技术总结
本实用新型公开了一种双面真空磁控溅射卷绕镀膜装置，包括真空腔体、收放卷系统，真空腔体上设置有真空获得系统，真空腔体内的磁控溅射区左右两侧分别布置有靶极，收放卷系统包括第一卷轴、第二卷轴、导向辊、张力辊以及两根主动辊，每排靶极和其相对应的主动辊之间形成磁控溅射通道，两根主动辊位于磁控溅射区中且两根主动辊沿水平方向分布在两排靶极之间，第一卷轴中的基材通过导向辊、张力辊和相应的主动辊进去其中一个磁控溅射通道后从另一个磁控溅射通道出并经相应的主动辊、张力辊和导向辊收卷于第二卷轴。将靶极设计在真空腔体内，省去靶极车，合理的利用了真空腔体的有限空间，减小设备空间占有率。
技术研发人员：苏陟
受保护的技术使用者：广州方邦电子股份有限公司
文档号码：201621327257
技术研发日：2016.12.05
技术公布日：2017.09.12