本实用新型涉及线材的加工技术领域，尤其涉及一种能够对线材的内径进行抛光的机构。
背景技术：
随着工业技术的不断进步，对线材的加工要求越来越多，钢管等线材在加工过程中，通常需要对内径进行抛光作业，以满足用户的使用需求，目前的抛光作业方式较为单一，使用抛光机进行内部抛光，其不足之处在于，由于钢管的长度较长，无法进行连续作业，因此通常厂家采用先抛光后焊接的方式，造成对焊接的水平要求极高，成本较高。
技术实现要素：
为了解决上述技术问题，本实用新型提供了一种用于线材的内径抛光机构，通过采用本技术方案，能够满足线材的内径抛光需求，同时能够提升抛光效率，降低成本。
本实用新型的技术方案如下：
一种用于线材的内径抛光机构，包括电机，所述电机连接有T型结构的连接件，所述连接件与转轴相连接，转轴的另一端连接有固定套，所述固定套还连接有连接轴，在所述转轴和所述连接轴的外围包裹有耐磨层，所述连接轴的另一端装有限位块。
进一步地，在所述耐磨层的外部还设有卡扣结构，所述卡扣结构包括套在所述耐磨层外围的卡套，在所述卡套上设有伸缩杆。
更进一步地，在所述连接件上连接有斜杆，所述斜杆的另一端连接有支撑杆，所述支撑杆与底座相连接。
作为优选，在所述电机上装有吊环。
有益效果：本实用新型通过以上技术方案，能够对长度相对较长的线材进行抛光作业，而且能够对长度较短的线材同时抛光，其效率较高，产品的一致性强，降低了技术难度和成本，有助于提升产品的市场竞争力。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本实用新型实施例所公开的一种用于线材的内径抛光机构的结构示意图。
图中数字和字母所表示的相应部件名称：
1、电机；2、连接件；3、固定套；4、转轴；5、连接轴；6、耐磨层；7、卡套；8、伸缩杆；9、限位块；10、吊环；11、斜杆；12、支撑杆；13、底座。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
实施例
一种用于线材的内径抛光机构，包括电机1，所述电机1通过法兰连接有T型结构的连接件2，所述连接件2的另一端与转轴4的一端相连接，转轴4的另一端连接有固定套3，通过利用所述连接件2，能够将所述电机1的动力平稳的传递至所述转轴4上，同时由于所述连接件2为T型结构，方便与其他部件配合相接。
所述固定套3还连接有连接轴5，通过利用所述固定套3能够将所述转轴4与所述连接轴5连接在同一水平线上，这样所述转轴4在转动的过程中能够带动所述连接轴5进行同步转动；另外，在实际作业过程中，可以根据线材的长度拆卸或者组装所述连接轴5，满足加工需求，同时当长度角度的线材在进行内径抛光作业时，拆卸所述连接轴5可以降低电机1的动力，降低能耗。
在所述转轴4和所述连接轴5的外围包裹有耐磨层6，在所述耐磨层6的外部还设有卡扣结构，所述卡扣结构包括套在所述耐磨层6外围的卡套7，在所述卡套7上设有伸缩杆8，通过利用所述伸缩杆8能够使所述卡套7与所述耐磨层6进一步锁紧，所述伸缩杆8与所述卡套7是这样配合的：将所述卡套7套在所述耐磨层6的外围，所述伸缩杆8的端部具有螺钉，通过所述伸缩杆8的收缩，螺钉能够形成对所述卡套7的挤压，从而使所述卡套7向中心收缩，将所述耐磨层6与所述转轴4或者所述连接轴5夹紧；本技术方案采用卡扣结构是为了防止连接轴5和转轴4的长度较长时，耐磨层6与其贴合度一致性不足，此时，通过利用所述卡扣结构能够有效解决这一问题。
在使用过程中，由于卡口结构安装在耐磨层6的外部，此时，转轴4和连接轴5的外围能够同步对不同的线材进行抛光作业，有助于提升工作效率。
在所述连接轴5的另一端装有限位块9。通过所述限位块9能够防止在抛光作业时，线材从耐磨层6的外围脱落。
为了能够对整体结构形成有效支撑，本技术方案在所述连接件2上连接有斜杆11，所述斜杆11的另一端连接有支撑杆12，所述支撑杆12与底座13相连接，通过利用所述支撑杆12与所述底座13的配合，能够使整体结构稳定的运行，同时不会影响到转轴4以及连接轴5的运转。
为了方便对抛光机构搬运，在所述电机1上装有吊环10，可以采用吊装的方式进行空间位移。
采用本技术方案中的内径抛光机构，其灵活性较强，能够根据实际需要满足不同长度的线材加工需求，而且稳定性强，工作效率高，能够满足市场需求。
以上所述的仅是本实用新型的优选实施方式，应当指出，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型创造构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。