本发明涉及一种基材蒸镀锂设备及利用其实现基材蒸镀锂的方法。
背景技术：
单质锂材料特性为：锂很容易与氧、氮、硫等化合，遇水燃烧，存储条件严格等特点，所以只能在高真空情况下对金属锂进行加热成气态蒸镀。现有大型设备是蒸镀铝、镍、锌等材料，而且小型蒸镀金属锂设备的利用率只有2％～10％之间、蒸镀厚度为≤1μm，如果蒸镀厚度增加，均匀性无法保证、且蒸镀时蒸镀腔室内充满锂蒸汽，蒸镀时污染范围大等缺点。
技术实现要素：
本发明的目的是要解决现有基材蒸镀锂设备对金属锂的利用率低，蒸镀厚度为≤1μm，蒸镀时污染范围大的问题，而提供高速连续卷绕式真空蒸镀锂设备及利用其实现基材蒸镀锂的方法。
高速连续卷绕式真空蒸镀锂设备，它包括机体外壳、腔体挡板、放卷系统、基材加热器、主辊、冷却辊、收卷系统、坩埚、坩埚固定架、坩埚加热器、保温层、坩埚横移升降平台、放卷过渡辊、加热过渡辊、冷却过渡辊、上腔真空阀门、下腔真空阀门和加料可视窗口；
由腔体挡板和机体外壳将高速连续卷绕式真空蒸镀锂设备分隔成上腔体和下腔体，所述放卷系统、基材加热器、冷却辊和收卷系统设置在高速连续卷绕式真空蒸镀锂设备的上腔体中，所述放卷过渡辊设置在放卷系统和基材加热器之间，所述加热过渡辊设置在主辊和基材加热器之间，所述冷却过渡辊设置在主辊和冷却辊之间；所述坩埚、坩埚固定架、坩埚加热器、保温层和坩埚横移升降平台设置在高速连续卷绕式真空蒸镀锂设备的下腔体中，所述坩埚固定架与机体外壳内壁固定连接，所述保温层设置在坩埚横移升降平台上，所述坩埚承载在坩埚固定架上，当蒸镀锂时，所述坩埚置于坩埚加热器内，且所述坩埚的顶部与主辊呈曲面平行；利用保温层包覆坩埚加热器用于保温；在上腔体侧壁上设置上腔真空阀门，在下腔体侧壁上部设置下腔真空阀门，在下腔体侧壁顶部设置加料可视窗口；所述主辊穿过腔体挡板，一部分处于上腔体中，另一部分处于下腔体中，且主辊与腔体挡板的距离为5mm～10mm；
所述高速连续卷绕式真空蒸镀锂设备还包括镀层检测系统，利用镀层检测系统检测冷却辊与冷却过渡辊与之间基材表面镀层厚度；
所述高速连续卷绕式真空蒸镀锂设备还包括抽真空系统，利用抽真空系统对高速连续卷绕式真空蒸镀锂设备的上腔体和下腔体进行抽真空处理；
所述高速连续卷绕式真空蒸镀锂设备还包括plc控制系统，利用plc控制系统控制高速连续卷绕式真空蒸镀锂设备运作；
所述高速连续卷绕式真空蒸镀锂设备还包括坩埚冷却系统，所述坩埚冷却系统包含冷却油、坩埚可控硅和坩埚冷却机，所述坩埚固定架的侧壁为中空结构，冷却油装载在坩埚固定架侧壁的中空结构内，利用冷却油对坩埚进行油冷，利用坩埚可控硅和坩埚冷却机对冷却油进行循环冷却。
利用高速连续卷绕式真空蒸镀锂设备实现基材蒸镀锂的方法，具体是按以下步骤完成的：
一、准备阶段：①、将基材穿戴在高速连续卷绕式真空蒸镀锂设备中后闭合上腔体和下腔体，②、将金属锂沿加料可视窗口加入坩埚中，然后将坩埚移动至坩埚加热器上，且坩埚摆放与主辊方向一致，调整坩埚横移升降平台，使坩埚与主辊表面基材的距离为5mm～20mm，③、对高速连续卷绕式真空蒸镀锂设备进行密封；
二、抽真空：对高速连续卷绕式真空蒸镀锂设备的上腔体抽真空，至上腔体的真空度为6.5×10-2pa～7×10-2pa为止，同时对高速连续卷绕式真空蒸镀锂设备的下腔体抽真空，至下腔室的真空度为7×10-3pa～7×10-4pa为止；
三、蒸镀：启动坩埚加热器，并实时检测坩埚内金属锂温度，当坩埚内金属锂温度达到350℃时，启动放卷系统、基材加热器和收卷系统，调整高速连续卷绕式真空蒸镀锂设备运行参数，至基材表面锂层厚度达到实际要求为止，并在当前运行参数条件下保证高速连续卷绕式真空蒸镀锂设备进行正常；
四、冷却泄压：完成基材蒸镀锂后，关闭坩埚加热器、放卷系统、基材加热器和收卷系统，调整坩埚横移升降平台，将坩埚移动至坩埚固定架上，采用油冷方式将坩埚冷却至40～50℃，此时泄掉上腔体和下腔体的真空压力；
五、取基材：打开高速连续卷绕式真空蒸镀锂设备的上腔体和下腔体，取出表面蒸镀锂基材。
本发明优点：一、设置由腔体挡板和机体外壳将高速连续卷绕式真空蒸镀锂设备分隔成上腔体和下腔体，防止蒸镀时锂蒸汽对基材污染，且蒸镀锂时上腔体的真空度为6.5×10-2pa～7×10-2pa，下腔室的真空度为7×10-3pa～7×10-4pa；下蒸镀腔的高真空值可提高锂与基材的附着力，并且抑制锂对上腔污染提供了有利条件；二、蒸镀坩埚与基材距离为5mm～20mm间距，并且蒸镀坩埚摆放与主辊方向一致，保证蒸镀厚度范围1μm～100μm之间可随时调整，公差±1μm，有效的提高金属锂的利用率，金属锂最高利用率可达到90％以上，节省成本，且均一性达到±95％；三、本发明高速连续卷绕式真空蒸镀锂设备具有防爆、密封性好、抗高压、高温加热、降温冷却和自动检测蒸镀层厚度功能，为大规模连续化安全生产提供的有利保障。
附图说明
图1是具体实施方式一所述高速连续卷绕式真空蒸镀锂设备结构示意图。
具体实施方式
具体实施方式一：结合图1，本实施方式是高速连续卷绕式真空蒸镀锂设备，它包括机体外壳1、腔体挡板2、放卷系统3、基材加热器4、主辊5、冷却辊6、收卷系统7、坩埚8、坩埚固定架9、坩埚加热器10、保温层11、坩埚横移升降平台12、放卷过渡辊13、加热过渡辊14、冷却过渡辊15、上腔真空阀门16、下腔真空阀门17和加料可视窗口18；
由腔体挡板2和机体外壳1将高速连续卷绕式真空蒸镀锂设备分隔成上腔体和下腔体，所述放卷系统3、基材加热器4、冷却辊6和收卷系统7设置在高速连续卷绕式真空蒸镀锂设备的上腔体中，所述放卷过渡辊13设置在放卷系统3和基材加热器4之间，所述加热过渡辊14设置在主辊5和基材加热器4之间，所述冷却过渡辊15设置在主辊5和冷却辊6之间；所述坩埚8、坩埚固定架9、坩埚加热器10、保温层11和坩埚横移升降平台12设置在高速连续卷绕式真空蒸镀锂设备的下腔体中，所述坩埚固定架9与机体外壳1内壁固定连接，所述保温层11设置在坩埚横移升降平台12上，利用保温层11包覆坩埚加热器10用于保温，所述坩埚8承载在坩埚固定架9上，当蒸镀锂时，所述坩埚8置于坩埚加热器10内，且所述坩埚8的顶部与主辊5呈曲面平行；在上腔体侧壁上设置上腔真空阀门16，在下腔体侧壁上部设置下腔真空阀门17，在下腔体侧壁顶部设置加料可视窗口18；所述主辊5穿过腔体挡板2，一部分处于上腔体中，另一部分处于下腔体中，且主辊5与腔体挡板2的距离为5mm～10mm；
所述高速连续卷绕式真空蒸镀锂设备还包括镀层检测系统，利用镀层检测系统检测冷却辊6与冷却过渡辊15与之间基材表面镀层厚度；
所述高速连续卷绕式真空蒸镀锂设备还包括抽真空系统，利用抽真空系统对高速连续卷绕式真空蒸镀锂设备的上腔体和下腔体进行抽真空处理；
所述高速连续卷绕式真空蒸镀锂设备还包括plc控制系统，利用plc控制系统控制高速连续卷绕式真空蒸镀锂设备运作；
所述高速连续卷绕式真空蒸镀锂设备还包括坩埚冷却系统，所述坩埚冷却系统包含冷却油、坩埚可控硅和坩埚冷却机，所述坩埚固定架9的侧壁为中空结构，冷却油装载在坩埚固定架9侧壁的中空结构内，利用冷却油对坩埚8进行油冷，利用坩埚可控硅和坩埚冷却机对冷却油进行循环冷却。
图1是本实施方式一所述高速连续卷绕式真空蒸镀锂设备结构示意图，图中1表示机体外壳，2表示腔体挡板，3表示放卷系统，4表示基材加热,5表示主辊，6表示冷却辊，7表示收卷系统，8表示坩埚，9表示坩埚固定架，10表示坩埚加热器，11表示保温层，12表示坩埚横移升降平台，13表示放卷过渡辊，14表示加热过渡辊，15表示冷却过渡辊，16表示上腔真空阀门，17表示下腔真空阀门，18表示加料可视窗口。
本实施方式所述的镀层检测系统为x-ray厚度检测仪。
本实施方式所述的抽真空系统包括机械真空泵、罗茨真空泵和分子泵。
本实施方式所述plc控制系统包含上料与穿带流程、各参数设定流程、自动运行-基材预加热流程、自动运行-主辊加热流程、自动运行-锂材加热蒸发流程、自动运行-基材输送流程、自动运行-连续蒸镀测厚与厚度控制流程、自动运行-蒸镀后冷却流程、自动运行-张力控制流程、自动运行-张力控制流程、自动运行-收卷整齐度流程、自动运行-收卷整齐度流程、自动运行-展平流程和自动运行-卷料余量检测与停机流程。
高速连续卷绕式真空蒸镀锂设备和其他真空镀膜机一样的原理，都需要在高真空状态下获得良好的蒸发效果，高速连续卷绕式真空蒸镀锂设备由于其特殊的工作原理为连续蒸镀，往往真空室比普通镀膜机空间容积大得多，需要用腔体挡板2相对分隔为卷绕室(上腔体)和蒸发室(下腔体)两大块，蒸发物才不会进入卷绕室造成污染，保持卷绕室的相对清洁，由于主辊5与腔体挡板2的距离为5mm～10mm，基材厚度为微米级，因此基材通过主辊5与腔体挡板2之间夹缝进出卷绕室和蒸发室。卷绕室由于有基膜的存在，且在连续工作过程中，基膜本身及夹层放气量很大，蒸发室的放气量相对较小。卷绕室和蒸发室是两个相对独立的空间，且两者配置的真空泵有差异；卷绕室主抽泵配置的是相对抽速较小的真空泵，蒸发室主抽泵配置的是相对抽速很大的真空泵，虽然两个室体之间是连通的，但由于主辊5与腔体挡板2的距离为5mm～10mm，存在夹缝效应，两个室之间的真空度差异是比较明显的；由于蒸发室内蒸镀物质是气体方式存在，需要在较高的真空度条件下工作，而卷绕室内，蒸镀物质已经凝固为固体，不在需要高真空度维持，只需要较低真空度即可。此外卷绕室和蒸发室分开单独配置真空泵，也有节约成本的考虑。如果需要将卷绕室也维持在高真空度，配置的泵就需要更大的抽速，性价比不高。
具体实施方式二：结合图1，本实施方式与具体实施方式一的不同点是：所述放卷系统包含放卷辊、纠偏系统、过渡辊系统、基材蒸镀速度控制系统、张力控制系统和展平系统。其他与具体实施方式一相同。
具体实施方式三：结合图1，本实施方式与具体实施方式一或二之一不同点是：所述收卷系统包含收卷辊、机械胀轴、交流驱动电机、变频控制器、skf轴承、磁流体密封和上料绞架。其他与具体实施方式一或二相同。
具体实施方式四：结合图1，本实施方式与具体实施方式一至三之一不同点是：所述主辊5上设置温度变送器和主辊可控硅。其他与具体实施方式一至三相同。
具体实施方式五：结合图1，本实施方式与具体实施方式一至四之一不同点是：所述冷却辊6连接可控硅和冷却机。其他与具体实施方式一至四相同。
具体实施方式六：结合图1，本实施方式与具体实施方式一至五之一不同点是：所述机体外壳1的材质为不锈钢，厚度50mm。其他与具体实施方式一至五相同。
具体实施方式七：结合图1，本实施方式与具体实施方式一至六之一不同点是：所述坩埚8为半圆形或长方形，且所述坩埚8的宽度与主辊5的直径比为1:(3～10)。其他与具体实施方式一至六相同。
具体实施方式八：结合图1，本实施方式利用具体实施方式一至七所述的高速连续卷绕式真空蒸镀锂设备实现基材蒸镀锂的方法，具体是按以下步骤完成的：
一、准备阶段：①、将基材穿戴在高速连续卷绕式真空蒸镀锂设备中后闭合上腔体和下腔体，②、将金属锂沿加料可视窗口18加入坩埚8中，然后将坩埚8移动至坩埚加热器10上，且坩埚8摆放与主辊方向一致，调整坩埚横移升降平台12，使坩埚8与主辊5表面基材的距离为5mm～20mm，③、对高速连续卷绕式真空蒸镀锂设备进行密封；
二、抽真空：对高速连续卷绕式真空蒸镀锂设备的上腔体抽真空，至上腔体的真空度为6.5×10-2pa～7×10-2pa为止，同时对高速连续卷绕式真空蒸镀锂设备的下腔体抽真空，至下腔室的真空度为7×10-3pa～7×10-4pa为止；
三、蒸镀：启动坩埚加热器10，并实时检测坩埚8内金属锂温度，当坩埚8内金属锂温度达到350℃时，启动放卷系统3、基材加热器4和收卷系统7，调整高速连续卷绕式真空蒸镀锂设备运行参数，至基材表面锂层厚度达到实际要求为止，并在当前运行参数条件下保证高速连续卷绕式真空蒸镀锂设备进行正常；
四、冷却泄压：完成基材蒸镀锂后，关闭坩埚加热器10、放卷系统3、基材加热器4和收卷系统7，调整坩埚横移升降平台12，将坩埚8移动至坩埚固定架9上，采用油冷方式将坩埚8冷却至40～50℃，此时泄掉上腔体和下腔体的真空压力；
五、取基材：打开高速连续卷绕式真空蒸镀锂设备的上腔体和下腔体，取出表面蒸镀锂基材。
本实施方式所述的主辊5悬浮于坩埚8上方，是以上下蒸镀结构为主的蒸镀方式。蒸镀坩埚上方与主辊下方距离为5mm～20mm间距，主辊5的直径450mm，长度为300mm～1000mm；坩埚长度为100mm～800mm，宽度为20mm～150mm，深度为40mm～120mm，所述坩埚8的宽度与主辊5的直径比为1:(3～10)，并且蒸镀坩埚摆放与主辊方向一致；这种方式可在基材上提高蒸镀长度在100m～3000m范围内，蒸镀宽度为100mm～1200mm范围内可调，蒸镀厚度范围1μm～100μm之间可随时调，公差±1μm，金属锂利用率可达到90％以上，且均一性达到±95％的金属锂层。
本实施方式所述高速连续卷绕式真空蒸镀锂设备的相关参数如下：基材宽度为100mm～1200mm；蒸镀宽度为100mm～1200mm；蒸镀速度为1m/min-50m/min，且线性连续可调；蒸镀长度为100m-3000m；蒸镀厚度为1μm～100μm，公差±1μm；卷绕速度为1m/min～80m/min，动态数字显示速度；设备稼动率＞98％，连续镀膜厚度合格率＞99.5％；锂蒸发速度≥200g/min。
具体实施方式九：结合图1，本实施方式与具体实施方式一至八之一不同点是：所述高速连续卷绕式真空蒸镀锂设备的主辊5上设置温度变送器和主辊可控硅，利用温度变送器和主辊可控硅将主辊5表面基材的温度控制在80℃以下。其他与具体实施方式一至八相同。
具体实施方式十：结合图1，本实施方式与具体实施方式一至九之一不同点是：所述高速连续卷绕式真空蒸镀锂设备的冷却辊6连接可控硅和冷却机，利用可控硅和冷却机将冷却辊6温度控制为10℃～20℃。其他与具体实施方式一至九相同。
具体实施方式十一：结合图1，本实施方式与具体实施方式一至十之一不同点是：步骤一①中所述基材穿戴具体操作如下：先将基材卷在放卷系统3的放卷辊上，然后将基材依次穿过放卷过渡辊13、基材加热器4、加热过渡辊14、主辊5、冷却过渡辊15、冷却辊6和收卷系统7的收卷辊，即完成基材穿戴。其他与具体实施方式一至十相同。
本发明内容不仅限于上述各实施方式的内容，其中一个或几个具体实施方式的组合同样也可以实现发明的目的。
采用下述试验验证本发明效果
实施例1：结合图1，高速连续卷绕式真空蒸镀锂设备，它包括机体外壳1、腔体挡板2、放卷系统3、基材加热器4、主辊5、冷却辊6、收卷系统7、坩埚8、坩埚固定架9、坩埚加热器10、保温层11、坩埚横移升降平台12、放卷过渡辊13、加热过渡辊14、冷却过渡辊15、上腔真空阀门16、下腔真空阀门17和加料可视窗口18；
由腔体挡板2和机体外壳1将高速连续卷绕式真空蒸镀锂设备分隔成上腔体和下腔体，所述放卷系统3、基材加热器4、冷却辊6和收卷系统7设置在高速连续卷绕式真空蒸镀锂设备的上腔体中，所述放卷过渡辊13设置在放卷系统3和基材加热器4之间，所述加热过渡辊14设置在主辊5和基材加热器4之间，所述冷却过渡辊15设置在主辊5和冷却辊6之间；所述坩埚8、坩埚固定架9、坩埚加热器10、保温层11和坩埚横移升降平台12设置在高速连续卷绕式真空蒸镀锂设备的下腔体中，所述坩埚固定架9与机体外壳1内壁固定连接，所述保温层11设置在坩埚横移升降平台12上，利用保温层11包覆坩埚加热器10用于保温，所述坩埚8承载在坩埚固定架9上，当蒸镀锂时，所述坩埚8置于坩埚加热器10内，且所述坩埚8的顶部与主辊5呈曲面平行；在上腔体侧壁上设置上腔真空阀门16，在下腔体侧壁上部设置下腔真空阀门17，在下腔体侧壁顶部设置加料可视窗口18；所述主辊5穿过腔体挡板2，一部分处于上腔体中，另一部分处于下腔体中，且主辊5与腔体挡板2的距离为5mm～10mm；
所述高速连续卷绕式真空蒸镀锂设备还包括镀层检测系统，利用镀层检测系统检测冷却辊6与冷却过渡辊15与之间基材表面镀层厚度；所述的镀层检测系统为x-ray厚度检测仪；
所述高速连续卷绕式真空蒸镀锂设备还包括抽真空系统，利用抽真空系统对高速连续卷绕式真空蒸镀锂设备的上腔体和下腔体进行抽真空处理；所述的抽真空系统包括机械真空泵、罗茨真空泵和分子泵；
所述高速连续卷绕式真空蒸镀锂设备还包括plc控制系统，利用plc控制系统控制高速连续卷绕式真空蒸镀锂设备运作；所述plc控制系统包含上料与穿带流程、各参数设定流程、自动运行-基材预加热流程、自动运行-主辊加热流程、自动运行-锂材加热蒸发流程、自动运行-基材输送流程、自动运行-连续蒸镀测厚与厚度控制流程、自动运行-蒸镀后冷却流程、自动运行-张力控制流程、自动运行-张力控制流程、自动运行-收卷整齐度流程、自动运行-收卷整齐度流程、自动运行-展平流程和自动运行-卷料余量检测与停机流程；
所述高速连续卷绕式真空蒸镀锂设备还包括坩埚冷却系统，所述坩埚冷却系统包含冷却油、坩埚可控硅和坩埚冷却机，所述坩埚固定架9的侧壁为中空结构，冷却油装载在坩埚固定架9侧壁的中空结构内，利用冷却油对坩埚8进行油冷，利用坩埚可控硅和坩埚冷却机对冷却油进行循环冷却；
所述放卷系统包含放卷辊、纠偏系统、过渡辊系统、基材蒸镀速度控制系统、张力控制系统和展平系统；
所述收卷系统包含收卷辊、机械胀轴、交流驱动电机、变频控制器、skf轴承、磁流体密封和上料绞架；
所述主辊5上设置温度变送器和主辊可控硅；
所述冷却辊6连接可控硅和冷却机；
所述机体外壳1的材质为不锈钢，厚度50mm；
所述坩埚8为半圆形或长方形，且所述坩埚8的宽度与主辊5的直径比为1:3.75。
实施例2：利用实施例1所述的高速连续卷绕式真空蒸镀锂设备实现基材蒸镀锂的方法，具体是按以下步骤完成的：
一、准备阶段：①、先将基材卷在放卷系统3的放卷辊上，然后将基材依次穿过放卷过渡辊13、基材加热器4、加热过渡辊14、主辊5、冷却过渡辊15、冷却辊6和收卷系统7的收卷辊，即完成基材穿戴，将基材穿戴在高速连续卷绕式真空蒸镀锂设备中后闭合上腔体和下腔体，②、将金属锂沿加料可视窗口18加入坩埚8中，然后将坩埚8移动至坩埚加热器10上，且坩埚8摆放与主辊方向一致，调整坩埚横移升降平台12，使坩埚8与主辊5表面基材的距离为5mm，③、对高速连续卷绕式真空蒸镀锂设备进行密封；
二、抽真空：对高速连续卷绕式真空蒸镀锂设备的上腔体抽真空，至上腔体的真空度为6.8×10-2pa，同时对高速连续卷绕式真空蒸镀锂设备的下腔体抽真空，至下腔室的真空度为7×10-3pa；
三、蒸镀：启动坩埚加热器10，并实时检测坩埚8内金属锂温度，当坩埚8内金属锂温度达到350℃时，启动放卷系统3、基材加热器4和收卷系统7，调整高速连续卷绕式真空蒸镀锂设备运行参数，至基材表面锂层厚度达到实际要求为止，并在当前运行参数条件下保证高速连续卷绕式真空蒸镀锂设备进行正常；
四、冷却泄压：完成基材蒸镀锂后，关闭坩埚加热器10、放卷系统3、基材加热器4和收卷系统7，调整坩埚横移升降平台12，将坩埚8移动至坩埚固定架9上，采用油冷方式将坩埚8冷却至40～50℃，此时泄掉上腔体和下腔体的真空压力；
五、取基材：打开高速连续卷绕式真空蒸镀锂设备的上腔体和下腔体，取出表面蒸镀锂基材。
本实施例所述的主辊5悬浮于坩埚8上方，是以上下蒸镀结构为主的蒸镀方式。蒸镀坩埚上方与主辊下方距离为5mm间距，主辊5的直径450mm，长度为800mm；坩埚长度为800mm，宽度为120mm，深度为85mm。
本实施方式所述高速连续卷绕式真空蒸镀锂设备的相关参数如下：基材宽度为900mm；蒸镀宽度为800mm；蒸镀速度为16m/min(即主辊5转速为16m/min)；蒸镀长度为400m；蒸镀厚度为10μm；卷绕速度为10m/min，动态数字显示速度；设备稼动率＞98％，连续镀膜厚度合格率＞99.5％；锂蒸发速度≥200g/min。
本实施例所述高速连续卷绕式真空蒸镀锂设备的主辊5上设置温度变送器和主辊可控硅，利用温度变送器和主辊可控硅将主辊5表面基材的温度控制在80℃以下。
本实施例所述高速连续卷绕式真空蒸镀锂设备的冷却辊6连接可控硅和冷却机，利用可控硅和冷却机将冷却辊6温度控制为10℃～20℃。
其他参数如下：
1、设备环境温度为室温；
2、设备环境湿度：露点摄氏度为-30℃(露点摄氏度为-30℃时室内相对湿度为1～2％)，因为金属锂在常温湿度下会燃烧，所以设备本身要放置在干燥环境下；
3、基材穿戴用时为37min；
4、上腔真空度为6.8×10-2pa，上腔真空值达到目标值；
5、上腔抽真空时间为13min；
6、下腔真空度7.0×10-3pa，下腔真空值达到目标值
7、下腔抽真空时间为33min；
8、基材加热时间为5min；
9、基材加热温度为80℃；
10、坩埚加热温度为400°，加热温度没有问题，上下温差±5℃；
11、坩埚加热时间为22min；
12、坩埚冷却时间为31min；
13、坩埚冷却后温度为46℃；
14、主辊转速为16m/min，主辊速度可根据镀膜时需要作出调整，范围6m/min～80m/min；
15、主辊温度为70℃～80℃，主辊温度的来源是蒸发坩埚加热和蒸镀过程收吸收到的热量；
16、x-ray厚度检测仪测试厚度范围1μm～100μm，膜厚仪检测范围值在工作范围之内，实际测量值为10um厚度，偏差值±5％；
17、上腔泄压时间为8min；
18、下腔泄压时间为10min；
19、基材冷却温度为31℃，设置蒸镀后温度检测装置，检测基材经过冷却辊6冷却后实际温度，蒸镀后温度估计值应该在100～150℃范围内。经过冷却辊6冷却后基材冷却温度为31℃。
20、基材冷却时间为5s；
21、蒸镀时间为28min；
22、蒸镀厚度为10μm，蒸镀开始头部厚度偏低大概有5m左右，经过调整走带速度后，厚度范围合格9.4μm～10.5μm之间；
23、镀层均匀性检测为±10％以内；时间检测厚度偏差±5％左右；
24、蒸镀长度为400m；
25、金属锂利用率为90.6％，2kg金属锂，剩余0.2kg，蒸镀重量为1.63kg，消耗0.17kg。