具有用于涂布工艺的分离掩模的掩蔽布置以及卷材涂布设施的制作方法

技术特征：

技术总结
提供一种用于掩蔽基板的掩模模块。掩模模块包括掩模载体和掩模。掩模载体具有后侧、前侧以及掩模载体孔隙。后侧可设计为面对基板，并且前侧可设计为面对涂布源。掩模可分离地附接于掩模载体的后侧。掩模具有掩模孔隙并且覆盖掩模载体孔隙的一部分。掩模孔隙可与掩模载体孔隙对准，使得涂布材料可从涂布源穿过掩模孔隙到达基板。另外，提供用于涂布基板的涂布设施和方法。

技术研发人员：于尔根·亨里奇
受保护的技术使用者：应用材料公司
技术研发日：2014.11.17
技术公布日：2017.08.01