蚀刻装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及蚀刻制造领域，尤其涉及一种蚀刻装置。
【背景技术】
[0002]现有技术中，在液晶面板制造过程中，需要进行蚀刻来在玻璃基板上形成不同图案的膜层，特别是使用湿蚀刻，通过在蚀刻腔内对玻璃板上的某一层进行图案形成。由于蚀刻时喷洒溶液，为了防止容溶液进入液晶面板存储腔，会在蚀刻腔入口设置风帘，但是当玻璃基板进入蚀刻腔的过程中，风帘上存在在蚀刻时残留的粉尘等杂质，会污染下一个进入蚀刻腔的玻璃基板，如造成玻璃基板上光阻层的损坏，而影响后续工序的良率。
【发明内容】
[0003]本发明提供一种蚀刻装置，解决蚀刻腔内污染玻璃基板的技术问题，保证基板的良率。
[0004]为了实现上述目的，本发明实施方式提供如下技术方案:
[0005]本发明提供一种蚀刻装置，其包括存储腔及与存储腔相邻的蚀刻腔，所述存储腔与蚀刻腔之间通过挡板分隔，所述蚀刻腔内设置蚀刻喷口，所述挡板上设有入口，位于蚀刻腔内相对入口设有风帘，所述蚀刻装置还包括清洗组件，所述清洗组件包括罩体、喷淋管及分流管，所述罩体可旋转的装于所述风帘上与挡板形成清洗室，所述入口位于所述清洗室内，所述喷淋管位于入口两侧并朝向入口，所述分流管位于罩体上与蚀刻喷口相对的方向并连通清洗室与外界连通。
[0006]其中，所述风帘位于所述入口相对两侧，所述罩体包括第一罩体及与第一罩体闭合的形成清洗室的第二罩体，所述第一罩体及第二罩体分别可旋转的装于所述入口两侧的挡板上。
[0007]其中，所述第一罩体位于所述第二罩体下方，所述第一罩体设有底壁，所述分流管装于底壁上，用于引流清洗室内的清洗液。
[0008]其中，所述第一罩体与第二罩体通过转轴转动的装于挡板上。
[0009]其中，所述风帘与所述挡板之间具有流道，所述喷淋管位于蚀刻腔内并与流道贯通，所述流道的端口位于所述清洗室内并朝向所述入口。
[0010]其中，所述喷淋管位于所述清洗室内并朝向所述风帘位置。
[0011]其中，所述蚀刻装置还包括传动室，所述传动室内设有传动齿轮，所述分流管一端连通所述清洗室，另一端连通所述传动室。
[0012]其中，所述挡板上位于入口一侧设有盖体，所述盖体滑动装于挡板上以遮蔽入口。
[0013]其中，所述蚀刻装置使用离子水经喷淋管进入清洗室清洗。
[0014]其中，所述蚀刻装置还包括控制单元，用于启动及控制所述蚀刻装置作业。
[0015]本发明所述的蚀刻装置，在入口两侧设置罩体，将风帘及入口收容于清洗室内，通过喷淋管进行清洗，可以避免代加工的基板进入蚀刻腔时，风帘上的颗粒污染基板，避免破坏基板的性能，保证了基板后续加工的品质。
【附图说明】
[0016]为了更清楚地说明本发明的技术方案，下面将对实施方式中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以如这些附图获得其他的附图。
[0017]图1是本发明较佳实施方式中的蚀刻装置结构示意图。
[0018]图2是本发明的蚀刻装置示意图，其中罩体处于闭合状态。
【具体实施方式】
[0019]下面将结合本发明实施方式中的附图，对本发明实施方式中的技术方案进行清楚、完整地描述。
[0020]本发明的较佳实施例提供了一种蚀刻装置及蚀刻装置。所述蚀刻装置用于在浸泡喷式蚀刻机对液晶显示器玻璃基板进行蚀刻时，为蚀刻液体提供气压。
[0021]请参阅图1与图2，本发明提供一种蚀刻装置，其用于对液晶面板制造过程中的蚀刻作业，比如液晶面板的阵列基板的膜层的图案化。所述蚀刻装置包括存储腔10及与存储腔10相邻的蚀刻腔20。所述存储腔10与蚀刻腔20之间通过挡板30分隔。所述蚀刻腔20内设置蚀刻喷口 21。所述挡板30上设有入口 31，位于蚀刻腔20内相对入口 31设有风帘35。所述蚀刻装置还包括清洗组件(图未标)。本实施例中，所述清洗组件包括罩体41、喷淋管42及分流管43。所述罩体41可旋转的装于所述挡板30上与挡板30之间形成清洗室44。所述入口 31位于所述清洗室44内，所述喷淋管42位于入口 31两侧并朝向入口31，所述分流管43位于罩体41上与蚀刻喷口 21相对的方向并连通清洗室44与外界连通。
[0022]在本发明的较佳实施例中，所述风帘35与所述挡板30之间具有流道36，所述喷淋管42位于蚀刻腔20内并与流道36贯通，所述流道36的端口位于所述清洗室44内并朝向所述入口 31。
[0023]具体的，所述存储腔10与蚀刻腔20为两个通过挡板30分割而成的腔室。所述存储腔10用于阵列基板在进入蚀刻腔前的安放及运送空间。所述入口 31开设于挡板30中部位置，连通存储腔10与蚀刻腔20，用于存储腔10内的基板进入蚀刻腔20内。所述蚀刻腔20包括顶壁22及底壁23。所述蚀刻喷口 21为多个，并且间隔设于所述顶壁22上。当所述阵列基板从入口 31进入所述蚀刻腔20后，所述蚀刻喷口 21对所述阵列基板进行蚀刻喷淋作业。所述风帘35用于保护所述挡板30，防止挡板30被蚀刻液体破坏。
[0024]进一步的，所述风帘35位于所述入口 31相对两侧。所述罩体41包括第一罩体411及与第一罩体411闭合的形成清洗室44的第二罩体412。所述第一罩体411及第二罩体412分别可旋转的装于所述入口 31两侧的挡板30上。具体的，所述风帘35位于所述入口 31两侧并将所述挡板30遮蔽。所述罩体41为矩形罩状。本实施例中，为了更方便入口31进入带蚀刻的基板，通过所述第一罩体411与第二罩体412闭合形成所述罩体41。所述第一罩体411与第二罩体412的边缘通过旋转机构装于挡板30的边缘并将部分风帘35及入口 31遮蔽，所述第一罩体411与第二罩体与挡板形