专利名称：使资讯显示器具备低电阻及低反射率涂层的方法
技术领域：
本发明是关于一种使资讯显示器具备低电阻及低反射率涂层的方法，尤指一种用离子溅镀法，于资讯显示器的显示面板外壁上，依序溅镀形成铟锡氧化物透明膜及二氧化硅膜，使资讯显示器的显示面板上具备低电阻及低反射率涂层。
众所周知，一般视讯显示器的阴极射线管(CRT)表面的反射光强度，约为入射光的4-8％，该反射光对于长时间的使用者而言，极易造成眼睛疲劳伤害，且会降低视讯显示器上应有的解析度及颜色对比，此外，在现今日趋普及的高解晰度及高画质显示器中，由于其驱动电压一般均高达25KV，极易于显示器表面上形成静电压，导致大气中微尘粒子吸附在其表面，破壤了显示器的画质，且在低湿度区域内使用该种显示器时，亦容易令使用者遭受电击。故一般为解决上述问题，使视讯显示器符合相关的品质要求，均会在阴极射线管的显示面板外壁表面上，进行抗眩光、抗反射及抗静电等的表面处理，通过涂布多数抗静电及抗反射涂层的方法，以有效减少光源反射作用对视讯影像所造成的不良影响，并大幅降低其上所累积的静电压。近年来，由于消费大众对显示器的影像画质要求日渐提高，视讯显示器的业者莫不朝着以设计制造出更高品质及水准的显示器为目标，因此，视讯显示器的抗静电及抗反射效果的好坏，即成为评鉴品质高低的重要标准。
图1所示为一般传统的彩色阴极射线管10的纵剖面示意图，主要包括一密封的玻璃管体12，该玻璃管体12设有玻璃面板14、管颈部18及中间漏斗部16，该玻璃面板14的内壁表面涂布荧光层24，该荧光层24包括多数个可分别散发荧光的荧光单元241，该密封玻璃管体12的管颈部18内设有多数个呈直线排列的电子枪20，用以产生三色电子束22，电子束22经一磁偏扫轭的控制，沿水平及垂直方向偏折，并聚焦于该荧光层24上，当该彩色阴极射线管10产生的三色电子束聚焦在该玻璃面板14内壁表面上的各荧光单元241时，该荧光单元241将散发出有色光，以在该玻璃面板14上显示视讯影像。
图2所示为传统将抗静电及抗反射涂层应用于彩色阴极射线管的显示面板上的局部剖面示意图，该玻璃面板40的内壁表面涂层有荧光层42，其外壁表面涂布有涂层44。该荧光层42是由多数个彼此间隔且呈点状或带状分布的荧光单元组成。该涂层44包含内层的抗静电涂层46及外层的抗反射涂层48，该抗静电涂层46的表面设有导电元件50，通过该导电元件50将该玻璃面板40连接至接地端，以有效去除该玻璃面板40外壁表面所累积的静电荷；该抗反射涂层48是用以减少该玻璃面板40外壁表面对外界环境光的反射，使该玻璃面板40上呈现更清晰的视讯影像。
目前在平面直角状阴极射线管面板上所使用的抗眩光、抗反射及抗静电的涂布处理，一般用喷涂或旋转式涂布等“湿法涂布方式”，传统的涂布材料包括凝胶材料(如硅质凝胶)成分的涂布溶液，其涂布方法是利用涂布装置，以喷涂或旋转式涂布方式，呈雾状微粒均匀涂布在资讯显示器的显示棉板的外壁形成抗静电及抗反射的涂层，或多层抗静电及抗反射的涂层。其主要缺陷在于1、湿法涂布方式必须仔细考虑所使用的涂布材料的材质与溶剂的分散性，一般包括使用硅质凝胶，造成选材及混配较耗费时间；2、必须使用喷涂装置，将调配好的涂布材料通过喷涂装置的喷嘴以雾状微粒的方式均匀地喷涂在资讯显示器显示面板外壁上，常通过多层的涂布形成所需的抗静电及抗反射涂层，造成各涂层的喷涂量及均匀性较不易控制均匀，较难控制其抗静电及抗反射涂层的效果及其稳定性；3、湿法涂布方式造成大量的涂布材料的浪费，且较难回收及环境污染。
针对现有技术的缺陷，本发明人进行研究开发，创造出本发明的技术方案。
本发明的主要目的在于提供一种使资讯显示器具备低电阻及低反射率涂层的方法，是利用离子溅镀方式，在资讯显示器的显示面板外壁上，依序形成铟锡氧化物透明膜及二氧化硅膜，通过简单且无污染的制程，利用该铟锡氧化物膜的低电阻特性及该二氧化硅膜的低反射率特性，达到在该资讯显示器的显示面板外壁表面上依序形成一抗静电及一抗反射涂层的目的。
本发明的目的是这样实现的一种使资讯显示器具备低电阻及低反射率涂层的方法，其特征在于它是在溅镀室中，利用离子溅镀法，在资讯示器的显示面板外壁上，先溅镀形成铟锡氧化物透明膜，再利用离子溅镀法，于该铟锡氧化物透明膜的外表面溅镀形成二氧化硅膜，在该资讯显示器的显示面板外壁表面上依序形成具备低电阻及低反射率涂层。
该铟锡氧化物透明膜是以离子对铟锡氧化物靶材进行撞击，令该靶材中的铟锡氧化物成分被撞击出来，而均匀地附着在该讯显示器的显示面板外壁。该铟锡氧化物透明膜是以离子对铟-锡合金靶材进行撞击，令该靶材中的铟-锡成分被撞击出来，与溅镀室中所导入的氧气中的氧分子发生反应，形成铟锡氧化物，再均匀地附着在该讯显示器的显示面板外壁。该二氧化硅膜是以离子对二氧化硅靶材进行撞击，令该靶材中的二氧化硅成分被撞击出来，而均匀地附着在该铟锡氧化物透明膜的表面上。该二氧化硅膜是以离子对硅靶材进行撞击，令该靶材中的硅成分被撞击出来，而与该溅镀室中所导入的氧气中的氧分子发生反应，再均匀地附着在该铟锡氧化物透明膜表面上。该铟锡氧化物透明膜的厚度在18-35nm范围。该二氧化硅膜的厚度在110-140nm范围。
本发明的主要优点是通过离子溅镀方式，利用铟锡氧化物膜的低电阻特性及二氧化硅膜的低反射率特性，在资讯显示器的显示面板外壁表面上依序形成抗静电及抗反射涂层，具有方法简便，均匀性较佳及无污染等优点。
下面结合较佳实施例和附图进一步说明。
图1是传统彩色阴极射线管的纵剖面示意图。
图2是传统的彩色阴极射线管的显示面板上的局部剖面示意图。
图3是本发明的彩色阴极射线管的显示面板上的局部剖面示意图。
参阅图3所示，本发明主要是针对传统抗静电及抗反射涂布层所使用的湿式涂布方法的缺陷，而改用离子溅镀法，即所谓的“干式涂布法”，达到简单方便、质量优良及防止污染的目的。
在本发明的较佳实施例中，该离子溅镀法是在溅镀室中，以氩气的正离子对铟锡氧化物的靶材进行撞击，令该靶材中的铟锡氧化物成分被撞击出来，而均匀地附着在资讯显示器的显示面板外壁，并于其上形成一均匀的铟锡氧化物透明膜46’；再利用离子溅镀法，以氩气的正离子对二氧化硅靶材进行僮击，令该靶材中的二氧化硅成分被撞击出来，均匀地附着在该资讯显示器的显示面板外壁所形成的铟锡氧化物透明膜46’表面上，而形成二氧化硅膜48’。
在本发明的另一实施例中，该涂布法是在一溅镀室中，以氩气的正离子对铟-锡合金的靶材进行撞击，令该靶材中的铟-锡成分被撞击出来，并与该溅镀室中所导入的氧气中的氧分子发生反应，而形成铟锡氧化物，均匀地附着在资讯显示器的显示面板外壁，于其上形成一均匀的铟锡氧化物透明膜46’。
在本发明的又一实施例中，该涂布法是利用离子溅镀法，以氩气的正离子对硅靶材进行撞击，令该靶材中的硅成分被撞击出来，而与溅镀室中所导入的氧气中的氧分子发生反应，再均匀地附着在该资讯显示器的显示面板外壁所形成的该铟锡氧化物透明膜46’上，形成二氧化硅膜48’。
在本发明中，由于该铟锡氧化物透明膜46’具有低电阻的导电特性，故令该铟锡氧化物透明膜46’与该资讯显示器的显示面板外壁周缘所设的一导电元件50连接，即形成一抗静电涂布层46’，该涂布层46’通过该导电元件50将该显示面板上所累积的静电压，导引至与该导电元件连接的一接地端，以有效消除静电压对该资讯显示器所造成的不良影响。
另外，由于该二氧化硅膜48’具有硬度高、反射率低及穿透性高等物理特性，故该二氧化硅膜48’将成为该资讯显示器的显示面板外壁上的抗反射涂布层，用以减少该显示面板外壁表面对外界环境光的反射，利于该资讯显示器上的抗静电及抗反射涂层44’能呈现更清晰的视讯影像。
在本发明的最佳实施例中，该资讯显示器的显示面板外壁表面上，所形成的铟锡氧化物透明膜46’的厚度约在18-35nm范围之内，而该铟锡氧化物透明膜46’上所涂布的二氧化硅膜48’的厚度110-140nm范围之内，在该厚度范围内，又以铟锡氧化物透明膜46’的厚度在20-22nm，且二氧化硅膜48’的厚度在120-125nm的范围之内，所制作出的资讯显示器的抗静电及抗反射涂层44’为最佳。
以上所述，仅是本发明的较佳实施例，凡熟悉该项技艺人士，依据本发明所揭露的技术内容，在其它资讯显示器，例如电浆显示器或液晶显示器的显示面板上的等效应用，均应属于本发明的保护范围之内。
权利要求
1.一种使资讯显示器具备低电阻及低反射率涂层的方法，其特征在于它是在溅镀室中，利用离子溅镀法，在资讯显示器的显示面板外壁上，先溅镀形成铟锡氧化物透明膜，再利用离子溅镀法，于该铟锡氧化物透明膜的外表面溅镀形成二氧化硅膜，在该资讯显示器的显示面板外壁表面上依序形成具备低电阻及低反射率涂层。
2.如权利要求1所述的使资讯显示器具备低电阻及低反射率涂层的方法，其特征在于该铟锡氧化物透明膜是以离子对铟锡氧化物靶材进行撞击，令该靶材中的铟锡氧化物成分被撞击出来，而均匀地附着在该讯显示器的显示面板外壁。
3.如权利要求1所述的使资讯显示器具备低电阻及低反射率涂层的方法，其特征在于该铟锡氧化物透明膜是以离子对铟-锡合金靶材进行撞击，令该靶材中的铟-锡成分被撞击出来，与溅镀室中所导入的氧气中的氧分子发生反应，形成铟锡氧化物，再均匀地附着在该资讯显示器的显示面板外壁。
4.如权利要求1所述的使资讯显示器具备低电阻及低反射率涂层的方法，其特征在于该二氧化硅膜是以离子对二氧化硅靶材进行撞击，令该靶材中的二氧化硅成分被撞击出来，而均匀地附着在该铟锡氧化物透明膜的表面上。
5.如权利要求1所述的使资讯显示器具备低电阻及低反射率涂层的方法，其特征在于该二氧化硅膜是以离子对硅靶材进行撞击，令该硅靶材中的硅成分被撞击出来，而与该溅镀室中所导入的氧气中的氧分子发生反应，再均匀地附着在该铟锡氧化物透明膜表面上。
6.如权利要求1所述的使资讯显示器具备低电阻及低反射率涂层的方法，其特征在于该铟锡氧化物透明膜的厚度在18-35nm范围之内。
7.如权利要求1所述的使资讯显示器具备低电阻及低反射率涂层的方法，其特征在于该二氧化硅膜的厚度在110-140nm范围之内。
全文摘要
一种使资讯显示器具备低电阻及低反射率涂层的方法,它是在溅镀室中,利用离子溅镀法,在资讯显示器的显示面板外壁上,先溅镀形成铟锡氧化物透明膜,再利用离子溅镀法,于铟锡氧化物透明膜的外表面溅镀形成二氧化硅膜。通过简单且无污染的离子溅镀方式,利用铟锡氧化物膜的低电阻特性及二氧化硅膜的低反射率特性,在资讯显示器的显示面板外壁表面上依序形成具备低电阻及低反射率涂层。
文档编号C23C14/34GK1383934SQ01116109
公开日2002年12月11日 申请日期2001年5月9日 优先权日2001年5月9日
发明者胡俊民, 滕月明 申请人:中华映管股份有限公司