技术总结
本发明的一个实施方式涉及耐等离子体部件以及耐等离子体部件的制造方法，其中，所述等离子体部件的氧化物覆盖膜是0.05～3μm的微小粒子彼此之间在部件基材表面烧结结合而成为多晶粒子、进而以该多晶粒子的聚集体的形式形成的氧化物沉积覆盖膜，膜厚为10μm～200μm，膜密度为90％以上。根据上述构成，可以得到能够稳定且有效地抑制源于覆盖膜的颗粒的发生、进而在再生处理中难以受到腐蚀或变形等损害的耐等离子体部件以及耐等离子体部件的制造方法。
技术研发人员：佐藤道雄;日野高志;中谷仁;中村隆
受保护的技术使用者：株式会社东芝;东芝高新材料公司
文档号码：201580017990
技术研发日：2015.03.20
技术公布日：2016.11.23