体的含量可以是相对于总电荷产生物质的50质量％以上。
[0116] 在感光层上可以基于需要设置保护层。保护层可以通过将通过将树脂溶解在有机 溶剂中制备的保护层形成用涂布液涂布至感光层上，并且干燥产生的涂膜来形成。用于保 护层的树脂的实例包括聚乙烯醇缩丁醛、聚酯、聚碳酸酯（例如，聚碳酸酯Z和改性的聚碳 酸酯）、尼龙、聚酰亚胺、聚芳酯、聚氨酯、苯乙烯-丁二烯共聚物、苯乙烯-丙烯酸共聚物和 苯乙烯-丙烯腈共聚物。
[0117] 保护层可以具有0.05至20μm的膜厚度。
[0118] 保护层可以包含导电性颗粒或紫外线吸收剂。导电性颗粒的实例包括例如氧化锡 颗粒等金属氧化物颗粒。
[0119] 图1是设置有具有本发明的电子照相感光构件的处理盒的电子照相设备的截面 图。
[0120] 具有圆筒状（鼓状）的电子照相感光构件1沿箭头方向以预定的圆周速度（处理 速度）围绕轴2旋转驱动。
[0121] 将电子照相感光构件1的表面在旋转过程中使用充电装置3静电充电至正或负的 预定电位。接着，电子照相感光构件1的带电表面使用来自图像曝光装置（图中未示出） 的图像曝光光4来照射，从而形成对应于目标图像信息的静电潜像。对应于目标图像信息 的时间序列电数字图像信号来强度调制从例如狭缝曝光或激光束扫描曝光的图像曝光装 置发出的图像曝光光4。
[0122] 使形成在电子照相感光构件1的表面上的静电潜像使用贮存在显影装置5内的调 色剂来显影（常规显影或反转显影），从而在电子照相感光构件1的表面上形成调色剂图 像。将形成在电子照相感光构件1的表面上的调色剂图像使用转印装置6转印至转印材料 7。在此情况下，将具有与保留在调色剂上的电荷相反的极性偏压从偏置电源（图中未示 出）施加至转印装置6。与电子照相感光构件1的旋转同步，将纸的转印材料7从纸供给部 (图中未示出）中取出，从而供给至电子照相感光构件1与转印装置6之间。
[0123] 将具有从自电子照相感光构件1转印的调色剂图像的转印材料7与电子照相感光 构件1的表面分离，并且输送至图像定影装置8,从而使调色剂图像定影。图像形成物（打 印品或复印品）因此从电子照相设备中打印输出。
[0124] 在将调色剂图像转印至转印材料7之后，将电子照相感光构件1的表面使用清洁 装置9来清洁，从而除去例如调色剂等附着材料（转印之后的残留调色剂）。在近年来开发 的无清洁器系统中，调色剂可以在使用显影设备等转印之后直接除去。接着，将电子照相感 光构件1的表面使用来自预曝光装置（图中未示出）的预曝光光10除电，然后重复地用于 图像形成。预曝光装置对于具有充电辊的接触充电装置3不是必需的。
[0125] 在本发明中，选自由电子照相感光构件1、充电装置3、显影装置5和清洁装置9组 成的组的多个组件可以包含于容器中并且一体化支承从而形成处理盒。处理盒可以构成为 与电子照相设备主体可拆卸的。例如，将充电装置3、显影装置5和清洁装置9与电子照相 感光构件1一起一体化支承从而形成盒。该盒构成使用例如电子照相设备主体的导轨等引 导装置12与电子照相设备主体可拆卸的处理盒11。
[0126] 图像曝光光4可以为来自例如复印机和打印机等电子照相设备的一张原稿的反 射光束或穿过其的透射光束。可选择地，图像曝光光4可以是通过对应于来自原稿读取传 感器的信号而进行的激光束的扫描、LED阵列的驱动或液晶快门阵列的驱动而产生的放射 光束。
[0127] 本发明的电子照相感光构件1可以广泛地用于例如激光束打印机、CRT打印机、 LED打印机、FAX、液晶打印机和激光制版等电子照相应用领域。
[0128] 实施例
[0129] 以下参考具体的实施例详细地进一步描述本发明，尽管本发明不限于此。在实施 例和比较例中的电子照相感光构件的各层的膜厚度使用涡电流膜厚度仪（Fischerscope， 由FischerInstruments制造），或基于每单位面积的质量换算的比重来求得。
[0130] [实施例 1-1]
[0131] 如下所述，通过与日本专利申请特开No. 2011-94101中记载的（合成例1)和（实 施例1-1)相同地来生产羟基镓酞菁。在氮气流的气氛下，将5. 46份邻苯二甲腈和45份 α-氯萘投入反应釜，然后加热至30°C的温度，并且保持在该温度下。接着，将3. 75份三氯 化镓在该温度（30°C)下投入其中。在投入时，混合液具有150ppm的水含量。然后将温度升 高至200°C。在氮气流的气氛下，使反应在200°C的温度下进行4. 5小时，然后冷却至150°C 的温度，将生成物过滤。将获得的过滤物使用N，N-二甲基甲酰胺在140°C的温度下分散清 洗2小时，然后过滤。将获得的过滤物使用甲醇清洗并且干燥，从而获得4. 65份的氯镓酞菁 颜料（产率：71 % )。接着，将4. 65份获得的氯镓酞菁颜料在10°C的温度下溶解在139. 5份 浓硫酸中，并且在搅拌下滴入620份冰水从而再沉淀。将产物使用压滤来过滤。接着，将获 得的湿滤饼（过滤物）使用2%的氨水分散清洗，并且使用压滤来过滤。接着，将获得的湿 滤饼（过滤物）使用离子交换水来分散清洗，然后使用压滤的过滤重复3次。然后，获得固 成分为23 %的羟基镓酞菁（含水的羟基镓酞菁）。将6. 6kg的量的获得的羟基镓酞菁（含 水的羟基镓酞菁）使用超干燥机（商品名：HD-06R，频率（振动频率）：2,455ΜΗζ±15ΜΗζ， 由BioconJapanLtd.制造）通过微波来照射从而干燥。
[0132] 将由此获得的0. 5份羟基镓酞菁、0. 5份示例性化合物（1)(产品代码：M530,由 TokyoChemicalIndustryCo.，Ltd.制造）、和9.5份N，N-二甲基甲酰胺装入使用15份 直径为0. 8_的玻璃珠的球磨机中，从而在室温（23°C)下研磨70小时。使用N，N-二甲基 甲酰胺从分散液中生产镓酞菁晶体。在过滤时，使用四氢呋喃充分清洗粗滤器。将滤渣真 空干燥，从而获得0. 43份羟基镓酞菁晶体。获得的羟基镓酞菁晶体的粉末X射线衍射图在 图2中示出。
[0133] 通过NMR测量，基于由质子比的转换，确认的是，酞菁晶体内包含0. 38质量％的示 例性化合物（1)和1.82质量％的乂^二甲基甲酰胺，由于示例性化合物（1)是液体并且 与N，N-二甲基甲酰胺相容，发现示例性化合物（1)包含于酞菁晶体内。
[0134] [实施例 1-2]
[0135] 除了在实施例1-1中，将0. 5份示例性化合物（1)用1. 0份示例性化合物（1)代 替，并且将研磨时间由70小时改变为50小时以外，通过与实施例1-1相同的处理获得0. 44 份羟基镓酞菁晶体。获得的晶体的粉末X射线衍射图在图3中示出。
[0136] 通过NMR测量，确认的是，晶体内包含0.67质量％的示例性化合物（1)和2. 14质 量％的乂1二甲基甲酰胺。
[0137] [实施例 1-3]
[0138] 除了在实施例1-1中，将9. 5份N，N-二甲基甲酰胺用9. 5份二甲基亚砜代替，并 且将研磨时间由70小时改变为50小时以外，通过与实施例1-1相同的处理获得0. 41份羟 基镓酞菁晶体。获得的晶体的粉末X射线衍射图与图3相同。
[0139] 通过NMR测量，确认的是，晶体内包含0. 79质量％的示例性化合物⑴和2. 20质 量％的二甲基亚砜。由于示例性化合物（1)是液体并且与二甲基亚砜相容，发现示例性化 合物（1)包含于酞菁晶体内。
[0140][实施例 1-4]
[0141] 除了在实施例1-1中，将0.5份示例性化合物（1)用0.5份示例性化合物（5)(产 品代码：B1027,由TokyoChemicalIndustryCo.，Ltd.制造）代替，并且将研磨时间由70 小时改变为50小时以外，通过与实施例1-1相同的处理获得0. 44份羟基镓酞菁晶体。获 得的晶体的粉末X射线衍射图在图4中示出。
[0142] 通过NMR测量，确认的是，晶体内包含0. 06质量％的示例性化合物（5)和1. 89质 量％的乂1二甲基甲酰胺。由于示例性化合物（5)是液体并且与N，N-二甲基甲酰胺相容， 发现示例性化合物（5)包含于酞菁晶体内。
[0143][实施例 1-5]
[0144] 除了在实施例1-1中，将0.5份示例性化合物（1)用0.5份示例性化合物（9)(产 品代码=4000343,由ChembridgeCo.，Ltd.制造）代替，并且将研磨时间由70小时改变为 50小时以外，通过与实施例1-1相同的处理获得0.45份羟基镓酞菁晶体。获得的晶体的粉 末X射线衍射图在图5中示出。
[0145] 通过NMR测量，确认的是，晶体内包含0. 02质量％的示例性化合物（9)和1. 97质 量％的乂1二甲基甲酰胺。由于示例性化合物（9)是可溶解于N，N-二甲基甲酰胺中的固 体，发现示例性化合物（9)包含于酞菁晶体内。
[0146][实施例 1-6]
[0147] 除了将在实施例1-5中的0.5份示例性化合物（9)用1.0份示例性化合物（9)代 替以外，通过与实施例1-5相同的处理获得0. 45份羟基镓酞菁晶体。获得的晶体的粉末X 射线衍射图与图4相同