技术特征：
技术总结
本发明提供了一种新型的平面磁控溅射阴极，该平面磁控溅射阴极包括靶材、背板、磁体装置以及导磁板，靶材设置在背板的一侧，导磁板设置在背板的另一侧，磁体装置设置在背板和导磁板之间，其中，磁体装置包括中间磁体和环绕该中间磁体的外圈磁体，中间磁体包括至少两个电磁铁，外圈磁体和中间磁体朝向靶材的磁极其二者极性相反；平面磁控溅射阴极还包括电磁铁电源，该电磁铁电源与该至少两个电磁铁连接，为该至少两个电磁铁依次供电以使外圈磁体和中间磁体之间的磁场分布不断发生变化。实施本发明可以有效提高靶材的利用率、防止靶材污染、提高溅射速率的稳定性。此外，本发明所提供的平面磁控溅射阴极还具有结构简单、易于控制、可靠性高的特点。
技术研发人员：张诚
受保护的技术使用者：霍尔果斯迅奇信息科技有限公司
技术研发日：2017.05.02
技术公布日：2017.08.22