技术总结
一种纳米金刚石表面硅烷真空热解沉积设备，包括：机械泵(1)、扩散泵(2)、四通阀(3)、真空管式炉(4)、石英管(5)、载物台(7)、硅烷进气口(8)、氩气进气口(9)、流量计(10)、复合真空计(11)、放气阀(12)。高真空状态下的纳米金刚石表面杂质官能团热解吸附，室温下硅烷气体充分渗入纳米金刚石粉体间，与纳米金刚石表面悬键形成单分子或多分子饱和吸附层，弥散于纳米金刚石表面。随后吸附物惰性气体原位热解，纳米金刚石表面形成原子级硅镀层。本发明实现了纳米金刚石的净化保存问题，可解决购买ALD镀覆设备价格昂贵，镀覆技术难度大、成本高、效率低，以及纳米金刚石大批量Si原子镀覆产业化的问题。
技术研发人员：邓福铭;邓雯丽
受保护的技术使用者：中国矿业大学（北京）
文档号码：201610900669
技术研发日：2016.10.17
技术公布日：2017.06.13