专利名称：用于气相沉积的氟基表面处理剂和使用该表面处理剂通过气相沉积进行修饰得到的制品的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种表面处理剂，其包含使用含氟氧化烯基团的聚合物改性的硅烷。更特别的，本发明涉及一种可以形成优异疏水和疏油性并具有低动摩擦系数涂膜的表面处理剂，还涉及一种使用该表面处理剂修饰的制品。本发明的表面处理剂由特定比例的使用含氟氧化烯基团聚合物改性的硅烷和/或其部分水解缩合物，和具有更高重均分子量的含氟氧化烯基团的聚合物组成。
背景技术：
近来，已经出现移动手机的显示器被触摸屏代替的加速趋势。不利的是，因为触摸屏型显示器通常是裸露的并且要经受使用者手指和表皮的直接接触，所以具有容易被油脂等污染的缺点。因此，存在的日益增长的技术需求是保护显示器免于指纹污染和使得显示器易清洁，从而改善外观和可视性。通过任何常规的能够形成具有良好疏水和疏油的易清洁膜的常规的疏水和疏油产品可以满足该需求。然而，这种常规产品的缺点是从一批膜到另一批膜耐久性变化很大。此外，由于其中颗粒的团聚，难以形成光滑的膜。这就刺激了新型表面处理剂和始终如一地形成高性能涂膜的方法的开发。同时，由于任何含氟氧化烯基团的化合物具有极低的表面自由能，因此通常显示出疏水和疏油性、耐化学性、润滑性、可剥离性和耐沾污性。由于这些性能，发现一系列工业用途如用于纸张和纤维的疏水和疏油性耐污剂、用于磁记录介质的增滑剂、用于精密机器的油保护剂、脱膜剂、化妆品、和保护膜。另一方面，上述性质意味着不粘附基材，因此可以将前述化合物施加到基材表面，但得到的涂膜不能牢固粘附在基材表面。通过该方式，在将有机化合物粘附到基材如玻璃和布匹上的已知试剂中有硅烷偶联剂，其通常适用于在不同基材的表面上的涂层。任何硅烷偶联剂在一分子中具有有机官能团和反应性甲硅烷基基团(通常是烷氧基甲硅烷基基团)。烷氧基甲硅烷基基团经过由空气中的水引起的自缩聚反应，从而形成涂膜。该涂膜是耐久和强的，这是由于烷氧基甲硅烷基基团对玻璃或者金属表面的化学和物理粘接。专利文献KJP-A 2003-238577)中公开了如上所述的具有烷氧基甲硅烷基的偶联剂的一个实例。它是使用由下式表示的含线性全氟氧化烯基团聚合物改性的硅烷。将该硅烷用于玻璃和抗反射膜的表面处理。经处理的玻璃或膜具有优异的防滑性、可剥离性和耐磨性，但缺乏稳定的高使用性能。缺乏耐久性是由于分子末端存在非氟基团，在涂敷工艺
中或者涂敷工艺后非氟基团容易团聚。
权利要求
1.一种用于气相沉积的氟基表面处理剂，其包含(A)使用含氟氧化烯基团聚合物改性的含可水解基团的硅烷，和/或部分水解缩合物，和(B)重均分子量大于组分(A)的含氟氧化烯基团的聚合物，其中组分㈧和(B)以6: 4到9:1的重量比混合。
2.权利要求1的氟基表面处理剂，其中组分(A)的重均分子量与组分(B)的重均分子量之间的比为1: 1.5-1: 5。
3.权利要求1或2的氟基表面处理剂，其中改性组分㈧的硅烷的含氟氧化烯基团聚合物的残基具有3-151个通式(I)表示的重复单元: -CgF2gO- (I) 其中g是1-6的整数，其对于每个重复单元是独立的，和组分(B)的含氟氧化烯基团的聚合物具有5-755个式(I)的重复单元。
4.权利要求1的氟基表面处理剂，其中组分㈧的硅烷是由通式(2)表示的硅烷:
5.权利要求4的氟基表面处理剂，其中在式⑵中，当a是I时，Rf是选自下列通式(3)、⑷和(5)中的一种:
6.权利要求4的氟基表面处理剂，其中在式(2)中，当a是2时，Rf是选自以下通式(6)、(7)和(8)中的一种:
7.权利要求4的氟基表面处理剂，其中Q为未取代或者取代的具有2-12个碳原子的二价烃基，其可以包含至少一种选自酰胺键、醚键、酯键、乙烯键和二有机亚甲硅基团的结构。
8.权利要求7的氟基表面处理剂，其中Q是选自具有下式的二价基团的一种:
9.权利要求4的氟基表面处理剂，其中X为可水解的甲硅烷基，或线性、支化或者环状娃氧烧基或者甲娃烧基，其具有可水解甲娃烧基或可水解甲娃烧基亚烧基。
10.权利要求9的氟基表面处理剂，其中X是由下式中任意一种表示的具有结合烷氧基的甲硅烷基的基团:-Si(OR)3
11.权利要求1的氟基表面处理剂，其中组分(B)的含氟氧化烯基的聚合物是选自具有下式(9)-(12)的聚合物的一种:
12.权利要求1的氟基表面处理剂，其还包含氟改性的醚溶剂或者氟改性的芳族烃溶剂。
13.使用权利要求1的氟基表面处理剂进行气相沉积处理的制品。
14.使用权利要求1的氟基表面处理剂进行气相沉积处理的光学制品。
15.使用权利要求1的氟基表面处理剂进行气相沉积处理的触摸板。
16.使用权利要求1的氟基表面处理剂进行气相沉积处理的抗反射膜。
17.使用权利要求1的氟基表面处理剂进行气相沉积处理的SiO2-处理的玻璃。
18.使用权利要求1的氟基表面处理剂进行气相沉积处理的回火玻璃。
全文摘要
本发明公开了一种用于气相沉积的氟基表面处理剂，其包含(A)使用含氟氧化烯基团聚合物改性的含可水解基团的硅烷，和/或部分水解缩合物，和(B)重均分子量大于组分(A)的含氟氧化烯基团的聚合物，其中组分(A)和(B)以6∶4到9∶1的重量比混合。
文档编号C23C16/00GK103146305SQ20121059922
公开日2013年6月12日 申请日期2012年11月30日 优先权日2011年11月30日
发明者山根祐治, 小池则之 申请人:信越化学工业株式会社