一种可自动清洁抛光台的碳化硅抛光机的制作方法

专利名称:一种可自动清洁抛光台的碳化硅抛光机的制作方法
【专利摘要】一种可自动清洁抛光台的碳化硅抛光机，包括底座，所述底座的上侧面设有固定板以及由第二电机带动进行旋转的第一抛光平台和第二抛光平台。该自动清洁抛光台的碳化硅抛光机，通过设有的第一抛光平台和第二抛光平台并且通过打磨装置和抛光装置对于碳化硅进行抛光，这样可以对于碳化硅有一个初步的磨平棱角的工序，不仅方便了下面的抛光工序，而且使得抛光更为彻底，通过洒水支架和擦拭支架可以对使用过的第二抛光平台进行擦洗，方便了工作之后的清洁，而且从一定程度上还可以节约抛光时间和成本，具有很强的实用性。
【专利说明】
一种可自动清洁抛光台的碳化硅抛光机
技术领域
[0001]本实用新型涉及碳化硅抛光机技术领域，具体为一种可自动清洁抛光台的碳化硅抛光机。【背景技术】
[0002]随着高亮度LED在照明工程领域需求量的急剧增长，带动了国内碳化硅衬底材料制备产业的发展。由于碳化硅晶体(a-A1203)具有耐高温、耐腐蚀、透光波段宽等显著特点， 是外延长GaN的首选衬底材料，但也正是由于碳化娃硬度极高、脆性大、化学性质稳定的特点，给材料加工，尤其是晶片表面纳米级抛光在技术上带来很多困难，在加工碳化硅的工序中需要对碳化硅的表面进行抛光处理，目前的抛光技术为单一面的加工，当加工一面完毕之后再对另一面进行抛光处理，加工工序繁琐，工作效率低下，不利于生产，而且加工一般不具备化学抛光机，这样使得抛光不彻底，而且化学抛光机的废液附着于抛光平台形成污垢，手工擦洗费时费力，对此我们提出一种可自动清洁抛光台的碳化硅抛光机。
【发明内容】

[0003]本实用新型的目的在于提供一种可自动清洁抛光台的碳化硅抛光机，以解决上述【背景技术】中提出的问题。
[0004]—种可自动清洁抛光台的碳化硅抛光机，包括底座，所述底座的上侧面设有固定板以及由第二电机带动进行旋转的第一抛光平台和第二抛光平台，所述第一抛光平台的一侧设有垂直安装于底座的打磨装置，所述打磨装置包括位于第一抛光平台正上方的打磨棒;所述的固定板上设置有储液仓和抛光装置，储液仓底端连通抛光液输送管一端，抛光液输送管另一端连接有位于第二抛光平台正上方的喷头;所述的抛光装置包括位于第二抛光平台正上方的抛光片；在第二抛光平台上设有清洁装置，所述的清洁装置包括平行于第二抛光平台中心轴且由第二抛光平台中心位置穿出的可伸缩的第一转动轴，所述的第一转动轴下端连接至第一电机的输出轴，第一转动轴上端活动连接有与其垂直的洒水支架和擦拭支架，所述的擦拭支架长度不小于第二抛光平台中心到侧边的最大距离且擦拭支架上固定有刷毛。
[0005]工作时，将第一转动轴压缩进入第二抛光平台，把需要加工的碳化硅放在第一抛光平台上进行初步加工，启动第二电机和打磨装置，转动第一抛光平台利用打磨棒进行打磨，对碳化硅上一些较大的棱角进行磨平，之后再把初步加工过的碳化硅放在第二抛光平台上，通过喷头在碳化硅上喷洒抛光液，再启动第二电机和抛光装置，转动第二抛光平台利用抛光片进行抛光，对碳化硅进行最后的精抛光工作。抛光工作结束后，取下碳化硅，拉伸第一转动轴使其穿出第二抛光平台上表面并启动第一电机，洒水支架和擦拭支架作圆周运动，将抛光废液擦拭干净。这样不仅可以对于碳化硅进行精准完善的抛光，而且还便于清洁，经济实用。
[0006]所述底座为中空结构，且底座内部设有与第一抛光平台和第二抛光平台位置对应的第二转动轴，所述的第二转动轴下端连接第二电机，上端贯穿底座并且与第一抛光平台和第二抛光平台连接。第二电机通过第二转动轴带动第一抛光平台和第二抛光平台转动。
[0007]所述的第一电机位于底座内部，经其输出轴连接至第一转动轴下端。抛光结束后， 拉伸第一转动轴，启动第一电机，第一转动轴带动洒水支架和擦拭支架作圆周运动，将抛光废液擦拭干净。
[0008]所述底座通过轴承与第二转动轴连接。摩擦阻力小，减小转动轴与底座之间的摩擦损伤，提高机械效率，便于安装拆卸，维修方便。
[0009]所述的洒水支架固定有储水管，沿所述储水管的长度方向设置有洒水孔。洒水支架在作圆周运动时，通过洒水孔将水洒在地二抛光平台上。本实用新型的有益效果是:该自动清洁抛光台的碳化硅抛光机，通过设有的第一抛光平台和第二抛光平台并且通过打磨装置和抛光装置对于碳化硅进行抛光，这样可以对于碳化硅有一个初步的磨平棱角的工序， 不仅方便了下面的抛光工序，而且使得抛光更为彻底，通过洒水支架和擦拭支架可以对使用过的第二抛光平台进行擦洗，方便了工作之后的清洁，而且从一定程度上还可以节约抛光时间和成本，具有很强的实用性。【附图说明】
[〇〇1〇]图1为本实用新型结构不意图；
[0011]图2为第一电机与清洁装置的连接示意图；
[0012]图3为第二电机与第一抛光平台的连接示意图；
[0013]图中:1底座、2第一抛光平台、3第二抛光平台、4第一电机、5打磨装置、6抛光装置、 7抛光液输送管、8喷头、9第一转动轴、10打磨棒、11电机、12固定板、13储液仓、14洒水支架、 15抛光片、16第二转动轴、17擦拭支架。【具体实施方式】
[0014]—种可自动清洁抛光台的碳化硅抛光机，包括底座1，所述底座1的上侧面设有固定板12以及由第二电机11带动进行旋转的第一抛光平台2和第二抛光平台3,所述第一抛光平台2的一侧设有垂直安装于底座1的打磨装置5,所述打磨装置5包括位于第一抛光平台2 正上方的打磨棒10;所述的固定板12上设置有储液仓13和抛光装置6,储液仓13底端连通抛光液输送管7—端，抛光液输送管7另一端连接有位于第二抛光平台3正上方的喷头8;所述的抛光装置6包括位于第二抛光平台3正上方的抛光片15;在第二抛光平台3上设有清洁装置，所述的清洁装置包括平行于第二抛光平台3中心轴且由第二抛光平台3中心位置穿出的可伸缩的第一转动轴9,所述的第一转动轴9下端连接至第一电机4的输出轴，第一转动轴9 上端活动连接有与其垂直的洒水支架14和擦拭支架17,所述的洒水支架14固定有储水管， 沿所述储水管的长度方向设置有洒水孔。所述的擦拭支架17长度不小于第二抛光平台3中心到侧边的最大距离且擦拭支架17上固定有刷毛。所述底座1为中空结构，且底座1内部设有与第一抛光平台2和第二抛光平台3位置对应的第二转动轴16,所述的第二转动轴16下端连接第二电机11，上端通过轴承与底座1连接，贯穿底座并且与第一抛光平台2和第二抛光平台3连接。所述的第一电机4位于底座1内部，经其输出轴连接至第一转动轴9下端。
【主权项】
1.一种可自动清洁抛光台的碳化硅抛光机，包括底座(1)，其特征在于:所述底座(1)的 上侧面设有固定板(12)以及由第二电机(11)带动进行旋转的第一抛光平台(2)和第二抛光 平台(3)，所述第一抛光平台(2)的一侧设有垂直安装于底座(1)的打磨装置(5)，所述打磨 装置(5)包括位于第一抛光平台(2)正上方的打磨棒(10);所述的固定板(12)上设置有储液 仓(13)和抛光装置(6 )，储液仓(13)底端连通抛光液输送管(7)—端，抛光液输送管(7)另一 端连接有位于第二抛光平台(3)正上方的喷头(8);所述的抛光装置(6)包括位于第二抛光 平台(3)正上方的抛光片(15);在第二抛光平台(3)上设有清洁装置，所述的清洁装置包括 平行于第二抛光平台(3)中心轴且由第二抛光平台(3)中心位置穿出的可伸缩的第一转动 轴(9)，所述的第一转动轴(9)下端连接至第一电机(4)的输出轴，第一转动轴(9)上端活动 连接有与其垂直的洒水支架(14)和擦拭支架(17 )，所述的擦拭支架(17)长度不小于第二抛 光平台(3)中心到侧边的最大距离且擦拭支架(17)上固定有刷毛。2.根据权利要求1所述的可自动清洁抛光台的碳化硅抛光机，其特征在于:所述底座 (1)为中空结构，且底座(1)内部设有与第一抛光平台(2)和第二抛光平台(3)位置对应的第 二转动轴(16)，所述的第二转动轴(16)下端连接第二电机(11)，上端贯穿底座(1)并且与第 一抛光平台(2)和第二抛光平台(3)连接。3.根据权利要求2所述的可自动清洁抛光台的碳化硅抛光机，其特征在于:所述的第一 电机(4)位于底座(1)内部，经其输出轴连接至第一转动轴(9)下端。4.根据权利要求1所述的可自动清洁抛光台的碳化硅抛光机，其特征在于:所述底座 (1)通过轴承与第二转动轴(16)连接。5.根据权利要求1所述的可自动清洁抛光台的碳化硅抛光机，其特征在于:所述的洒水 支架(14)固定有储水管，沿所述储水管的长度方向设置有洒水孔。
【文档编号】B24B29/02GK205703679SQ201620388317
【公开日】2016年11月23日
【申请日】2016年4月29日
【发明人】宗艳民
【申请人】山东天岳晶体材料有限公司