专利名称：一种移动磁场平面溅射靶的制作方法
技术领域：
本发明涉及到一种磁场平面溅射靶，尤其涉及到一种可移动的磁控平面溅射靶，属于磁控溅射镀膜技术领域。
背景技术：
真空镀膜技术在微电子、航空航天、机械制造、食品包装等许多领域已广泛应用。磁控溅射镀膜具有低温、高速的特点，可长时间批量化生产。目前采用的磁控溅射靶多为固定靶体，靶材的刻蚀区也固定在一个窄小的区域，长时间刻蚀后形成“V”字型的刻蚀区，影响膜层的均匀性并且造成靶材的浪费。公布号CN102409301A的专利披露了一种磁控溅射靶结构，其采用的方案是，靶材可移动地设置于基座上，并与磁体相反，但其没有公开靶材移动的方法。中国专利申请号200310105218.5也披露了 一种移动磁体技术，使得磁体在溅射镀膜过程中能移动，从而使靶面的刻蚀区均匀分布，可有效提高靶材的利用率，但此类方法通常需设置其他辅助型装置对靶材和磁体的安装进行改造，方法复杂不易操作。
发明内容本实用新型的目的是解决现有技术中磁控溅射镀膜靶材不能移动或磁控溅射靶材的移动装置操作复杂的缺陷而开发的一种移动磁场平面溅射靶。为了实现上述的技术目的，本发明采用的技术方案是，提供一种移动磁场平面溅射靶，包括基座，安装在基座上的电机，与电机相连的主动轮、与主动轮相连的从动轮，与从动轮相连的螺杆，与螺杆相连的滚珠螺杆，与滚珠螺杆连接的磁钢安装板，磁钢安装板上设有磁钢，其中，所述电机带动主动轮旋转，主动轮带动从动轮旋转，从动轮带动螺杆旋转，螺杆带动滚珠螺杆，滚珠螺杆带动磁钢做直线往复运动。本发明的优选实施方案是，所述磁钢安装板通过连接座与滚珠螺杆相连。本发明的优选实施方案是，所述磁钢安装板上还设置有滑块，所述滑块套接在导轨上，所述导轨设置在基座，所述磁钢安装板可通过滑块实现在导轨上的滑动。本发明的优选实施方案是，所述磁钢安装板上设有行程控制开关，所述行程控制开关可控制电机的运转，从而可控制磁钢在导轨的位置。本发明的优选实施方案是，所述磁钢通过磁钢安装支座设置在磁钢安装板上。本发明的优选实施方案是，所述基座上设置外法兰，所述外法兰通过O型密封圈与真空腔体连接。本发明的优选实施方案是，所述外法兰的内侧端部设有绝缘密封件，所述绝缘密封件与外法兰的连接处还设有O型密封圈，所述绝缘密封件的内侧安装有内法兰，所述内法兰与绝缘密封件的连接处还设有O型密封圈。本发明的优选实施方案是，所述内法兰的底端固定有铜背板，所述铜背板内部含有冷却水路。[0014]本发明的优选实施方案是，所述基座上还设置有屏蔽罩安装法兰，所述屏蔽罩安装法兰上设置有屏蔽罩，所述磁钢设置在屏蔽罩与基座、内法兰形成的空腔内。本发明的优选实施方案是，所述屏蔽罩的下端设有靶材。本发明的优先实施方案是，所述屏蔽罩安装法兰上安装有屏蔽罩。本发明的一种优选实施方案是，所述电机为伺服电机，所述电机通过电机安装支架设置在基座上。本发明的技术效果是，通过设置行程控制开关，磁钢往复运动的速率可调节，满足了不同生产工艺的需要；由于设置了导轨，磁钢在做往复运动过程中与靶材的距离保持稳定，靶材表面的磁场强度不会在运动过程中沿运动方向的垂直方向变化，使得镀膜效率均匀；本发明的结构简单，便于装配和拆卸。
图1为本发明的结构示意图1-电机；2_电机安装支架；3_主动轮；4_从动轮；5_螺杆；6_滚珠螺杆；7_连接座；8-滑块；9-导轨；10_磁钢安装板；11_基座；12_绝缘密封件；13_内法兰；14_外法兰；15-屏蔽罩安装法兰；16-屏蔽罩；17-磁钢安装支座；18_磁钢；19-铜背板；20_靶材；21-行程控制开关，22-冷却水路。
具体实施方式
为了更清楚的表述本发明，
以下结合附图对本发明做进一步的阐述，使本领域的技术人员更清楚地了解本发明的构思。参照图1，在基座11的上端设有电机安装支架2，电机安装支架2上安装有电机I，所述电机I为伺服电机，其中，电机I与主动轮3连接，并带动主动轮3旋转，主动轮3与从动轮4接触，主动轮3的旋转可带动从动轮4做旋转运动，从动轮4与螺杆5接触，当从动轮4旋转时，可带动螺杆5运动，螺杆5与滚珠螺杆6接触，螺杆5运动可带动滚珠螺杆6做直线运动，磁钢安装板10通过连接座7设置在滚珠螺杆6上。当启动电机I时，电机带动主动轮3，主动轮3带动从动轮4，从动轮4带动螺杆5、螺杆5带动滚珠螺杆6，滚珠螺杆6带动其上的磁钢安装板10做直线往复运动，磁钢安装板10上设置有一个以上的磁钢18，所述磁钢18通过磁钢安装支架17设置在磁钢安装板10上，磁钢安装板10上还设置有滑块8，所述滑块8安装在导轨9上，并可随导轨9滑动，所述磁钢安装板10通过滑块8在导轨9内做直线往复运动。所述导轨9架设在基座11上端的两侧。磁钢安装板10通过连接座7与滚珠螺杆6连接。在基座11的下端固定设置有外法兰14，所述固定可为焊接或螺栓连接或卡接，在外法兰14的内侧设置有绝缘密封件12，所述绝缘密封件12与外法兰14的连接处还设置有O型密封圈，所述绝缘密封件12为环形，在绝缘密封件12的内侧设置有内法兰13，内法兰13与绝缘密封件12的连接处设有O型密封圈，通过依次安装的外法兰14、O型密封圈、绝缘密封件12、0型密封圈、内法兰13实现磁控腔体溅射靶内部的密封。内法兰13的下端设有铜背板19，所述铜背板19的内部设有冷却水路，通过冷却水路22可现实靶材内部环境的冷却，降低镀膜靶材的温度。[0025]在外法兰14和内法兰13之间还设有屏蔽罩安装法兰15，所述屏蔽罩安装法兰15的宽度大于内法兰13的宽度，所述屏蔽罩安装法兰15径向长度大于内法兰13的径向长度。所述屏蔽罩安装法兰15上安装有屏蔽罩16。在磁钢安装板10上设有至少一个磁钢安装支座17，所述磁钢安装支座17上设有磁钢18。所述磁钢安装板10、磁钢安装支座17、磁钢18被设置在基座11与屏蔽罩16构成的腔体内。在屏蔽罩16的下端放置靶材20，设置在屏蔽罩16内侧的磁钢18产生的磁力可作用于靶材20。在磁钢安装板10或基座11上设有行程控制开关21，所述行程控制开关21控制电机I的运转，进而控制磁钢18在导轨9上所处的位置，从而实现对平面溅射靶的控制。所述外法兰14与真空腔室的连接处设有O型密封圈，通过O型密封圈实现外法兰14与真空腔室之间的密封。
权利要求1.一种移动磁场平面溅射靶，包括基座(11)，安装在基座(11)上的电机(1)，与电机(I)相连的主动轮(3)、与主动轮(3 )相连的从动轮(4)，与从动轮(4)相连的螺杆(5 )，与螺杆(5 )相连的滚珠螺杆(6 )，与滚珠螺杆(6 )连接的磁钢安装板，磁钢安装板(6 )上设有磁钢(18),其特征在于,所述电机(I)带动主动轮(3)旋转,主动轮(3)带动从动轮(4)旋转,从动轮(4)带动螺杆(5)旋转，螺杆(5)带动滚珠螺杆￠)，滚珠螺杆(6)带动磁钢(18)做直线往复运动。
2.根据权利要求1所述的平面溅射靶，其特征在于，所述磁钢安装板(10)通过连接座(7)与滚珠螺杆(6)相连。
3.根据权利要求1所述的平面溅射靶，其特征在于，所述磁钢安装板(10)上还设置有滑块(8 )，所述滑块(8 )套接在导轨(9 )上，所述导轨(9 )设置在基座(11)，所述磁钢安装板(10)可通过滑块(8)实现在导轨(9)上的滑动。
4.根据权利要求1或3所述的平面溅射靶，其特征在于，所述磁钢安装板(10)上设有行程控制开关(21)，所述行程控制开关(21)可控制电机(I)的运转，从而可控制磁钢(18)在导轨(9)的位置。
5.根据权利要求1所述的平面溅射靶，其特征在于，所述磁钢(18)通过磁钢安装支座(17)设置在磁钢安装板(10)上。
6.根据权利要求1所 述的平面溅射靶，其特征在于，所述基座(11)上设置外法兰(14)，所述外法兰(14)通过O型密封圈与真空腔体连接。
7.根据权利要求6所述的平面溅射靶，其特征在于，所述外法兰(14)的内侧端部设有绝缘密封件(12)，所述绝缘密封件(12)与外法兰(14)的连接处还设有O型密封圈，所述绝缘密封件(12 )的内侧安装有内法兰(13 )，所述内法兰与绝缘密封件(12)的连接处还设有O型密封圈。
8.根据权利要求7所述的平面溅射靶，其特征在于，所述内法兰(13)的底端固定有铜背板(19 )，所述铜背板(19 )内部含有冷却水路(22 )。
9.根据权利要求7所述的平面溅射靶，其特征在于，所述基座(11)上还设置有屏蔽罩安装法兰(15)，所述屏蔽罩安装法兰(15)上设置有屏蔽罩(16)，所述磁钢(18)设置在屏蔽罩(16)与基座(11)、内法兰(13)形成的空腔内。
10.根据权利要求1所述的平面溅射靶，其特征在于，所述电机(I)为伺服电机，所述电机(I)通过电机安装支架(2 )设置在基座上。
专利摘要本实用新型涉及到一种磁场平面溅射靶，尤其涉及到一种可移动的磁控平面溅射靶，属于磁控溅射镀膜技术领域，一种移动磁场平面溅射靶，其包括基座，安装在基座上的电机，与电机相连的主动轮、与主动轮相连的从动轮，与从动轮相连的螺杆，与螺杆相连的滚珠螺杆，与滚珠螺杆连接的磁钢安装板，磁钢安装板上设有磁钢，其中，所述电机带动主动轮旋转，主动轮带动从动轮旋转，从动轮带动螺杆旋转，螺杆带动滚珠螺杆，滚珠螺杆带动磁钢做直线往复运动。优点是，磁钢往复运动的速率可调节，与靶材的距离保持稳定，使得镀膜效率均匀，满足了不同生产工艺的需要，本实用新型的结构简单，便于装配和拆卸。
文档编号C23C14/35GK203021645SQ20122074519
公开日2013年6月26日 申请日期2012年12月31日 优先权日2012年12月31日
发明者梁得刚, 李征 申请人:上海子创镀膜技术有限公司