技术总结
本发明涉及一种Ag/ZnO/Mg光电透明导电薄膜的沉积方法，属透明导电材料领域。本发明一种按照以下步骤进行：(1)将基片用丙酮、乙醇以及去离子水用超声波依次清洗后，用氮气吹干送入反应室；2)磁控溅射Mg膜的沉积；(3)有机物化学气相沉积制备中间层ZnO薄膜：(4)磁控溅射Ag膜的沉积：(5)对Ag/ZnO/Mg的多层结构的透明导电薄膜进行高温退火，退火温度为200～600℃，退火时间为20min，得到Ag、Mg共同掺杂的ZnO光电透明导电薄膜。本发明制备工艺简单，沉积过程易于控制。本发明制备的透明导电薄膜均匀性好，光电性能优异，电阻率可低至7.0×10‑4Ω·cm，而其透光率可达85％以上。可用于制造太阳能电池、发光二极管、LCD以及手机等光电器件的透明电极。
技术研发人员：梁结平
受保护的技术使用者：梁结平
文档号码：201611094524
技术研发日：2016.12.01
技术公布日：2017.05.10