专利名称：真空室进气调节装置及调节方法
技术领域：
本发明是关于一种真空室进气调节装置及调节方法，特别是关于一种真空镀膜过程中真空室进气调节装置及调节方法。
背景技术：
请参照图2所示，一种现有真空镀膜过程中真空室进气调节装置，该装置包括供气管6，该供气管6一端位于真空室5内部，且该供气管6上开设有通气孔61。改变通气孔61的孔径大小，可控制进入真空室5的气体流量，从而控制真空室5内气体的分布。
然而，使用上述调节装置调节真空室进气的过程中，如果置入真空室5内部的通气孔61大小不符合镀膜所需要求时，需打开真空室5，将供气管6取出，然后重新加工所需孔径大小的通气孔61，因而真空室5的真空状态被破坏，镀膜时需重新建立真空状态，整个过程至少需要2.5个小时方可完成，浪费较长时间。另外，该通气孔61一般需用钻头加工而成，而通气孔61的孔径通常较小，加工较难。
发明内容鉴于上述状况，有必要提供一种节省时间、提高效率的真空室进气调节装置。
另外，有必要提供一种使用上述装置的真空室进气调节方法。
一种真空室进气调节装置，该装置包括供气装置、多个流量控制机构及多个进气管，所述供气装置具有一进气口与多个出气口，流量控制机构位于真空室外部，且与所述多个出气口分别连接，该进气管包括一进气端及一出气端，该进气端与流量控制机构相连接，该出气端位于真空室内部，且该出气端上至少设有一通气孔。
一种真空室进气调节方法，该方法包括以下步骤提供一种真空室进气调节装置，该装置包括供气装置、多个流量控制机构及多个进气管，所述供气装置具有一进气口与多个出气口，流量控制机构位于真空室外部，且与所述多个出气口分别连接，进气管包括一进气端及一出气端，该进气端与流量控制机构相连接，所述出气端位于真空室内部，且该出气端上至少设有一通气孔；
打开供气装置与流量控制机构，气体进入真空室；藉由流量控制机构控制进入真空室的气体流量；关闭流量控制机构。
相较于现有技术，该真空室进气调节装置及调节方法可在不破坏真空室真空状态的情况下调节真空室内气体分布，既操作简单又节省时间、提高效率。
图1是本发明较佳实施例的真空室进气调节装置示意图；图2是现有真空室进气调节装置示意图。
具体实施方式
请参阅图1。本发明较佳实施例的真空室进气调节装置包括供气管1、多个调节阀2及多个进气管3。
供气管1位于真空室4外部，该供气管1包括一进气口11及多个出气口12，该供气管1为不锈钢管。
调节阀2也位于真空室4外部，该调节阀2具有一输入端21与一输出端22，该输入端21与所述多个出气口12相连接。
进气管3具有一进气端31及一出气端32，该进气端31与所述调节阀2的输出端22相连接，改变调节阀2的开启程度，可控制进入进气管3的气体流量，该出气端32位于真空室4内部，且该出气端32上开设有一通气孔33。该进气管3具有不同的长度，使得通气孔33位于真空室4内不同高度位置处。当然，也可使用相同长度的进气管3，而将通气孔33开设于进气管3不同高度处。进气管3也为不锈钢管。
其中，供气管1用来提供气体，通过改变调节阀2的开启程度，可调节进气管3的进气流量，从而控制真空室4内部气体的分布。另外，由于通气孔33位于真空室4内不同高度位置，因而可较有效控制真空室4内不同区域的气体浓度，且可快速调节好真空室4内部气体分布。
本发明较佳实施例的真空室进气调节方法即通过使用上述真空室进气调节装置调节真空室内气体分布，该方法包括以下步骤开启调节阀2，气体进入真空室4；调整调节阀2的开启程度，改变进入真空室4的气体流量；待镀膜结束后，关闭调节阀2。
可以理解，本发明真空室进气调节装置的供气管1可为其它材质及形状的供气装置；进气管3也可为其它材质的管体。
权利要求
1.一种真空室进气调节装置，其特征在于该真空室进气调节装置包括供气装置、多个流量控制机构及多个进气管，所述供气装置具有一进气口与多个出气口，流量控制机构位于真空室外部，且与所述多个出气口分别连接，该进气管包括一进气端及一出气端，该进气端与流量控制机构相连接，该出气端位于真空室内部，且该出气端上至少设有一通气孔。
2.如权利要求1所述的真空室进气调节装置，其特征在于所述供气装置为不锈钢管。
3.如权利要求1所述的真空室进气调节装置，其特征在于所述流量控制机构为调节阀。
4.如权利要求3所述的真空室进气调节装置，其特征在于所述调节阀具有一输入端及一输出端，该输入端与所述出气口相连，该输出端与所述进气端相连。
5.如权利要求1所述的真空室进气调节装置，其特征在于所述进气管为不锈钢管。
6.如权利要求1所述的真空室进气调节装置，其特征在于所述多个进气管长度不同。
7.如权利要求1或6所述的真空室进气调节装置，其特征在于所述每一出气端上的通气孔高度不同。
8.一种真空室进气调节方法，其特征在于该方法包括以下步骤提供一种真空室进气调节装置，该真空室进气调节装置包括供气装置、多个流量控制机构及多个进气管，所述供气装置具有一进气口与多个出气口，流量控制机构位于真空室外部，且与所述多个出气口分别连接，该进气管包括一进气端及一出气端，该进气端与流量控制机构相连接，该出气端位于真空室内部，且该出气端上至少设有一通气孔；打开供气装置与流量控制机构，气体进入真空室；藉由流量控制机构控制进入真空室的气体流量；关闭流量控制机构。
9.如权利要求8所述的真空室进气调节方法，其特征在于所述多个进气管长度不同。
10.如权利要求8或9所述的真空室进气调节方法，其特征在于所述每一出气端上的通气孔高度不同。
全文摘要
一种真空室进气调节装置，该装置包括供气装置、多个流量控制机构及多个进气管，所述供气装置具有一进气口与多个出气口，流量控制机构位于真空室外部，且与所述多个出气口分别连接，该进气管包括一进气端及一出气端，该进气端与流量控制机构相连接，该出气端位于真空室内部，且该出气端上至少设有一通气孔。一种真空室进气调节方法即利用所述装置对真空室内气体分布进行调节。所述真空室进气调节方法可在不破坏真空室真空状态的情况下调节真空室内气体分布，操作简单，且节省时间。
文档编号C23C14/54GK1904128SQ20051003628
公开日2007年1月31日 申请日期2005年7月29日 优先权日2005年7月29日
发明者林知本, 李永明, 张以林 申请人:深圳富泰宏精密工业有限公司