专利名称：沉积源及包括这种沉积源的沉积设备的制作方法
技术领域：
本发明实施例的多个方面涉及一种沉积源和包括这种沉积源的沉积设备。
背景技术：
为形成用于电子装置中的精细薄膜，采用了多种方法。尤其是，平板显示装置通过形成多个薄膜制造而成，因此改善薄膜的特性尤为重要。在平板显示装置当中，有机发光显示装置由于相比于其它平板显示装置具有诸如大视角、高对比度以及快响应速度的优点，而被视为下一代显示装置。在有机发光显示装置中，发射可见光的有机发光层和接近有机发光层的有机层通过利用各种方法形成。尤其是，真空沉积方法由于其简单的工艺而经常被使用。在真空沉积方法中，将粉状或固态的沉积材料填充到熔炉中，并通过对熔炉进行加热而在期望的区域上形成沉积膜。
发明内容
根据本发明实施例的多个方面，沉积源能够提高宿主材料和掺杂剂材料的真空沉积区域的均匀性以及宿主材料和掺杂剂材料的真空沉积率，并且沉积设备包括这种沉积源。根据本发明实施例，一种沉积源包括掺杂剂蒸发源；第一宿主蒸发源，包括位于所述掺杂剂蒸发源的一侧的第一蒸发源单元和位于所述掺杂剂蒸发源的另一侧的第二蒸发源单元；以及第二宿主蒸发源，包括位于所述掺杂剂蒸发源的所述一侧且与所述第一蒸发源单元平行布置的第三蒸发源单元，和位于所述掺杂剂蒸发源的所述另一侧且与所述第二蒸发源单元平行布置的第四蒸发源单元。所述掺杂剂蒸发源可包括线性蒸发源。所述线性蒸发源的多个喷嘴被布置的方向与所述第一蒸发源单元和所述第二蒸发源单元被布置的方向可彼此交叉。所述线性蒸发源的所述多个喷嘴被布置的方向与所述第一蒸发源单元和所述第二蒸发源单元被布置的方向可彼此垂直。所述掺杂剂蒸发源可包括点状源。所述掺杂剂蒸发源可包括位于所述第一蒸发源单元和所述第二蒸发源单元之间的第一点状源；以及位于所述第三蒸发源单元和所述第四蒸发源单元之间的第二点状源。所述第一蒸发源单元和所述第二蒸发源单元可关于所述掺杂剂蒸发源彼此对称。所述第三蒸发源单元和所述第四蒸发源单元可关于所述掺杂剂蒸发源彼此对称。
所述第一蒸发源单元和所述第二蒸发源单元可包括线性蒸发源。所述第一蒸发源单元和所述第二蒸发源单元中的每一个均可包括沿与所述第一蒸发源单元和所述第二蒸发源单元被布置的方向相同的方向而布置的多个喷嘴。所述第三蒸发源单元和所述第四蒸发源单元中的每一个均可包括沿与所述第三蒸发源单元和所述第四蒸发源单元被布置的方向相同的方向而布置的多个喷嘴。所述第一蒸发源单元和所述第二蒸发源单元被布置的方向与所述第三蒸发源单元和所述第四蒸发源单元被布置的方向可彼此平行。所述第一蒸发源单元和所述第二蒸发源单元可具有相同的尺寸和形状。 所述第三蒸发源单元和所述第四蒸发源单元可具有相同的尺寸和形状。所述第一宿主蒸发源可进一步包括环绕所述第一蒸发源单元的第一坩埚和所述 第二蒸发源单元的第二坩埚的第一加热单元，所述第一加热单元被配置为对所述第一坩埚和所述第二坩埚进行加热。所述第二宿主蒸发源可进一步包括环绕所述第三蒸发源单元的第三坩埚和所述第四蒸发源单元的第四坩埚的第二加热单元，所述第二加热单元被配置为对所述第三坩埚和所述第四坩埚进行加热。所述第一宿主蒸发源可进一步包括环绕所述第一蒸发源单元的第一坩埚且被配置为对所述第一坩埚进行加热的第一加热单元，和环绕所述第二蒸发源单元的第二坩埚且被配置为对所述第二坩埚进行加热的第二加热单元。所述第二宿主蒸发源可进一步包括环绕所述第三蒸发源单元的第三坩埚且被配置为对所述第三坩埚进行加热的第三加热单元，和环绕所述第四蒸发源单元的第四坩埚且被配置为对所述第四坩埚进行加热的第四加热单元。根据本发明另一个实施例，一种沉积设备包括室和用于将沉积材料沉积到被传送至所述室内的沉积目标材料上的沉积源，且所述沉积源包括掺杂剂蒸发源；第一宿主蒸发源，包括位于所述掺杂剂蒸发源的一侧的第一蒸发源单元和位于所述掺杂剂蒸发源的另一侧的第二蒸发源单元；以及第二宿主蒸发源，包括位于所述掺杂剂蒸发源的所述一侧且与所述第一蒸发源单元平行布置的第三蒸发源单元，和位于所述掺杂剂蒸发源的所述另一侧且与所述第二蒸发源单元平行布置的第四蒸发源单元。所述掺杂剂蒸发源可包括线性蒸发源。所述掺杂剂蒸发源可包括位于所述第一蒸发源单元和所述第二蒸发源单元之间的第一点状源；以及位于所述第三蒸发源单元和所述第四蒸发源单元之间的第二点状源。所述第一蒸发源单元和所述第二蒸发源单元可关于所述掺杂剂蒸发源彼此对称，并且所述第三蒸发源单元和所述第四蒸发源单元可关于所述掺杂剂蒸发源彼此对称。所述第一蒸发源单元和所述第二蒸发源单元可包括线性蒸发源。
通过参照附图进一步详细地描述本发明的某些示例性实施例，本发明的上述和其它特征和方面将变得更加明显，在附图中图I是根据本发明实施例的包括沉积源的沉积设备的示意性主视图；图2是图I中的沉积设备的示意性侧视图3是根据本发明实施例的图I中的沉积源的平面图；图4是根据本发明另一个实施例的沉积源的平面图；图5是根据本发明另一个实施例的沉积源的平面图；以及图6是根据本发明另一个实施例的沉积源的平面图。
具体实施例方式在下文中将参照附图更充分地描述本发明的某些示例性实施例；然而，本发明的实施例可以采用不同的形式来具体实现，而不应当被解释为限于这里所阐述和列举的示例性实施例。更确切地说，以示例方式提供这些示例性实施例是为了理解本发明，并且向本领域技术人员传达本发明的范围。本领域技术人员应当认识到，可以以均不背离本发明的精 神或范围的各种方式修改所描述的实施例。图I是根据本发明实施例的包括沉积源100的沉积设备1000的示意性主视图。图2是图I所示的沉积设备1000的示意侧视图。例如，图2可为沉积设备1000的左侧视图或右侧视图。参照图I和图2，根据本发明实施例，沉积设备1000包括基板20和位于室10中的沉积源100。为了维持真空或低压状态，一个或多个泵(未示出)可被连接至室10。而且，一个或多个进口和/或出口(未示出)可形成于室10的侧面上，使得基板20可被移入室10中或从室10中移出。基板20是即将在其上沉积期望材料的目标，且可被夹具或支撑物固定。在将基板20固定之后，可执行沉积工艺。沉积源100被布置为面向室10中的基板20。沉积源100可沿基板20的长度方向线性延伸。虽然如图I所示，沉积源100沿一个方向线性延伸，但如图2所示，沉积源100的沿另一个方向的宽度小于基板20的长度。由于沉积源100沿一个方向线性延伸，因此沉积源100可移动，以使材料沉积在基板20的整个表面上。在一个实施例中，如图2所示，沿一个方向或多个方向移动的移动单元30被置于沉积源100之下。由于移动单元30，沉积源100可直线移动，且均匀地或基本均匀地将材料沉积在基板20上。图3是根据本发明实施例的图I中的沉积源100的平面图。沉积源100包括第一宿主蒸发源110、第二宿主蒸发源130以及掺杂剂蒸发源150。第一宿主蒸发源110蒸发第一宿主材料。第二宿主蒸发源130蒸发第二宿主材料。掺杂剂蒸发源150蒸发掺杂剂材料。第一宿主蒸发源110可包括第一蒸发源单元IlOa和第二蒸发源单元110b。第一蒸发源单元IlOa可包括坩埚111和第一加热单元113。第二蒸发源单元IlOb可包括坩埚121和第一加热单元113。坩埚111和121填充有用于沉积的沉积材料。在一个实施例中，用于形成包括在有机发光二极管(OLED)中的有机材料的第一宿主材料可以以固态或粉状填充到坩埚111和121中。不过，本发明不限于此，而是可以将多种状态的多种沉积材料填充到坩埚111和121中。
坩埚111和121可沿一个方向(例如沿X轴方向)线性延伸。坩埚111和121的长度方向可对应于图I中所示的将在其上沉积沉积材料的基板20的长度方向。多个喷嘴112和122形成在坩埚111和121的顶面，即面向基板20的表面中。当填充到坩埚111和121中的第一宿主材料被加热时，第一宿主材料通过喷嘴112和122移动到基板20。喷嘴112和122的形状、尺寸和数量可基于基板20的尺寸、沉积材料的属性以及沉积工艺的条件而改变。第一加热单元113可绕(例如环绕)坩埚111和121被布置。第一加热单元113可包括例如正弦波或锯齿形图案的线圈，且线圈可被连接至一个或多个外部电源(未示出)。第一加热单元113通过向坩埚111和121提供热能而使填充到坩埚111和121中的第一宿主材料蒸发。第一加热单元113可被置于坩埚111和121的外周上，以环绕坩埚111和121。在一个实施例中，第一加热单元113被连接至外部电源。在一个实施例中，两个坩埚111和121由单个第一加热单元113加热，由此可将热能均匀地或基本均匀地供给 坩埚111和121。第二宿主蒸发源130可包括第三蒸发源单元130a和第四蒸发源单元130b。第三蒸发源单元130a可包括坩埚131和第二加热单元115。第四蒸发源单元130b可包括坩埚141和第二加热单元115。坩埚131和141填充有用于沉积的沉积材料。在一个实施例中，用于形成包括在OLED中的有机材料的第二宿主材料可以以固态或粉状被填充到坩埚131和141中。不过，本发明不限于此，而是可以将多种状态的多种沉积材料填充到坩埚131和141中。对第一宿主材料和第二宿主材料以及掺杂剂材料执行真空沉积。坩埚131和141可像坩埚111和121那样沿一个方向(例如沿X轴方向)线性延伸。在一个实施例中，坩埚131和141以及坩埚111和121可沿一个方向(例如沿X轴方向)线性延伸，且可以彼此平行布置。坩埚131和141的长度方向可对应于图I中所示的将在其上沉积沉积材料的基板20的长度方向。多个喷嘴132和142形成在坩埚131和141的顶面，即面向基板20的表面中。当填充到坩埚131和141中的第二宿主材料被加热时，第二宿主材料通过喷嘴132和142移动到基板20。喷嘴132和142的形状、尺寸和数量可基于基板20的尺寸、沉积材料的属性以及沉积工艺的条件而改变。第二加热单元115可绕(例如环绕)坩埚131和141被布置。第二加热单元115可包括例如正弦波或锯齿形图案的线圈，且线圈可被连接至一个或多个外部电源(未示出)。第二加热单元115通过向坩埚131和141提供热能而使填充到坩埚131和141中的第二宿主材料蒸发。第二加热单元115可被置于坩埚131和141的外周上，以环绕坩埚131和141。在一个实施例中，第二加热单元115被连接至外部电源。在一个实施例中，两个坩埚131和141由单个第二加热单元115加热，由此可将热能均匀地或基本均匀地供给坩埚131和141。在一个实施例中，通过被连接至分立的电源，第一加热单元113和第二加热单元115可被单独控制。在一个实施例中，第一宿主蒸发源110和第二宿主蒸发源130沿一个方向(例如沿X轴方向)彼此平行布置。分别由第一宿主蒸发源Iio和第二宿主蒸发源130蒸发的第一宿主材料和第二宿主材料，在与第一宿主蒸发源110和第二宿主蒸发源130被布置或被放置的方向垂直的方向(例如沿Y轴方向)上被均匀地混合。掺杂剂蒸发源150可为线性蒸发源。作为线性蒸发源的掺杂剂蒸发源150可包括坩埚151和加热单元117。坩埚151填充有用于沉积的沉积材料。在一个实施例中，用于形成包括在OLED中的有机材料的掺杂剂材料可以以固态或粉状被填充到坩埚151中。不过，本发明不限于此，而是可以将多种状态的多种沉积材料填充到坩埚151中。坩埚151可沿与第一宿主蒸发源110被布置的方向成一角度的方向线性延伸，SP，沿与第一蒸发源单元IlOa和第二蒸发源单元IlOb被布置的方向(例如X轴方向)相交的方向线性延伸。根据一个实施例，坩埚151的长度方向(例如Y轴方向)可垂直于第一蒸发源单元IlOa和第二蒸发源单元IlOb中的至少一个被布置的方向(例如X轴方向)。在一个实施例中，多个喷嘴152形成在坩埚151的顶面，即面向基板20的表面中。喷嘴152被布置的方向可与坩埚151的长度方向(例如Y轴方向)相同。在一个实施例中，喷嘴152被布置的方向可垂直于第一蒸发源单元110a、第二蒸发源单元110b、第三蒸发源单元130a以及第四蒸发源单元130b的喷嘴112、122、132和142被布置的方向。
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掺杂剂蒸发源150被置于第一蒸发源单元I IOa和第二蒸发源单元IlOb之间以及第三蒸发源单元130a和第四蒸发源单元130b之间，且以使掺杂剂材料可在第一宿主蒸发源110和第二宿主蒸发源130被布置的方向(例如X轴方向)上、以及在与第一宿主蒸发源单元IlOa和第二宿主蒸发源单元IlOb被布置(或第三蒸发源单元130a和第四蒸发源单元140b被布置)的方向(例如Y轴方向)垂直的方向上与第一宿主材料和第二宿主材料混合的方式蒸发掺杂剂材料。例如，第一蒸发源单元IlOa和第二蒸发源单元IlOb可以关于掺杂剂蒸发源150彼此对称，并且/或者第三蒸发源单元130a和第四蒸发源单元130b可以关于掺杂剂蒸发源150彼此对称。当填充到坩埚151中的掺杂剂材料被加热时，掺杂剂材料通过喷嘴152移动到基板20。喷嘴152的形状、尺寸和数量可基于基板20的尺寸、沉积材料的属性以及沉积工艺的条件而改变。加热单元117可绕坩埚151被布置。第一加热单元117可包括例如正弦波或锯齿形图案的线圈，且线圈可被连接至一个或多个外部电源(未示出)。加热单元117通过向坩埚151提供热能而使填充到坩埚151中的掺杂剂材料蒸发。加热单元117可被置于坩埚151的外周上，以环绕坩埚151。加热单元117可被连接至外部电源。如上所述，在一个实施例中，分别蒸发第一宿主材料和第二宿主材料的第一宿主蒸发源Iio和第二宿主蒸发源130彼此平行布置，蒸发掺杂剂材料的掺杂剂蒸发源150被置于蒸发第一宿主材料的第一蒸发源单元IlOa和第二蒸发源单元IlOb之间以及蒸发第二宿主材料的第三蒸发源单元130a和第四蒸发源单元130b之间，从而增大了第一宿主材料、第二宿主材料以及掺杂剂材料的真空沉积区域，且实现了它们的均匀或基本均匀的真空沉积速率。如上所述，第一宿主材料、第二宿主材料以及掺杂剂材料的真空沉积区域和速率是均匀或基本均匀的，从而使有机发光器件的室温寿命得以延长。图4是根据本发明另一个实施例的沉积源200的平面图。为了说明起见，下面描述图4所示的沉积源200和以上所述并在图3中示出的沉积源100之间的区别。参照图4，沉积源200包括第一宿主蒸发源210、第二宿主蒸发源230以及掺杂剂蒸发源250。在一个实施例中，第一宿主蒸发源210包括第一蒸发源单元210a、第二蒸发源单元210b以及第一加热单元213。第一蒸发源单元210a和第二蒸发源单元210b可分别包括其中包含有第一宿主材料的坩埚211和221以及第一加热单元213。坩埚211和221可沿一个方向(例如X轴方向)线性延伸。多个喷嘴212和222形成在坩埚211和221的顶面，即面向基板20的表面中。喷嘴212和222可沿坩埚211和221的长度方向(例如X轴方向)被布置。第一加热单元213可被置于坩埚211和221的外周上。在一个实施例中，两个坩埚211和221由单个第一加热单元213加热，由此可将热能均匀地或基本均匀地供给坩埚211 和 221。在一个实施例中，第二宿主蒸发源230包括第三蒸发源单元230a、第四蒸发源单元230b以及第二加热单元215。 第三蒸发源单元230a和第四蒸发源单元230b可分别包括其中包含有第二宿主材料的坩埚231和241以及第二加热单元215。坩埚231和241可沿一个方向(例如X轴方向)线性延伸。多个喷嘴232和242形成在坩埚231和241的顶面，即面向基板20的表面中。喷嘴232和242可沿坩埚231和241的长度方向(例如X轴方向)被布置。第二加热单元215可被置于坩埚231和241的外周上。在一个实施例中，两个坩埚231和241由单个第二加热单元215加热，由此可将热能均匀地或基本均匀地供给坩埚231 和 241。图4的沉积源200与图3所示的沉积源100的不同之处在于掺杂剂蒸发源250。更为具体地，图3中的沉积源100的掺杂剂蒸发源150是线性蒸发源，而图4中的沉积源200的掺杂剂蒸发源250是点状源。掺杂剂蒸发源250可包括第一点状源250a和第二点状源250b。第一点状源250a可被置于第一蒸发源单元210a和第二蒸发源单元210b之间。第二点状源250b可被置于第三蒸发源单元230a和第四蒸发源单元230b之间。第一蒸发源单元210a和第二蒸发源单元210b可以关于掺杂剂蒸发源250彼此对称，并且/或者第三蒸发源单元230a和第四蒸发源单元230b可以关于掺杂剂蒸发源250彼此对称。第一点状源250a和第二点状源250b可分别包括其中包含有相同的掺杂剂材料的坩埚261和271。喷嘴262和272形成在坩埚261和271各自的顶面，即面向基板20的表面中。第一加热单元217可被置于第一点状源250a的坩埚261的外周上。第二加热单元218可被置于第二点状源250b的坩埚271的外周上。第一加热单元217向第一点状源250a的坩埚261供应热能。第二加热单元218向第二点状源250b的坩埚271供应热能。图5是根据本发明另一个实施例的沉积源300的平面图。为了说明起见，下面描述图5中的沉积源300和以上所述并在图3中示出的沉积源100之间的区别。参照图5，沉积源300包括第一宿主蒸发源310、第二宿主蒸发源330以及掺杂剂蒸发源350。图5中的沉积源300与图3中的沉积源100的不同之处在于第一宿主蒸发源310和第二宿主蒸发源330。更为具体地，图3中的沉积源100的第一宿主蒸发源110通过利用第一加热单元113来供应第一蒸发源单元IlOa的坩埚111和第二蒸发源单元IlOb的坩埚121中的热能，并且图3中的沉积源100的第二宿主蒸发源130通过利用第二加热单元115来供应第三蒸发源单元130a的坩埚131和第四蒸发源单元130b的坩埚141中的热能，而图5中的沉积源300的第一宿主蒸发源310的第一蒸发源单元310a和第二蒸发源单元310b分别包括分立的加热单元313和314，并且图5中的沉积源300的第二宿主蒸发源330的第三蒸发源单元330a和第四蒸发源单元330b包括分立的加热单元315和316。在一个实施例中，第一加热单元313被置于第一蒸发源单元310a的坩埚311的外周上，且向坩埚311供应热能，并且与第一加热单元313分立的第二加热单元314被置于第二蒸发源单元310b的坩埚321的外周上，且向坩埚321供应热能。进一步地，第三加热单元315被置于第三蒸发源单元330a的坩埚331的外周上，且向坩埚331供应热能，并且与第三加热单元315分立的第四加热单元316被置于第四蒸发源单元330b的坩埚341的外周上，且向坩埚341供应热能。第一至第四加热单元313、314、315和316可被连接至分立的电源。
如上所述，分立的第一至第四加热单元313、314、315和316分别向第一至第四蒸发源单元310a、310b、330a和330b供应热能，从而单独控制第一至第四蒸发源单元310a、310b、330a 和 330b 的温度。第一宿主蒸发源310的坩埚311和321可沿一个方向(例如沿X轴方向)线性延伸。多个喷嘴312和322分别形成在坩埚311和321的顶面，即面向基板20的表面中。喷嘴312和322可沿坩埚311和321的长度方向(例如X轴方向)被布置。在坩埚311和321中包含有第一宿主材料。第二宿主蒸发源330的坩埚331和341可沿一个方向(例如沿X轴方向)线性延伸。多个喷嘴332和342分别形成在坩埚331和341的顶面，即面向基板20的表面中。喷嘴332和342可沿坩埚331和341的长度方向(例如X轴方向)被布置。在一个实施例中，第一蒸发源单元310a和第二蒸发源单元310b被布置的方向平行于第三蒸发源单元330a和第四蒸发源单元330b被布置的方向。图5中的沉积源300的掺杂剂蒸发源350可与图3中的沉积源100的掺杂剂蒸发源150相同。在一个实施例中，掺杂剂蒸发源350为线性沉积源，且被置于第一蒸发源单元310a和第二蒸发源单元310b之间以及第三蒸发源单元330a和第四蒸发源单元330b之间。第一蒸发源单元310a和第二蒸发源单元310b可以关于掺杂剂蒸发源350彼此对称，并且/或者第三蒸发源单元330a和第四蒸发源单元330b可以关于掺杂剂蒸发源350彼此对称。在一个实施例中，多个喷嘴352形成在掺杂剂蒸发源350的坩埚351的顶面中。喷嘴352被布置的方向可与坩埚351的长度方向(例如Y轴方向)相同。在一个实施例中，喷嘴352被布置的方向可垂直于第一宿主蒸发源310和第二宿主蒸发源330的喷嘴312、322、332和342被布置的方向。加热单元318可绕坩埚351被布置。加热单元318通过向坩埚351提供热能而使填充到坩埚351中的掺杂剂材料蒸发。加热单元318可被置于坩埚351的外周上以环绕坩埚351，且可被连接至外部电源。图6是根据本发明另一个实施例的沉积源400的平面图。为了说明起见，下面描述图6所示的沉积源400和以上所述并在图4中示出的沉积源200之间的区别。参照图6，沉积源400包括第一宿主蒸发源410、第二宿主蒸发源430以及掺杂剂蒸发源450。
图6中的沉积源400与图4中的沉积源200的不同之处在于第一宿主蒸发源410和第二宿主蒸发源430。更为具体地，图4中的沉积源200的第一宿主蒸发源210通过利用第一加热单元213来供应第一蒸发源单元210a的坩埚211和第二蒸发源单元210b的坩埚221中的热能，并且图4中的沉积源200的第二宿主蒸发源230通过利用第二加热单元215来供应第三蒸发源单元230a的坩埚231和第四蒸发源单元230b的坩埚241中的热能，而图6中的沉积源400的第一宿主蒸发源410的第一蒸发源单元410a和第二蒸发源单元410b分别包括分立的加热单元413和414，并且图6中的沉积源400的第二宿主蒸发源430的第三蒸发源单元430a和第四蒸发源单元430b包括分立的加热单元415和416。
在一个实施例中，第一加热单元413被置于第一蒸发源单元410a的坩埚411的外周上，且向坩埚411供应热能，并且与第一加热单元413分立的第二加热单元414被置于第二蒸发源单元410b的坩埚421的外周上，且向坩埚421供应热能。进一步地，第三加热单元415被置于第三蒸发源单元430a的坩埚431的外周上，且向坩埚431供应热能，并且与第三加热单元415分立的第四加热单元416被置于第四蒸发源单元430b的坩埚441的外周上，且向坩埚441供应热能。第一至第四加热单元413、414、415和416可被连接至分立的电源。如上所述，分立的第一至第四加热单元413、414、415和416分别向第一至第四蒸发源单元410a、410b、430a和430b供应热能，从而单独控制第一至第四蒸发源单元410a、410b,430a 和 430b 的温度。第一宿主蒸发源410的坩埚411和421可沿一个方向(例如沿X轴方向)线性延伸。多个喷嘴412和422分别形成在坩埚411和421的顶面，即面向基板20的表面中。喷嘴412和422可沿坩埚411和421的长度方向(例如X轴方向)被布置。在坩埚411和421中包含有第一宿主材料。第二宿主蒸发源430的坩埚431和441可沿一个方向(例如沿X轴方向)线性延伸。多个喷嘴432和442分别形成在坩埚431和441的顶面，即面向基板20的表面中。喷嘴432和442可沿坩埚431和441的长度方向(例如X轴方向)被布置。在一个实施例中，第一蒸发源单元410a和第二蒸发源单元410b被布置的方向平行于第三蒸发源单元430a和第四蒸发源单元430b被布置的方向。图6中的沉积源400的掺杂剂蒸发源450可与图4中的沉积源200的掺杂剂蒸发源250相同。即，掺杂剂蒸发源450可为点状源。掺杂剂蒸发源450可包括第一点状源450a和第二点状源450b。第一点状源450a可被置于第一蒸发源单元410a和第二蒸发源单元410b之间。第二点状源450b可被置于第三蒸发源单元430a和第四蒸发源单元430b之间。第一蒸发源单元410a和第二蒸发源单元410b可以关于掺杂剂蒸发源450彼此对称，并且/或者第三蒸发源单元430a和第四蒸发源单元430b可以关于掺杂剂蒸发源450彼此对称。第一点状源450a和第二点状源450b可分别包括其中包含有相同的掺杂剂材料的坩埚461和471。喷嘴462和472形成在坩埚461和471各自的顶面，即面向基板20的表面中。第一加热单元417可被置于第一点状源450a的坩埚461的外周上。第二加热单元418可被置于第二点状源450b的坩埚471的外周上。第一加热单元417向第一点状源450a的坩埚461供应热能。第二加热单元418向第二点状源450b的坩埚471供应热能。如上所述，根据本发明实施例,对宿主材料和掺杂剂材料均匀或基本均匀地执行真空沉积，从而延长了有机发光器件的室温寿命，并改善了其发射效率。尽管参照本发明的某些示例性实施例具体示出并描述了本发明，但是本领域普通 技术人员会理解，可以在不超出所附权利要求所限定的本发明的精神和范围的情况下，进行形式上和细节上的各种改变。
权利要求
1.一种沉积源,包括 掺杂剂蒸发源； 第一宿主蒸发源，包括位于所述掺杂剂蒸发源的一侧的第一蒸发源单元和位于所述掺杂剂蒸发源的另一侧的第二蒸发源单元；以及 第二宿主蒸发源，包括位于所述掺杂剂蒸发源的所述一侧且与所述第一蒸发源单元平行布置的第三蒸发源单元，和位于所述掺杂剂蒸发源的所述另一侧且与所述第二蒸发源单元平行布置的第四蒸发源单元。
2.根据权利要求I所述的沉积源，其中所述掺杂剂蒸发源包括线性蒸发源。
3.根据权利要求2所述的沉积源，其中所述线性蒸发源的多个喷嘴被布置的方向与所述第一蒸发源单元和所述第二蒸发源单元被布置的方向彼此交叉。
4.根据权利要求3所述的沉积源，其中所述线性蒸发源的所述多个喷嘴被布置的方向与所述第一蒸发源单元和所述第二蒸发源单元被布置的方向彼此垂直。
5.根据权利要求I所述的沉积源，其中所述掺杂剂蒸发源包括点状源。
6.根据权利要求I所述的沉积源，其中所述掺杂剂蒸发源包括 位于所述第一蒸发源单元和所述第二蒸发源单元之间的第一点状源；以及 位于所述第三蒸发源单元和所述第四蒸发源单元之间的第二点状源。
7.根据权利要求I所述的沉积源，其中所述第一蒸发源单元和所述第二蒸发源单元关于所述掺杂剂蒸发源彼此对称。
8.根据权利要求I所述的沉积源，其中所述第三蒸发源单元和所述第四蒸发源单元关于所述掺杂剂蒸发源彼此对称。
9.根据权利要求I所述的沉积源，其中所述第一蒸发源单元和所述第二蒸发源单元包括线性蒸发源。
10.根据权利要求9所述的沉积源，其中所述第一蒸发源单元和所述第二蒸发源单元中的每一个均包括沿与所述第一蒸发源单元和所述第二蒸发源单元被布置的方向相同的方向而布置的多个喷嘴。
11.根据权利要求I所述的沉积源，其中所述第三蒸发源单元和所述第四蒸发源单元中的每一个均包括沿与所述第三蒸发源单元和所述第四蒸发源单元被布置的方向相同的方向而布置的多个喷嘴。
12.根据权利要求I所述的沉积源，其中所述第一蒸发源单元和所述第二蒸发源单元被布置的方向与所述第三蒸发源单元和所述第四蒸发源单元被布置的方向彼此平行。
13.根据权利要求I所述的沉积源，其中所述第一蒸发源单元和所述第二蒸发源单元具有相同的尺寸和形状。
14.根据权利要求I所述的沉积源，其中所述第三蒸发源单元和所述第四蒸发源单元具有相同的尺寸和形状。
15.根据权利要求I所述的沉积源，其中所述第一宿主蒸发源进一步包括环绕所述第一蒸发源单元的第一坩埚和所述第二蒸发源单元的第二坩埚的第一加热单元，所述第一加热单元被配置为对所述第一坩埚和所述第二坩埚进行加热。
16.根据权利要求15所述的沉积源，其中所述第二宿主蒸发源进一步包括环绕所述第三蒸发源单元的第三坩埚和所述第四蒸发源单元的第四坩埚的第二加热单元，所述第二加热单元被配置为对所述第三坩埚和所述第四坩埚进行加热。
17.根据权利要求I所述的沉积源，其中所述第一宿主蒸发源进一步包括环绕所述第一蒸发源单元的第一坩埚且被配置为对所述第一坩埚进行加热的第一加热单元，和环绕所述第二蒸发源单元的第二坩埚且被配置为对所述第二坩埚进行加热的第二加热单元。
18.根据权利要求17所述的沉积源，其中所述第二宿主蒸发源进一步包括环绕所述第三蒸发源单元的第三坩埚且被配置为对所述第三坩埚进行加热的第三加热单元，和环绕所述第四蒸发源单元的第四坩埚且被配置为对所述第四坩埚进行加热的第四加热单元。
19.一种沉积设备，包括室和用于将沉积材料沉积到被传送至所述室内的沉积目标材料上的沉积源，其中所述沉积源包括 掺杂剂蒸发源； 第一宿主蒸发源，包括位于所述掺杂剂蒸发源的一侧的第一蒸发源单元和位于所述掺杂剂蒸发源的另一侧的第二蒸发源单元；以及 第二宿主蒸发源，包括位于所述掺杂剂蒸发源的所述一侧且与所述第一蒸发源单元平行布置的第三蒸发源单元，和位于所述掺杂剂蒸发源的所述另一侧且与所述第二蒸发源单元平行布置的第四蒸发源单元。
20.根据权利要求19所述的沉积设备，其中所述掺杂剂蒸发源包括线性蒸发源。
21.根据权利要求19所述的沉积设备，其中所述掺杂剂蒸发源包括 位于所述第一蒸发源单元和所述第二蒸发源单元之间的第一点状源；以及 位于所述第三蒸发源单元和所述第四蒸发源单元之间的第二点状源。
22.根据权利要求19所述的沉积设备，其中所述第一蒸发源单元和所述第二蒸发源单元关于所述掺杂剂蒸发源彼此对称，并且所述第三蒸发源单元和所述第四蒸发源单元关于所述掺杂剂蒸发源彼此对称。
23.根据权利要求19所述的沉积设备，其中所述第一蒸发源单元和所述第二蒸发源单元包括线性蒸发源。
全文摘要
本发明提供一种沉积源及包括这种沉积源的沉积设备。所述沉积源包括掺杂剂蒸发源；第一宿主蒸发源，包括位于所述掺杂剂蒸发源的一侧的第一蒸发源单元和位于所述掺杂剂蒸发源的另一侧的第二蒸发源单元；以及第二宿主蒸发源，包括位于所述掺杂剂蒸发源的所述一侧且与所述第一蒸发源单元平行布置的第三蒸发源单元，和位于所述掺杂剂蒸发源的所述另一侧且与所述第二蒸发源单元平行布置的第四蒸发源单元。
文档编号C23C14/24GK102888589SQ20121010939
公开日2013年1月23日 申请日期2012年4月13日 优先权日2011年7月19日
发明者李钟禹, 曹永秀 申请人:三星显示有限公司