1.一种Ti-Ag-N纳米复合涂层，其特征在于：按离基体的远近区分，从内到外依次包括：在基体表面Ti膜形成的过渡层、TiN膜形成的中间层和Ti-Ag-N层。
2.根据权利要求1所述的Ti-Ag-N纳米复合涂层的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
(1)镀过渡层：采用纯钛靶，当真空室内真空度达到2×10-3Pa～4×10-2Pa时，对真空室加热至300～500℃；向真空室通入氩气，设定所需的气体流量为30～300sccm，气压控制在0.5～2Pa之间；基体加脉冲负偏压在-500～-1000V范围，使气体发生辉光放电，对样品进行辉光清洗10～60min；调整氩气流量，使真空室气压为0.1～1.0Pa，同时开启钛靶弧源，弧电流为60～150A，对样工件继续进行Ti离子轰击1～20min；调脉冲负偏压至-100V～-600V，沉积Ti膜即过渡层1～10min；
(2)镀TiN层：采用纯钛靶，停氩气，通氮气，设定气压为0.2～2Pa范围；对基体施加脉冲负偏压-100V～-600V；调节靶电流为50～150A，沉积时间为1～20min；
(3)镀Ti-Ag-N层：停氩气，通氮气，氮气流量控制在10～200sccm，设定气压为0.2～3Pa范围；对基体施加脉冲负偏压-100V～-600V；调制靶电流为60～200A，沉积时间为20～300min；
(4)沉积结束后，迅速停弧、停基体脉冲负偏压、停止通入气体，继续抽真空，工件随炉冷却至100℃以下。
3.根据权利要求2所述的Ti-Ag-N纳米复合涂层的制备方法，在所使用的钛银合金靶的靶材中，银的含量为5-40％。