技术总结
本发明揭示一种高精度金属掩膜装置及其制造方法，所述高精度掩膜装置包括：电铸基板，所述电铸基板包括：基板主体；开口部，设置于所述基板主体上，且贯穿所述基板主体。掩膜主体，设置于所述电铸基板上，位于所述开口部，所述掩膜主体的边缘与所述电铸基板相连接。所述高精度金属掩膜装置可以提高电铸的高精度金属掩膜装置的合格率、尺寸精度以及位置精度。
技术研发人员：吴建;郑庆靓;樊春雷
受保护的技术使用者：上海和辉光电有限公司
文档号码：201510726941
技术研发日：2015.10.30
技术公布日：2017.05.10