚或其酯。所述可成像层还可包括基于所述可成像层总干重量最多且包括 20重量％的量的聚（乙烯醇）、聚（乙烯基吡咯烷酮）、聚（乙烯基咪唑）或聚酯。
[0100] 所述阴图制版可成像层的附加添加剂包括发色显影剂或酸性化合物。发色显影剂 意在包括单体酚类化合物、有机酸或其金属盐、羟基苯甲酸酯、酸性粘土和描述在例如美国 专利申请公开2005/0170282(Inn〇等人）中的其它化合物。所述可成像层还可包括多种任 选的化合物，其包括但不限于：分散剂、湿润剂、杀生物剂、增塑剂、用于涂布性能或其它性 质的表面活性剂、增粘剂、pH调节剂、干燥剂、消泡剂、防腐剂、抗氧化剂、显影助剂、流变改 性剂或它们的组合，或通常用于平版印刷领域中的任何其它附加物，其量为常规量。所述阴 图制版可成像层还任选包括如美国专利7, 429, 445 (Munnelly等人）中所述的分子量通常 大于250的磷酸酯（甲基）丙烯酸酯。
[0101] 最外层水溶性外涂层
[0102] 前体具有直接安置在所述阴图制版可成像层上的最外层水溶性外涂层。该最外层 水溶性外涂层为前体的最外层和因此，当与其它前体堆叠时，一个前体的该最外层会与在 它上面的相邻前体的基底的背侧接触。
[0103] 这类最外层水溶性外涂层包含一种或更多种成膜的水溶性聚合物粘合剂，其以至 少60重量％和最多且包括98重量％的量存在，基于所述最外层水溶性外涂层的总干重。
[0104] 这类成膜的水溶性聚合物粘合剂通常包括改性的或未改性的聚乙烯醇，其具有至 少30%的皂化度，或至少