像素单元、阵列基板及其制作方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及显示领域，尤其涉及像素单元、阵列基板及其制作方法。
【背景技术】
[0002]现有技术中，像素单元通常设置在由相邻两条栅线和相邻两条数据线(其中，栅线与数据线交叉)所围成的最小单元的区域中。当像素单元中的狭缝电极(例如，像素电极)的狭缝倾斜方向相同时，可以提高光透过率，但是会造成左、右和上、下视角下的色彩偏差。
【发明内容】
[0003]针对现有技术中的上述问题，提出了本发明的技术方案。本发明提供了一种具有多个畴区的像素单元结构以及具有该像素单元结构的阵列基板，其能够在最大程度上消除色彩偏差的问题，并且具有良好的光透过率。
[0004]根据本发明的一个方面，提供了一种像素单元。所述像素单元包括狭缝电极，该像素单元包括四个分区，所述四个分区中的狭缝电极之间相互电连接。所述像素单元在所述四个分区中的每一个分区中的狭缝电极的狭缝倾斜方向一致，并且所述像素单元在所述四个分区中的任意两个相邻分区中的狭缝电极的狭缝倾斜方向不同。
[0005]在一个实施例中，所述像素单元位于栅线与数据线交叉的位置处，并且所述像素单元的四个分区由相应的栅线和数据线划分。
[0006]在一个实施例中，所述像素单元在所述四个分区中的狭缝电极的狭缝倾斜方向关于所述栅线和/或数据线呈镜像对称。
[0007]在一个实施例中，所述像素单元的狭缝电极的狭缝倾斜方向与所述栅线之间的锐角角度在3-20度之间。
[0008]在一个实施例中，所述像素单元的狭缝电极的狭缝倾斜方向与所述数据线之间的锐角角度在3-20度之间。
[0009]在一个实施例中，由相邻两条栅线和相邻两条数据线所围成的区域为一个最小单元，所述像素单元的四个分区分别包括在四个相邻的最小单元中，并且每个最小单元包括分别属于四个相邻像素单元的四个分区。
[0010]在一个实施例中，包括在同一个最小单元内的四个分区中的狭缝电极相互电隔离，并且包括在同一个最小单元内的四个分区中的狭缝电极具有相同的狭缝倾斜方向。
[0011]在一个实施例中，所述四个分区所占的开口面积相等。
[0012]在一个实施例中，所述狭缝电极是像素电极。
[0013]在一个实施例中，所述像素单元还包括公共电极以及位于栅线和数据线交点处的薄膜晶体管，其中所述薄膜晶体管的源极与所述数据线电连接，所述薄膜晶体管的漏极与所述狭缝电极通过过孔电连接。
[0014]在一个实施例中，所述狭缝电极是公共电极。
[0015]根据本发明的像素单元设置在栅线与数据线交叉的位置处，并且包括了由栅线和数据线划分的彼此电连接的四个分区。由于根据本发明的像素单元在任意两个相邻分区中的狭缝电极的狭缝倾斜方向不同，因此根据本发明的像素单元在上、下方向和左、右方向上均包括了多个畴区。因而，根据本发明的像素单元不仅改善了上、下色彩偏差，还改善了左、右色彩偏差，因此在最大程度上消除了色彩偏差的问题。
[0016]此外，由于根据本发明的像素单元设置在栅线与数据线交叉的位置处，所以由相邻两条栅线和相邻两条数据线所围成的最小单元可以包括分别属于四个相邻像素单元的四个分区。将包括在同一个最小单元内的四个分区中的狭缝电极设置为具有相同的狭缝倾斜方向，因此在同一最小单元内的液晶分子取向一致，从而提供了良好的光透过率。
[0017]根据本发明的另一个方面，提供了一种阵列基板。所述阵列基板包括交叉设置的多条栅线和多条数据线，以及设置在各条栅线与各条数据线的交叉位置处的多个像素单元，每个像素单元包括狭缝电极，并且每个像素单元包括由栅线和数据线划分的四个分区，所述四个分区中的狭缝电极之间相互电连接，其中，每个像素单元在所述四个分区中的每一个分区中的狭缝电极的狭缝倾斜方向一致，并且每个像素单元在所述四个分区中的任意两个相邻分区中的狭缝电极的狭缝倾斜方向不同。
[0018]在一个实施例中，由相邻两条栅线和相邻两条数据线所围成的区域为一个最小单元，所述像素单元的四个分区分别包括在四个相邻的最小单元中，并且每个最小单元包括分别属于四个相邻像素单元的四个分区。
[0019]在一个实施例中，包括在同一个最小单元内的四个分区中的狭缝电极相互电隔离，并且包括在同一个最小单元内的四个分区中的狭缝电极具有相同的狭缝倾斜方向。
[0020]在一个实施例中，所述四个分区所占的开口面积相等。
[0021 ]在一个实施例中，所述狭缝电极是像素电极。
[0022]根据本发明的阵列基板包括交叉设置的多条栅线和多条数据线，以及设置在各条栅线与各条数据线的交叉位置处的多个像素单元。由于阵列基板的各个像素单元包括由栅线和数据线划分的彼此电连接的四个分区，因此使得像素单元在上、下方向上包括了两个畴区，并且在左、右方向上包括了两个畴区。因而，阵列基板在整体上不仅改善了上、下色彩偏差，还改善了左、右色彩偏差，因此在最大程度上消除色差偏差的问题。
[0023]将包括在阵列基板的各个最小单元中的每一个最小单元内的四个分区中的狭缝电极设置为具有相同的狭缝倾斜方向，使得在同一最小单元内的液晶分子取向一致，从而使得阵列基板在整体上提供了良好的光透过率。
[0024]根据本发明的另一个方面，提供了一种制作阵列基板的方法。所述制作阵列基板的方法包括步骤:形成交叉设置的多条栅线和多条数据线；以及在各条栅线与各条数据线的交叉位置处设置多个像素单元。每个像素单元包括狭缝电极，并且每个像素单元包括由栅线和数据线划分的四个分区，所述四个分区中的狭缝电极之间相互电连接。每个像素单元在所述四个分区中的每一个分区中的狭缝电极的狭缝倾斜方向一致，并且每个像素单元在所述四个分区中的任意两个相邻分区中的狭缝电极的狭缝倾斜方向不同。
[0025]在一个实施例中，由相邻两条栅线和相邻两条数据线所围成的区域为一个最小单元，所述像素单元的四个分区分别包括在四个相邻的最小单元中，并且每个最小单元包括分别属于四个相邻像素单元的四个分区。
[0026]在一个实施例中，包括在同一个最小单元内的四个分区中的狭缝电极相互电隔离，并且包括在同一个最小单元内的四个分区中的狭缝电极具有相同的狭缝倾斜方向。
[0027]在一个实施例中，所述四个分区所占的开口面积相等。
【附图说明】
[0028]通过以下结合附图的详细描述，将更加清楚地理解本发明的以上和其它特征和优点，其中：
图I是根据本发明的一个实施例的像素单元的示意性结构图；
图2是根据本发明的一个实施例的阵列基板的示意性结构图；以及图3示意性地示出了根据本发明的一个实施例的制造阵列基板的方法流程图。
【具体实施方式】
[0029]下文中，将参照附图详细描述本发明构思的示例性实施例。
[0030]然而，本发明构思可按照许多不同形式例示，并且不应理解为限于本文阐述的特定实施例。此外，提供这些实施例是为了使得本公开将是彻底和完整的，并且将把本发明构思的范围完全传递给本领域技术人员。
[0031]为了清楚起见，在附图中可夸大示出元件的形状和尺寸。并且相同的附图标记将用于始终指代相同或相似的元件。
[0032]为了方便描述，本文中可使用诸如“在……下方”、“在……上方”、“在……左侧”、“在……右侧”等的空间相对术语，以描述附图