再生铅精炼碱渣中碱再生利用方法与流程

文档序号:12346958阅读:701来源:国知局

本发明涉及再生铅技术领域,具体涉及一种再生铅精炼碱渣中碱再生利用方法。



背景技术:

尽管当今各种电池新技术在不断发展,拥有150多年发展历史的铅酸电池依然凭借其优良的性价比、稳定的电化学性能、成熟的生产工艺及其废旧产品较高的回收利用等优点在二次电池市场中占据首位。年产量的持续增长既代表铅酸电池对人类的重要性,也意味着每年有大量的铅消耗于铅酸蓄电池产品上。

铅酸蓄电池作为全世界主要的消费产品,同时也成为最主要的铅再生资源。中国再生铅的主要原料有80%以上来自废旧铅酸蓄电池。铅作为一种高毒性的重金属,从环保的角度看,对废旧铅酸蓄电池中铅的回收再利用具有重要意义。

目前铅冶炼行业在精炼工序段,都是采用碱氢氧化钠造碱性渣进行除杂,所得到的渣大都回到还原熔炼系统,碱未得到充分利用以及部分碱进入到周围环境,危害环境安全。



技术实现要素:

本发明所要解决的技术问题在于提供一种方法简单,经济效益好的铅精炼碱渣中碱再生利用方法。

本发明所要解决的技术问题采用以下技术方案来实现:

一种再生铅精炼碱渣中碱再生利用方法,包括以下工艺步骤:

1.按照液固比(质量比)3:1,温度40℃,在强对流反应釜内对新出碱渣浸出,浸出时间1-1.5小时。

2.将1反应完成后的物料放出使用分选筛进行粗分离,分离出铅粒和矿浆,铅粒直接投入富氧侧吹炉熔炼制成粗铅,矿浆使用渣浆泵打入板框式压滤机进行固液分离,并使用清水对滤饼进行洗涤,得到含锡的氢氧化钠一次浸出液和含铅50%左右、锑3%左右、锡1%左右的固体物料物及滤饼洗涤水,固体物料用于生产电解用粗铅的配料,洗涤水返回1使用;

3.将一次浸出液再次与新出碱渣在强对流反应釜内按1进行浸出,得到铅粒和矿浆,铅粒使用淘洗机淘洗,淘洗后的铅粒直接投入富氧侧吹炉熔炼制成粗铅,淘洗后液待用;矿浆使用自动加料和卸料离心机固液分离,分离出浸出渣和二次浸出液。

4.若浸出液氢氧化钠浓度达到400-450g/L时,石灰在60℃时沉铅锡等有价金属,达不到此浓度时继续使用二次浸出液进行浸出,直至达到;浸出渣作为回收锡的原料。

5.达到浓度要求的浸出液,分别用于再生铅冶回收炼过程中的烟气脱硫和酸雾净化及废酸水处理,碱渣中氢氧化钠的利用率超过95%。

上述3经离心分离产出的浸出渣采用以下方法处理:

使用3铅粒淘洗后液及薪水按照液固比(质量比)3:1,在强对流反应釜内对用水对3步骤离心分离产出的浸出渣40℃控温浸出,浸出时间1-1.5小时,反应结束后使用离心机进行固液分离,浸出渣用于生产电解用粗铅的配料,浸出液加石灰在60℃时沉锡等有价金属,沉锡后液返回上述1使用。

本发明的有益效果是:本发明方法简单易行,经济效益好,对碱渣进行充分利用,碱渣中氢氧化钠的利用率超过95%,解决了环境污染问题,实现高效绿色生产。

具体实施方式

为了使本发明实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解,下面结合具体实施例,进一步阐述本发明。

实施例1

一种再生铅精炼碱渣中碱再生利用方法,包括以下工艺步骤:

1.按照液固比(质量比)3:1,温度40℃,在强对流反应釜内对新出碱渣浸出,浸出时间1-1.5小时。

2.将1反应完成后的物料放出使用分选筛进行粗分离,分离出铅粒和矿浆,铅粒直接投入富氧侧吹炉熔炼制成粗铅,矿浆使用渣浆泵打入板框式压滤机进行固液分离,并使用清水对滤饼进行洗涤,得到含锡的氢氧化钠一次浸出液和含铅50%左右、锑3%左右、锡1%左右的固体物料物及滤饼洗涤水,固体物料用于生产电解用粗铅的配料,洗涤水返回1使用;

3.将一次浸出液再次与新出碱渣在强对流反应釜内按1进行浸出,得到铅粒和矿浆,铅粒使用淘洗机淘洗,淘洗后的铅粒直接投入富氧侧吹炉熔炼制成粗铅,淘洗后液待用;矿浆使用自动加料和卸料离心机固液分离,分离出浸出渣和二次浸出液。

4.若浸出液氢氧化钠浓度达到400-450g/L时,石灰在60℃时沉铅锡等有价金属,达不到此浓度时继续使用二次浸出液进行浸出,直至达到;浸出渣作为回收锡的原料。

5.达到浓度要求的浸出液,分别用于再生铅冶回收炼过程中的烟气脱硫和酸雾净化及废酸水处理,碱渣中氢氧化钠的利用率超过95%。

上述3经离心分离产出的浸出渣采用以下方法处理:

使用3铅粒淘洗后液及新水按照液固比(质量比)3:1,在强对流反应釜内对用水对3步骤离心分离产出的浸出渣40℃控温浸出,浸出时间1-1.5小时,反应结束后使用离心机进行固液分离,浸出渣用于生产电解用粗铅的配料,浸出液加石灰在60℃时沉锡等有价金属,沉锡后液返回上述1使用。

本行业的技术人员应该了解,本发明不受上述实施例的限制,上述实施例和说明书中描述的只是说明本发明的原理,在不脱离本发明精神和范围的前提下,本发明还会有各种变化和改进,这些变化和改进都落入要求保护的本发明范围内。本发明要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。

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