8] 在镓酞菁晶体中，具有优异的感光度的羟基镓酞菁晶体、溴镓酞菁晶体和碘镓酞 菁晶体是优选的，其具有本发明的充分效果。羟基镓酞菁晶体是特别优选的。羟基镓酞菁 晶体包括具有羟基作为轴向配体的镓原子。溴镓酞菁晶体包括具有溴原子作为轴向配体的 镓原子。碘镓酞菁晶体包括具有碘原子作为轴向配体的镓原子。
[0059] 更优选在使用CuKa辐射的X射线衍射中在布拉格角2Θ为7. 4° ±0. 3°和 28.3° ±0.3°处具有峰的羟基镓酞菁晶体，其具有降低由于重影导致的图像缺陷的效果。
[0060] 包含于酞菁晶体内的由式（1)表示的4-哌啶酮化合物的含量可以是0. 01质量％ 以上且3质量％以下。
[0061] 在晶体内含有由式（1)表示的化合物的酞菁晶体中，由式（1)表示的化合物引入 至晶体内。
[0062] 以下描述在晶体内含有由式（1)表示的4-哌啶酮化合物的酞菁晶体的制造方法。
[0063] 在晶体内含有由式（1)表示的化合物的酞菁晶体可以通过以下来获得：将由酸 溶法生产的酞菁和由式（1)表示的化合物与溶剂混合，并且通过湿式研磨处理来变换为晶 体。
[0064] 研磨处理是使用例如玻璃珠、钢珠和氧化铝球等分散材料在例如砂磨机和球磨机 等研磨装置中的处理。研磨时间可以约为1至1〇〇小时。在特别优选的方法中，以5至10 小时的间隔进行取样以检测晶体的布拉格角。在研磨处理中的分散材料的量可以是以质量 计的镓酞菁的量的10至50倍。使用的溶剂的实例包括：例如N，N-二甲基甲酰胺、N，N-二 甲基乙酰胺、N-甲基甲酰胺、N-甲基乙酰胺、N-甲基丙酰胺和N-甲基-2-吡咯烷酮等酰 胺系溶剂，例如氯仿等卤素系溶剂，例如四氢呋喃等醚系溶剂，例如二甲基亚砜等亚砜系溶 剂。溶剂的使用量可以是以质量计的酞菁的量的5至30倍。由式（1)表示的化合物的使 用量可以是以质量计的酞菁的量的〇. 1至30倍。
[0065] 在本发明中，分析通过NMR测量和热重（TG)测量获得的酞菁晶体的测量数据，从 而确定本发明的酞菁晶体是否在晶体内含有由式（1)表示的4-哌啶酮化合物。
[0066] 例如，当使用用于溶解由式（1)表示的化合物的溶剂来进行研磨处理时或当在研 磨处理之后进行清洗时，进行获得的酞菁晶体的NMR测量。当检测由式（1)表示的化合物 时，可以确定的是，晶体内包含由式（1)表示的化合物。
[0067] 另一方面，当由式（1)表示的化合物不溶于用于研磨处理的溶剂中并且不溶于在 研磨处理之后的清洗溶剂中时，进行获得的酞菁晶体的NMR测量。当检测由式（1)表示的 化合物时，通过以下方法进行测定。
[0068] 分别进行通过添加由式（1)表示的化合物获得的酞菁晶体、除了不添加由式（1) 表示的化合物以外以相同的方式制备的酞菁晶体和单独由式（1)表示的化合物的各TG测 量。当通过添加由式（1)表示的化合物获得的酞菁晶体的TG测量结果，由没有添加由式 (1)表示的化合物的情况下制备的酞菁晶体和由式（1)表示的化合物的各自的测量结果以 预定的比的混合来解释时，确定酞菁晶体和由式（1)表示的化合物形成简单的混合物或由 式（1)表示的化合物附着至酞菁晶体的表面。
[0069] 另一方面，当与没有添加由式（1)表示的化合物的情况下制备的酞菁晶体的TG测 量结果相比，在高于单独由式（1)表示的化合物的重量降低的完成温度的温度下，通过添 加由式（1)表示的化合物获得的酞菁晶体的TG测量结果示出重量减少的增加时，确定的 是，晶体内包含由式⑴表示的化合物。
[0070] 本发明的酞菁晶体的X射线衍射分析、NMR测量和TG测量在以下条件下进行。
[0071] [粉末X射线衍射分析]
[0072] 测量仪器：由RigakuCorporation制造的X射线衍射分析仪RINT-TTRII
[0073] X射线管：Cu
[0074] X射线管电压：50KV
[0075] X射线管电流：300mA
[0076] 扫描方法：2Θ/Θ扫描
[0077] 扫描速度：4.0° /分钟
[0078] 取样间隔：0.02。
[0079]起始角度（2Θ):5.0。
[0080] 终止角度（2Θ) :40.0。
[0081] 附件：标准样品架
[0082] 滤光器：不使用
[0083] 入射单色光：使用
[0084] 计数器单色仪：不使用
[0085] 发散狭缝：打开
[0086] 垂直发散限制狭缝：10. 00mm
[0087] 散射狭缝：打开
[0088] 受光狭缝：打开
[0089] 平板单色仪：使用
[0090] 计数器：闪烁计数器
[0091] [NMR测量]
[0092]测量仪器：由Bruker制造的AVANCEIII500
[0093] 溶剂：氖代硫酸（D2S04)
[0094] [TG测量]
[0095] 测量仪器：由SeikoInstrumentsInc.制造的同时TG/DTA测量装置（商品名： TG/DTA220U)
[0096] 气氛：氮气流（300ml/分钟）
[0097] 测量范围：35°C至 600°C
[0098] 升温速度：10°C/分钟
[0099] 本发明的晶体内含有由式（1)表示的4-哌啶酮化合物的酞菁晶体具有作为光导 电性材料的优异功能，并且除了电子照相感光构件以外，用于太阳能电池、传感器和开关装 置等。
[0100] 以下描述了其中含有由式（1)表示的4-哌啶酮化合物的酞菁晶体作为电子照相 感光构件的电荷产生物质的使用。
[0101] 感光层包括：具有包含电荷产生物质和电荷输送物质的单层的单层型感光层；和 具有包含电荷产生物质的电荷产生层和包含电荷输送物质的电荷输送层的层压结构的层 压型感光层。电荷产生层和电荷输送层的层压顺序可以反转。
[0102] 具有导电性的支承体（导电性支承体）是合适的。支承体可以由例如铝、铝合金、 铜、锌、不锈钢、钒、钼、铬、钛、镍、铟、金或铂而制成。可选择地，支承体可以由以下制成：覆 盖有铝、铝合金、氧化铟、氧化锡或氧化铟-氧化锡合金的真空沉积层的塑料；覆盖有导电 性颗粒和粘结剂树脂的塑料或支承体；浸渍有导电性颗粒的塑料或纸支承体；或包含导电 性聚合物的塑料等。导电性颗粒的实例包括铝颗粒、氧化钛颗粒、氧化锡颗粒、氧化锌颗粒、 炭黑和银颗粒。
[0103] 在本发明中，可以在支承体与感光层之间设置具有阻隔功能和粘接功能的底涂层 (也称为阻隔层或中间层）。
[0104] 底涂层可以由例如聚乙烯醇、聚氧化乙烯、乙基纤维素、甲基纤维素、酪蛋白、聚酰 胺（例如，尼龙6、尼龙66、尼龙610、共聚物尼龙、N-烷氧基甲基化尼龙）、聚氨酯、胶水、氧 化铝和明胶等原料制成。底涂层具有0. 1至10μm，优选0. 5至5μm的膜厚度。
[0105] 单层型感光层可以通过以下来形成：将本发明的酞菁晶体的电荷产生物质和电荷 输送物质在粘结剂树脂溶液中混合，将该混合液体涂布至支承体，并且干燥产生的涂膜。
[0106] 层压型感光层的电荷产生层可以通过以下来形成：将本发明的酞菁晶体分散在粘 结剂树脂溶液中从而制备电荷产生层形成用涂布液，涂布该涂布液，并且干燥产生的涂膜。 可选择地，电荷产生层可以通过气相沉积来形成。
[0107] 电荷输送层可以通过涂布电荷输送层形成用涂布液并且干燥产生的涂膜来形成。 电荷输送层形成用涂布液通过将电荷输送物质和粘结剂树脂溶解在溶剂中来获得。
[0108] 电荷输送物质的实例包括三芳基胺系化合物、肼系化合物、芪系化合物、吡唑啉系 化合物、噁唑系化合物（oxazole-basedcompound)、噻唑系化合物和三稀丙基甲烧系化合 物。
[0109] 用于各层的粘结剂树脂的实例包括聚酯、丙烯酸系树脂、聚乙烯基咔唑、苯氧基树 月旨、聚碳酸酯、聚乙烯醇缩丁醛、聚苯乙烯、聚乙酸乙烯酯、聚砜、聚芳酯、偏二氯乙烯、丙烯 腈共聚物和聚乙稀醇缩苯甲醛（polyvinylbenzal)。
[0110] 形成感光层的涂布方法的实例包括浸涂法、喷涂法、旋涂法、珠涂法、刮涂法和束 涂法。
[0111] 单层型感光层可以具有5至40μm，更优选10至30μm的膜厚度。
[0112] 层压型感光层的电荷产生层可以具有0. 01至ΙΟμπι，更优选0. 1至3μπι的膜厚 度。电荷输送层可以具有5至40μm，更优选10至30μm的膜厚度。
[0113] 层压型感光层的电荷产生物质的含量可以是相对于电荷产生层的总质量的20至 90质量％，更优选50至80质量％。电荷输送物质的含量可以是相对于电荷输送层的总质 量的20至80质量％，更优选30至70质量％。
[0114] 单层型感光层的电荷产生物质的含量可以是相对于感光层的总质量的3至30质 量％。电荷输送物质的含量可以是相对于感光层的总质量的30至70质量％。
[0115] 本发明的酞菁晶体可以与用作电荷产生物质的其它电荷产生物质混合。在此情况 下，酞菁晶