本实用新型属于溅射靶材领域，具体来说涉及一种靶材冷却装置。
背景技术：
在溅射靶材生产过程中会发出大量的热量，如果不及时进行冷却，容易造成局部烧焦或呈现晶粒化现象，而且当溅射靶材的功率增大后，温度也会随之升高，高温会使得溅射靶材的使用寿命减短，造成了大量的浪费，影响经济效益。
例如中国专利号201410124974.0公开了一种阴极电弧靶冷却装置包括靶座、靶材、及设在靶座内部的多条冷却水道，靶材嵌在靶座表面上；所述靶材与所述冷却水道被铜板隔开，铜板使冷却水道与靶材分属不同的独立空间，靶材与铜板相接触；所述冷却水道内通过液体时，铜板受液体压力向靶材凸出。本发明的优点在于，利用铜片良好的传导性导热，同时利用铜片将靶材与冷却水道隔开，其设备的冷却效果好，又不影响真空设备及生产效率。但是该实用新型靶材与靶座为分体式并通过铜板导热，其传热效率较低。
技术实现要素：
本实用新型的目的在于提供一种靶材冷却装置，能够对靶材直接进行冷却，提高传热效率。
为实现上述发明目的，本实用新型的技术方案是这样实现的：
一种靶材冷却装置，包括靶材、靶材余料，所述靶材与所述靶材余料为一整体，所述靶材余料上设置有若干冷媒通道。
进一步的，所述靶材余料对称设置在所述靶材的端部。
进一步的，所述冷媒通道对称设置。
进一步的，所述冷媒通道两端分别为冷媒进口和冷媒出口。
进一步的，相邻所述冷媒通道的冷媒进口和冷媒出口位置相反。
进一步的，所述冷媒通道为圆形或矩形。
进一步的，所述冷媒通道设置为多层。
本实用新型的有益效果为：
1.本实用新型能够直接对靶材进行冷却，大大降低靶材温度，提高传热效率。
2.本实用新型能够更加均匀的冷却靶材，提高沉积薄膜的性能。
附图说明
图1是本实用新型的结构示意图。
图中所示：
1-靶材；2-靶材余料；3-冷媒通道。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
如图1所示，一种靶材冷却装置，包括靶材1、靶材余料2，所述靶材1与所述靶材余料2为一整体，能够直接对所述靶材1进行冷却，提高传热效率，大大降低所述靶材1的温度，所述靶材余料2对称设置在所述靶材1的端部，所述靶材余料2上设置有6条对称的冷媒通道3，所述冷媒通道3两端分别为冷媒进口和冷媒出口，相邻所述冷媒通道3的冷媒进口和冷媒出口位置相反，能够更加均匀的冷却所述靶材1，提高沉积薄膜的性能。
其中，所述冷媒通道3为圆形或矩形。
其中，所述冷媒通道3设置为多层，能够提高冷却效果。
以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。