专利名称：矩形平面多弧靶及真空镀膜装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种矩形平面多弧靶及真空镀膜装置。
背景技术：
如今，真空镀膜在机械、电子、能源、信息等领域已经得到了广泛应用。而在真空镀膜中，生产效率非常受人关注。磁控溅射的方法在沉积速率上要比非磁控溅射的方法高的多，所以越来越受到青睐。在磁控溅射镀膜中，矩形平面多弧靶是极为重要的组件。现有的矩形平面多弧靶，具备了沉积速率大的优点，能够带来较高的生产效率，但由于缺乏合适的灭弧装置的设置，所以在生产中容易出现跑弧(也称为偏弧)的情况，即引弧后电弧有时会偏离正常工作的区域。跑弧的发生会影响溅射镀膜的稳定性和效率，制约了生产效率的提闻。
实用新型内容本实用新型要解决的技术问题是为了克服现有技术中的矩形平面多弧靶缺乏合适的灭弧装置，导致容易发生跑弧、即电弧偏离正常工作的区域，导致了矩形平面多弧靶的工作不稳定的缺陷，提出一种矩形平面多弧靶及真空镀膜装置，通过设置绝缘的外圈陶瓷压条和中心陶瓷压条一方面固定靶材，另一方面通过绝缘的陶瓷件起到灭弧作用，提高了溅射镀膜的稳定性和效率。本实用新型是通过下述技术方案来解决上述技术问题的:本实用新型提供了一种矩形平面多弧靶，包括一靶座，其特点在于，该矩形平面多弧靶还包括一外圈陶瓷压条和一中心陶瓷压条，该外圈陶瓷压条围设于该靶座的顶端面的边缘，并形成用于容纳固定一靶材的 一靶材区域，该中心陶瓷压条设于该靶材区域的中间并用于固定该靶材。该外圈陶瓷压条和该中心陶瓷压条除了固定该靶材的位置外，陶瓷的绝缘性还使其能够起到灭弧作用，即通过增大弧隙间的电绝缘强度避免了跑弧的发生，提高了该矩形平面多弧靶工作的稳定性和效率。同时，该外圈陶瓷压条和该中心陶瓷压条起到了固定和灭弧的作用，在结构上也非常精简，便于维护。较佳地，该靶材的形状为矩形，该靶材区域的形状与该靶材的形状相适配。较佳地，该中心陶瓷压条的形状为杆状。较佳地，该矩形平面多弧靶还包括一极板、一组导磁铁和一永磁体，该永磁体设于该靶材区域的中央的下方，该组导磁铁包括至少两个导磁铁并围设于该靶材区域的边缘的下方，该极板设于该组导磁铁下方并与该组导磁铁分别形成极靴。其中，极靴是电磁铁、永磁体和电机磁极的一种结构,在通过采用两个结构相同的磁路在磁极端面形成极靴，通过这样的设置能够获得较好线性分布的磁场、并屏蔽多余的磁场。较佳地，该组导磁铁为一对导磁铁，该对导磁铁对称地围设于该靶材区域的边缘的下方。对称的设置该对导磁铁能够更容易获得对离子的更好的磁场约束效果。较佳地，该永磁体为磁钢。较佳地，该矩形平面多弧靶还包括一引弧针和一气动装置，该气动装置控制该引弧针起弧。气动装置结构简单、轻便、安装维护简单，并且容易调节。本实用新型还提供了一种包括上述矩形平面多弧靶的真空镀膜装置。在符合本领域常识的基础上，上述各优选条件，可任意组合，即得本实用新型各较佳实例。本实用新型的积极进步效果在于:本实用新型的矩形平面多弧靶及真空镀膜装置，通过设置绝缘的陶瓷件在固定靶材的同时起到灭弧作用，提高了溅射镀膜的稳定性和效率。
图1为本实 用新型实施例1的矩形平面多弧靶的剖视图。图2为本实用新型实施例2的真空镀膜装置的剖视图。
具体实施方式
以下结合附图给出本实用新型较佳实施例，以详细说明本实用新型的技术方案，但并不因此将本实用新型限制在所述的实施例范围之中。实施例1如图1所示，本实施例的矩形平面多弧靶，包括一靶座4，还包括一外圈陶瓷压条12和一中心陶瓷压条15，该外圈陶瓷压条12围设于该靶座4的顶端面的边缘，并形成用于容纳固定一靶材14的一靶材区域，该中心陶瓷压条15设于该靶材区域的中间并用于固定该靶材14。该外圈陶瓷压条12和该中心陶瓷压条15除了固定该靶材14的位置外，陶瓷的绝缘性还使其能够起到灭弧作用，即通过增大弧隙间的电绝缘强度避免了跑弧的发生，提高了该矩形平面多弧靶工作的稳定性和效率。同时，该外圈陶瓷压条12和该中心陶瓷压条15起到了固定和灭弧的作用，在结构上也非常精简，便于维护。本实施例的该靶材14的形状为矩形，该靶材区域的形状与该靶材14的形状相适配。该外圈陶瓷压条12围设形成与该靶材14的形状一致的矩形。该中心陶瓷压条15的形状为杆状。在一个优选实施例中，该矩形平面多弧靶还包括一极板7、一组导磁铁5和一永磁体6,该永磁体6设于该祀材区域的中央的下方,该组导磁铁5包括至少两个导磁铁并围设于该靶材区域的边缘的下方，该极板设于该组导磁铁下方并与该组导磁铁5分别形成极靴。该组导磁铁5可以为一对导磁铁5，该对导磁铁5对称地围设于该靶材区域的边缘的下方。对称的设置该对导磁铁5能够更容易获得对离子的更好的磁场约束效果。该永磁体采用磁钢。优选地，该矩形平面多弧靶还包括一引弧针和一气动装置，该气动装置控制该引弧针起弧。气动装置结构简单、轻便、安装维护简单，并且容易调节。实施例2[0028]如图2所示，本实施例的真空镀膜装置包括了实施例1的矩形平面多弧靶。该真空镀膜装置还包括至少一真空室13，一绝缘件I把该矩形平面多弧靶和该至少一真空室13绝缘分隔。一第一密封圈2密封绝缘件I与真空室13的室壁之间的间隙，一第二密封圈3密封绝缘件I与该靶座4之间的间隙。优选地，该真空镀膜装置还包括用于固定该靶座4的螺栓9和用于冷却靶材14的水冷接头8。该真空镀膜装置还包括一螺钉绝缘套10和一防护罩11，该螺钉绝缘套10用于将该靶座4和真空室13的室壁绝缘分隔，该防护罩11用于放置人员接触带电器件。为保障真空室13的室壁与靶材14的分隔，该真空镀膜装置还包括多个屏蔽板16，用于防止基体17上的膜层沉积到该绝缘件I上面。虽然以上描述了本实用新型的具体实施方式
，但是本领域的技术人员应当理解，这些仅是举例说明，本实用新型的保护范围是由所附权利要求书限定的。本领域的技术人员在不背离本实用新型的原理和实质的前提下，可以对这些实施方式做出多种变更或修改，但这些变更和修改均落入本 实用新型的保护范围。
权利要求1.一种矩形平面多弧靶，包括一靶座，其特征在于，该矩形平面多弧靶还包括一外圈陶瓷压条和一中心陶瓷压条，该外圈陶瓷压条围设于该靶座的顶端面的边缘，并形成用于容纳固定一靶材的一靶材区域，该中心陶瓷压条设于该靶材区域的中间并用于固定该靶材。
2.如权利要求1所述的矩形平面多弧靶，其特征在于，该靶材的形状为矩形，该靶材区域的形状与该靶材的形状相适配。
3.如权利要求1所述的矩形平面多弧靶，其特征在于，该中心陶瓷压条的形状为杆状。
4.如权利要求1-3中任意一项所述的矩形平面多弧靶，其特征在于，该矩形平面多弧靶还包括一极板、一组导磁铁和一永磁体，该永磁体设于该靶材区域的中央的下方，该组导磁铁包括至少两个导磁铁并围设于该靶材区域的边缘的下方，该极板设于该组导磁铁下方并与该组导磁铁分别形成极靴。
5.如权利要求4所述的矩形平面多弧靶，其特征在于，该组导磁铁为一对导磁铁，该对导磁铁对称地围设于该靶材区域的边缘的下方。
6.如权利要求4所述的矩形平面多弧靶，其特征在于，该永磁体为磁钢。
7.如权利要求1所述的矩形平面多弧靶，其特征在于，该矩形平面多弧靶还包括一引弧针和一气动装置，该 气动装置控制该引弧针起弧。
8.一种包括如权利要求1-7中任意一项所述的矩形平面多弧靶的真空镀膜装置。
专利摘要本实用新型公开了一种矩形平面多弧靶及真空镀膜装置。该矩形平面多弧靶包括一靶座、一外圈陶瓷压条和一中心陶瓷压条，该外圈陶瓷压条围设于该靶座的顶端面的边缘，并形成用于容纳固定该靶材的一靶材区域，该中心陶瓷压条设于该靶材区域的中间并用于固定该靶材。本实用新型的矩形平面多弧靶及真空镀膜装置通过设置绝缘的陶瓷件在固定靶材的同时起到灭弧作用，提高了溅射镀膜的稳定性和效率。
文档编号C23C14/35GK203096160SQ201320025570
公开日2013年7月31日 申请日期2013年1月17日 优先权日2013年1月17日
发明者王叔晖, 刘竹杨 申请人:上海法德机械设备有限公司