专利名称：一种矩形平面磁控溅射阴极的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及到一种溅射真空镀膜装置，尤其涉及到一种平面溅射镀膜阴极装置。
背景技术：
溅射阴极作为真空镀膜设备的核心部件，目前广泛应用的矩形平面溅射阴极，其在阴极周围设有屏蔽罩，屏蔽罩下端设有阳极框，其中，阳极框、屏蔽罩，与电源正极和地线相连，并与阴极体保持一定距离，零电位的屏蔽罩截获非靶材零件发射的电子，避免氩气电离产生辉光放电，防止靶座等零部件溅射，有效保证镀膜质量。但根据“巴邢定律”，在一定压强下，PXD值小于巴邢曲线的谷底时，不会产生辉光放电，在适合溅射的工艺压强下，这个D值约等于1. 5-2mm，而在大面积真空镀膜设备中，靶材长度大都在2500mm以上，在实际加工和装配中要想保证这个尺寸是很困难的，所以很多大型的平面磁控溅射阴极的屏蔽罩和阴极体之间，都有放电的现象，阳极框也常常被溅射，这就严重影响了镀膜质量。尽管有人针对这种情况提出了在外框内侧或外侧加装导磁板，但带有阳极框的溅射装置，经长时间使用，其阳极处溅射产生的微粒沉积到一定程度会出现局部放电，最终溅射阴极装置发生短路，而无法正常工作，另外，其还存在如下缺点1、阳极框在长期持续溅射的高温环境下，发生严重变形；2、阳极框需要经常拆卸清除污垢，减短平面溅射阴极使用寿命，影响生产，增加成本。
实用新型内容针对上述设有阳极框的溅射阴极的缺点，本实用新型设计出一种新型的矩形平面磁控溅射阴极。为了达到上述的目的，本实用新型采用的技术方案是提供一种矩形平面磁控溅射阴极，包括阴极组件、设置阴极组件上端的支承座、支撑座上端的阴极盖板，其中，所述支承座分为支撑座底板，支撑座中板，支撑座顶板，所述支撑座中板为绝缘体。根据上述的溅射阴极，其中，在支撑座中板两侧还设置有支撑座防护罩。根据上述的溅射阴极，其中，在阴极组件的外围还设有屏蔽罩，所述屏蔽罩通过螺栓与支撑座底板相连。根据上述的溅射阴极，其中，所述支撑座顶板与阴极盖板通过螺栓相连。根据上述的溅射阴极，其中，所述支撑座中板通过螺栓与支撑座底板、支撑座顶板相连，所述螺栓为T型槽专用螺栓。根据上述的溅射阴极，其中，所述支撑座中板的材质为聚甲醛或聚四氟乙烯塑料。根据上述的溅射阴极，其中，所述防护罩的材质为聚四氟乙烯或PEEK塑料。本实用新型的技术效果一是取消了阳极框，简化了结构，降低成本，减小加工、装配、维修和维护的难度。二是取消屏蔽罩接地，防止了屏蔽罩与阴极体放电，有效解决防护罩与阴极导通时的短路，造成靶材不能溅射，停止生产的缺点，从而增长了大型矩形平面溅射阴极的使用周期，减少了其维护次数，节约成本。三是结构简单，便于装配和拆卸。
以下结合附图和具体实施方式
对本发明作进一步说明。
图1是本实用新型的结构剖面示意图；1-屏蔽罩，2-阴极组件，3-支承座下底板，4-支承座中板，5-支承座防护罩、6_支承座顶板，7-阴极盖板。
具体实施方式
本发明保护的是一种矩形平面磁控溅射阴极，只要是本领域技术人员了解本发明实施例，不经过创造性的劳动，仅是同等技术的替换，都属于本发明的保护范围。如图1所示，屏蔽罩1设置在阴极组件2的外围，支撑座底板3用螺栓与阴极组件 2外围的屏蔽罩1相连。支承座中板4通过T型槽专用螺栓分别与支承座下底板3和上顶板6连接，同时上顶板6与阴极盖板7采用螺栓连接。支承座中板4的材质采用聚甲醛或聚四氟乙烯，从而使得支撑座下底板3和支撑座上顶板6相互绝缘，以此保证阴极组件2和阴极盖板7相互绝缘。为防止中板4表面在长期的溅射环境中被镀上导电膜，导致绝缘失效，所以在支撑座中板4外围设置有支承座防护罩5，所述支承座防护罩5下端通过螺栓固定在支撑座底板上，支承座防护罩5的材质宜采用聚四氟乙烯或PEEK，支承座防护罩5与支承座中板4、支承座底板3组成半封闭的空腔，这种结构大大提高了绝缘的可靠性，使支承座防护罩5成为免维护部件，并且对支撑座中板4提供有效保护。
权利要求1.一种矩形平面磁控溅射阴极，包括阴极组件、设置阴极组件上端的支承座、支撑座上端的阴极盖板，其特征在于，所述支承座分为支撑座底板，支撑座中板，支撑座顶板，所述支撑座中板为绝缘体。
2.根据权利要求1所述的溅射阴极，其特征在于，在支撑座中板两侧还设置有支撑座防护罩。
3.根据权利要求1所述的溅射阴极，其特征在于，在阴极组件的外围还设有屏蔽罩，所述屏蔽罩通过螺栓与支撑座底板相连。
4.根据权利要求1所述的溅射阴极，其特征在于，所述支撑座顶板与阴极盖板通过螺栓相连。
5.根据权利要求1所述的溅射阴极，其特征在于，所述支撑座中板通过螺栓与支撑座底板、支撑座顶板相连。
6.根据权利要求5所述的溅射阴极，其特征在于，所述螺栓为T型槽专用螺栓。
7.根据权利要求1所述的溅射阴极，其特征在于，所述支撑座中板的材质为聚甲醛或聚四氟乙烯塑料。
8.根据权利要求1所述的溅射阴极，其特征在于，所述防护罩的材质为聚四氟乙烯或 PEEK塑料。
专利摘要本实用新型涉及到一种溅射真空镀膜装置，尤其涉及到一种平面溅射镀膜阴极装置。其采用的技术方案是提供一种矩形平面磁控溅射阴极，包括阴极组件、设置阴极组件上端的支承座、支撑座上端的阴极盖板，其中，所述支承座分为支撑座底板，支撑座中板，支撑座顶板，所述支撑座中板为绝缘体。结构简单，便于装配和拆卸，同时还减少了维修和维护的成本。
文档编号C23C14/35GK201981253SQ20112002357
公开日2011年9月21日 申请日期2011年1月25日 优先权日2011年1月25日
发明者苏宜龙, 赵子东 申请人:上海子创镀膜技术有限公司