多室化学气相沉积系统的制作方法

技术总结
本实用新型公开了一种化学气相沉积系统。所述化学气相沉积系统具有多个反应室以在各个所述反应室内的晶片上外延层生长中进行独立地操作，以减少加工时间且同时保持制造高性能半导体装置所必需的质量。

技术研发人员：乔治·帕帕索利奥蒂斯;米格尔·索尔达娜;布雷特·斯诺登;尤利·拉什科夫斯基;迈克尔·佩奇
受保护的技术使用者：维易科仪器有限公司
文档号码：201621025123
技术研发日：2016.08.31
技术公布日：2017.04.26