专利名称：减少镀膜沉积的夹钳的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种用于镀膜机台的夹钳，特别涉及一种用于减少镀膜沉积 的夹钳。
背景技术：
薄膜晶体管液晶显示器(Thin Film Transistor Liquid Crystal Display,也 称为TFT-LCD)因具有良好的显示画质、反应时间可以在40ms以下、观赏 角度可以达到160度、对比率可以超过150: 1以上等优点，而广泛地应用 于包括数字相机、液晶投影机、笔记本电脑、液晶监视器等电子产品中，是 当今显示器产业的主流产品。TFT-LCD制造可区分为在玻璃基板上制作薄膜 晶体管(TFT)阵列的制程、上下面板玻璃的贴合与液晶注入及液晶显示器 模块组装等制程。TFT-LCD的薄膜制程大体包括清洗、成膜、涂光刻胶、曝 光、显影、蚀刻、去光刻胶、检测等过程，在玻璃基板经过多道掩模制程最 终形成薄膜晶体管(TFT)阵列。请参阅图1A至图1C。图IA是现有技术的用于镀膜机台的夹钳的立体 图。图1B是图1A中的箭头B所示方向的夹钳的侧视图。图IC是图IA中 的箭头C所示方向的夹钳的侧视图。夹钳(Clamp) IO包括本体12以及夹 持部14。夹持部14包括上突出缘141以及下突出缘142，用来夹持一夹持 物，例如玻璃基板。请参阅图2，图2是夹钳夹持玻璃基板时造成破片的示意图。夹钳10的 上突出缘141的长度过短，在溅镀过程中易造成镀膜沉积。换言之，夹钳10 因设计问题，易造成镀膜沉积，而长时间使用后，镀膜沉积厚度过厚使得夹 钳10动作时易与玻璃基板20产生碰撞，而造成玻璃基板20的缺角，甚至 增加玻璃基板20破片的机率。发明内容有鉴于此，本发明的目的是提供一种用于镀膜机台的夹钳，以解决玻璃 基板缺角及破片的问题。本发明提供了一种减少镀膜沉积的夹钳，其包括一本体以及一夹持部。 该夹持部自该本体弯折延伸且垂直于该本体，以用来夹持一夹持物，且该夹 持部包括一基座、 一突出缘以及两个凹槽该基座连接于本体；该突出缘设 于基座的一第一侧且突出于基座；两个凹槽分别设于基座的一第二侧以及相 对于该第二侧的一第三侧，该第二侧以及该第三侧实质上垂直于该第一侧。本发明是用于镀膜机台的夹钳，该夹钳具有较长的突出缘以及两个凹 槽。进行镀膜流程时，所述凹槽可用来沉积溅镀时累积的镀膜，降低因镀膜 沉积区域过厚而造成玻璃基板缺口或破片的问题，另外，较长的突出缘增加 覆盖，可减少基座与凹槽的镀膜沉积。为让本发明的上述内容能更明显易懂，下文特举较佳实施例，并结合附 图作详细说明如下。
图1A是现有技术的用于镀膜机台的夹钳的立体图。 图1B是图1A中的箭头B所示方向的夹钳的侧视图。 图1C是图1A中的箭头C所示方向的夹钳的侧视图。 图2是夹钳夹持玻璃基板时造成破片的示意图。 图3A是本发明的用于镀膜机台的夹钳的立体图。 图3B是图3A中的箭头D所示方向的夹钳的侧视图。 图3C是图3A中的箭头E所示方向的夹钳的侧视图。 其中，附图标记说明如下10夹钳14夹持部142下突出缘100夹钳1021本体的顶侧106基座1062基座的第二侧12本体141上突出缘20玻璃基板102本体104夹持部1061基座的第一侧1063基座的第三侧108突出缘 IIO凹槽 1101凹槽的内侧具体实施方式
请参阅图3A至图3C。图3A是本发明的用于镀膜机台的夹钳的立体图。 图3B是图3A中的箭头D所示方向的夹钳的侧视图。图3C是图3A中的箭 头E所示方向的夹钳的侧视图。夹钳100用于一镀膜机台，此机台可为金属 溅镀机台，但不限于此，本领域的普通技术人员也可根据实际需求调整所应 用的机台。夹钳100用来夹持传送至镀膜机台的夹持物，例如玻璃基板，此 处仅是举例，并不限于此，本领域的普通技术人员也可根据需求变更夹持物 的类别。夹钳100包括本体102以及夹持部104。夹持部104自本体102弯 折延伸且垂直于本体102。夹持部104包括基座106、突出缘108以及两个 凹槽IIO。所述凹槽110可作为镀膜沉积的区域，使大部分的镀膜可沉积于 此，减少镀膜沉积在易与玻璃基板接触之处，可避免碰撞造成玻璃基板的缺 角与破片。参考图3B，基座106连接于本体102，突出缘108设于基座106的第一 侧1061且突出于基座106。两个凹槽110分别设于基座106的第二侧1062 以及相对于第二侧1062的第三侧1063，且第二侧1062以及第三侧1063实 质上垂直于第一侧1061。在较佳的实施例中，两个凹槽110以基座106对称 排列、且近似呈矩形，此外两个凹槽110的容积实质上相等，但不限于此， 本领域的普通技术人员根据实际需求可调整凹槽形状与容积比例。参考图3A 及图3C，弧角可减少镀膜的沉积，本体102的顶侧1021可为一弧角，以及 两个凹槽110的内侧1101可分别为一弧角，但本发明不限于此，也可根据 实际需求而调整顶侧或内侧的设计。请参阅图3C，在较佳的实施例中，基座106的一外缘至突出缘108的 一顶缘的距离dl的长度实质上大于3mm，并参阅图3B与图3C，两凹槽110 的长度L、宽度W实质上大于或等于lmm;基座106的长度&是凹槽110 的长度L的至少8倍。基座106的宽度可约为凹槽110的宽度W;基座106 的高度可约为凹槽110的高度H，另外高度H也可相近于夹持物的厚度，以 便夹钳100能够挟持夹持物。举例而言，本发明的两个凹槽110的长度L约lmm、宽度W约lmm、高度H约3.5mm。突出缘108的顶缘与基座106的 外缘距离山约4mm，基座106的长度d2约8mm，然而本发明并不以上述描 述为限，本领域的普通技术人员可根据实际需求而调整其尺寸与比例。请一并参阅图1A至图1C以及图3A至图3C，本发明的夹钳100将现 有技术的夹钳10的下突出缘142削平，如此一来可减少镀膜沉积于此，避 免与玻璃基板碰撞产生缺角与破片的风险。除此之外，本发明的夹钳100将 现有技术的夹钳10的区域A切削出一块凹槽110，作为镀膜沉积区域，使 绝大部分镀膜沉积堆于两侧的凹槽110，减少镀膜沉积在易与玻璃基板接触 之处，可避免碰撞造成玻璃基板的缺角及破片。另外，与现有技术的夹钳IO 的上突出缘141相比，本发明的夹钳100的突出缘108比现有的夹钳10的 上突出缘141的长度明显增加，甚至可为原本的两倍，例如本发明的夹钳 100的突出缘108的长度可约4mm。换句话说，夹钳100具有较长的突出缘 108，突出缘108的长度能增加覆盖范围以保护基座106与凹槽110，使其减 少被镀膜沉积的机会，这样的设计可降低因镀膜沉积区域过厚而损害玻璃基 板的机率。相比于现有技术，本发明的用于金属镀膜机台的夹钳IOO提供较长的突 出缘108以及两个凹槽110。在进行镀膜流程时，凹槽110可用来沉积溅镀 吋累积的金属，降低因镀膜沉积区域过厚而损害玻璃基板的机率。而较长的 突出缘108增加覆盖保护以减少镀膜沉积的机会。本发明的夹钳相较于现有 技术的夹钳更可减少镀膜沉积过厚的问题，避免与玻璃基板碰撞产生缺角与 破片的风险。虽然本发明已经以实施例的形式进行了如上的解释，然而其并非用以限 定本发明，本领域的普通技术人员在不脱离本发明的精神和范围的前提下， 可对本发明进行各种更动与润饰，并变型为其它不同的实施例，因此本发明 的保护范围应以所附的权利要求界定的范围为准。
权利要求
1.一种减少镀膜沉积的夹钳，包括一本体；以及一夹持部，其自该本体弯折延伸且垂直于该本体，以用来夹持一夹持物，该夹持部包括一基座，其连接于该本体；一突出缘，其设于该基座的一第一侧且突出于该基座；以及两个凹槽，其分别设于该基座的一第二侧以及相对于该第二侧的一第三侧，该第二侧以及该第三侧实质上垂直于该第一侧。
2. 如权利要求1所述的夹钳， 离的长度实质上大于3mm。
3. 如权利要求1所述的夹钳， lmm。
4. 如权利要求1所述的夹钳 lmm。
5. 如权利要求1所述的夹钳 的一个凹槽的长度的八倍。
6. 如权利要求1所述的夹钳， 的一个凹槽的宽度。
7. 如权利要求1所述的夹钳 的一个凹槽的高度。
8. 如权利要求1所述的夹钳
9. 如权利要求1所述的夹钳其中所述两个凹槽的长度实质上大于等于 其中所述两个凹槽的宽度实质上大于等于 其中该基座的长度至少为所述两个凹槽中 其中该基座的宽度约等于所述两个凹槽中 其中该基座的高度约等于所述两个凹槽中其中该夹钳用于一金属溅镀机台。 其中该夹持物是一玻璃基板。
10. 如权利要求l所述的夹钳，其中该本体的顶侧为一弧角。
11. 如权利要求l所述的夹钳，其中所述两个凹槽的内侧为一弧角。
12. 如权利要求1所述的夹钳，其中所述两个凹槽的容积实质上相等'
全文摘要
一种减少镀膜沉积的夹钳，其包括一本体以及一夹持部。夹持部自本体弯折延伸且垂直于该本体，以用来夹持一夹持物。夹持部包括一基座、一突出缘以及两个凹槽。基座连接于本体。突出缘设于基座的一第一侧且突出于基座。两个凹槽分别设于基座的一第二侧以及相对于第二侧的一第三侧，第二侧以及第三侧实质上垂直于第一侧。凹槽可用来沉积溅镀时累积的沉积镀膜，以避免损害玻璃基板。
文档编号C23C14/34GK101235481SQ20081008211
公开日2008年8月6日 申请日期2008年3月3日 优先权日2008年3月3日
发明者吴烱隆, 陈清炜 申请人:友达光电股份有限公司