专利名称：抛光研磨盘和抛光装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种抛光研磨盘和抛光装置。
背景技术：
抛光机是一种 电动工具，抛光机由底座、抛盘、抛光织物、抛光罩及盖等基本兀件组成。电动机固定在底座上，固定抛光盘用的锥套通过螺钉与电动机轴相连。抛光织物通过套圈紧固在抛光盘上，电动机通过底座上的开关接通电源起动后，便可用手对试样施加压力在转动的抛光盘上进行抛光。抛光过程中加入的抛光液可通过固定在底座上的塑料盘中的排水管流入置于抛光机旁的方盘内。抛光罩及盖可防止灰土及其他杂物在机器不使用时落在抛光织物上而影响使用效果。针对不同的应用，需要开发不同类型的抛光装置。例如，在某些金属抛光领域中，需要不断地在抛光装置的抛光表面和被抛光物体之间注入抛光浆料。因此，需要针对这种特殊的应用开发特别的抛光装置。
发明内容
本发明的发明人结合多年的研发经验，开发出了一种抛光研磨盘和抛光装置。根据本发明的一个方面，提供了一种抛光研磨盘，包括抛光表面；与所述抛光表面垂直的侧面；位于所述抛光研磨盘中心处的耦合口，被设置成与一单独的驱动转轴相耦合；沿所述抛光表面的外圈从所述抛光表面突出的凸环；以及设置于所述凸环外表面上的抛光层。 较佳地，根据本发明的优选实施例，在上述的抛光研磨盘中，所述抛光层由多个抛光层块构成，所述抛光层块中的每一个从所述凸环的外圈边沿延伸到所述凸环的内圈边沿，且相邻的两个抛光层块之间彼此相距一预定间隔。较佳地，根据本发明的优选实施例，在上述的抛光研磨盘中，所述耦合口贯穿所述抛光研磨盘，且所述耦合口的截面形状呈倒圆十字形。较佳地，根据本发明的优选实施例，在上述的抛光研磨盘中，所述倒圆十字形的中心部分呈圆形。较佳地，根据本发明的优选实施例，在上述的抛光研磨盘中，所述抛光层由选自包括卩6、&1、(0、附、0、11、1、1(、511、(11511、48和P的铁基金属和非铁基金属组中的一种金属或至少两种金属以及选自金刚石颗粒、碳化物、硼酸、氮化物和硬金属及陶瓷件的组的材料混合而成。根据本发明的另一方面，提供了一种抛光装置，包括上述的抛光研磨盘，绕驱动转轴旋转；加热装置，适于加热所述抛光研磨盘的抛光表面；以及
喷射装置，向所述抛光研磨盘的外圆周喷射抛光颗粒和抛光液，其中所述抛光颗粒和所述抛光液在接触到所述抛光研磨盘的外圆周之前形成抛光浆液。根据本发明，可使用加热装置来加热抛光研磨盘的抛光层，以便抛光浆液在与抛光表面接触后辅助研磨时达到更佳的工作温度。特别是，加热到合适温度的抛光浆液可以减少其中液泡，从而提高研磨的稳定性。此外，在抛光研磨盘的凸环上设置具有间隔的抛光层块可以帮助引导抛光浆液深入抛光表面的内部。
应当理解，本发明以上的一般性描述和以下的详细描述都是示例性和说明性的，并且旨在为如权利要求所述的本发明提供进一步的解释。
附图主要是用于提供对本发明进一步的理解。附图示出了本发明的实施例，并与本说明书一起起到解释本发明原理的作用。附图中图I示意性地示出了本发明的抛光研磨盘的基本结构。图2示意性地示出了本发明的抛光装置的结构。
具体实施例方式以下结合附图详细讨论本发明的多个实施例。图I示意性地示出了本发明的抛光研磨盘的基本结构。如图所示，本发明的抛光研磨盘100主要包括抛光表面101、与所述抛光表面101垂直的侧面102、位于所述抛光研磨盘100中心处的耦合口 103，其中该耦合口 103被设置成与一单独的驱动转轴(未图示)相耦合、沿所述抛光表面101的外圈从所述抛光表面101突出的凸环104 ;以及设置于所述凸环104外表面上的抛光层105。较佳地，在图I所示的优选实施例中，在上述的抛光研磨盘100中，所述抛光层105由多个抛光层块构成，所述抛光层块中的每一个从所述凸环104的外圈边沿延伸到所述凸环104的内圈边沿，且相邻的两个抛光层块之间彼此相距一预定间隔。此外,优选地,所述耦合口 103贯穿所述抛光研磨盘101，且所述耦合口 103的截面形状呈倒圆十字形。特别是，在图I所示的实施例中，所述倒圆十字形的中心部分呈圆形。另，在上述的抛光研磨盘100中，所述抛光层105可以由选自包括Fe、Cu、Co、Ni、Cr、Ti、W、WC、Sn、CuSn, Ag和P的铁基金属和非铁基金属组中的一种金属或至少两种金属以及选自金刚石颗粒、碳化物、硼酸、氮化物和硬金属及陶瓷件的组的材料混合而成。现在转到图2，图2示意性地示出了本发明的抛光装置200的结构。本发明的抛光装置200主要包括抛光研磨盘201、驱动转轴202、加热装置204、喷射装置205。抛光研磨盘201绕驱动转轴202旋转。所述抛光研磨盘201采用的是以上图I中所示的抛光研磨盘100。图2中所示的抛光研磨盘201是图I中所示的抛光研磨盘100的俯视图。此外，加热装置204适于加热所述抛光研磨盘201的抛光表面。在图2所示的优选实施例中，所述加热装置204为一辐射加热装置，且所述辐射加热装置的辐射方向对准所述抛光研磨盘201的抛光面。当然，作为一个可选实施例，本发明也可以使得所述加热装置204与所述抛光研磨盘201的抛光面导热连接，以传导的方式进行加热。喷射装置205向所述抛光研磨盘201的外圆周喷射抛光颗粒和抛光液，其中所述抛光颗粒和所述抛光液在接触到所述抛光研磨盘201的外圆周之前形成抛光浆液。较佳地，根据本发明的优选实施例，在上述的抛光装置200中，所述喷射装置205可以进一步包括喷嘴206、连通至所述喷嘴206的抛光颗粒腔体207以及连通至所述喷嘴206的抛光液腔体208。喷嘴206呈管状。所述喷嘴206的内壁上设置有多个凸起(未图示)，且所述喷嘴206在工作时沿其轴向旋转，使得来自所述抛光颗粒腔体207的颗粒和来自所述抛光液腔体208的抛光液在所述喷嘴206内在所述多个凸起的搅拌作用下形成抛光浆液。根据本发明，可使用加热装置来加热抛光研磨盘的抛光层，以便抛光浆液在与抛光表面接触后辅助研磨时达到更佳的工作温度。特别是，加热到合适温度的抛光浆液可以 减少其中液泡，从而提高研磨的稳定性。此外，在抛光研磨盘的凸环上设置具有间隔的抛光层块可以帮助引导抛光浆液深入抛光表面的内部。上述实施例是提供给本领域普通技术人员来实现或使用本发明的，本领域普通技术人员可在不脱离本发明的发明思想的情况下，对上述实施例做出种种修改或变化，因而本发明的保护范围并不被上述实施例所限，而应该是符合权利要求书提到的创新性特征的最大范围。
权利要求
1.一种抛光研磨盘，包括 抛光表面； 与所述抛光表面垂直的侧面； 位于所述抛光研磨盘中心处的耦合口，被设置成与一单独的驱动转轴相耦合； 沿所述抛光表面的外圈从所述抛光表面突出的凸环；以及 设置于所述凸环外表面上的抛光层。
2.如权利要求I所述的抛光研磨盘，其特征在于，所述抛光层由多个抛光层块构成，所述抛光层块中的每一个从所述凸环的外圈边沿延伸到所述凸环的内圈边沿，且相邻的两个抛光层块之间彼此相距一预定间隔。
3.如权利要求I所述的抛光研磨盘，其特征在于，所述耦合口贯穿所述抛光研磨盘，且所述耦合口的截面形状呈倒圆十字形。
4.如权利要求3所述的抛光研磨盘，其特征在于，所述倒圆十字形的中心部分呈圆形。
5.如权利要求I所述的抛光研磨盘，其特征在于，所述抛光层由选自包括Fe、Cu、Co、Ni、Cr、Ti、W、WC、Sn、CuSruAg和P的铁基金属和非铁基金属组中的一种金属或至少两种金属以及选自金刚石颗粒、碳化物、硼酸、氮化物和硬金属及陶瓷件的组的材料混合而成。
6.一种抛光装置，包括 如权利要求I所述的抛光研磨盘，绕驱动转轴旋转； 加热装置，适于加热所述抛光研磨盘的抛光表面；以及 喷射装置，向所述抛光研磨盘的外圆周喷射抛光颗粒和抛光液，其中所述抛光颗粒和所述抛光液在接触到所述抛光研磨盘的外圆周之前形成抛光浆液。
全文摘要
本发明提供了一种抛光研磨盘，包括抛光表面；与所述抛光表面垂直的侧面；位于所述抛光研磨盘中心处的耦合口，被设置成与一单独的驱动转轴相耦合；沿所述抛光表面的外圈从所述抛光表面突出的凸环；以及设置于所述凸环外表面上的抛光层。此外，本发明还提供了一种应用上述抛光研磨盘的抛光装置。
文档编号B24B29/00GK102873646SQ20121043073
公开日2013年1月16日 申请日期2012年11月1日 优先权日2012年11月1日
发明者李金昌 申请人:昆山市大金机械设备厂