大面积基板。举例来说，大面积基板或载体可为第4. 5代、第5 代、第7. 5代、第8. 5代、或甚至第10代，第4. 5代对应于约0. 67m2的基板（0. 73x0. 92m)、 第5代对应于约1. 4m2的基板（1.lmx1. 3m)、第7. 5代对应于约4. 29m2的基板（1. 95m x2. 2m)、第8. 5代对应于约5. 7m2的基板（2. 2mx2. 5m)、第10代对应于约8. 7m2的基板 (2. 85mX3. 05m)。甚至更高代，例如是第11代及第12代与对应的基板面积可以类似的方 式实施。
[0052] 图5绘示根据实施例的沉积腔体500的示意图。沉积腔体500适用于沉积工艺，例 如物理气相沉积（PVD)或化学气相沉积（CVD)工艺。所示的一或多个基板位于基板传输装 置上。根据一些实施例，基板支撑件可为可移动的，以调整腔体内的基板的位置。特别是对 于此处所述的大面积基板，沉积可在具有垂直基板方向或实质上垂直基板方向时实施。因 此，传输装置可具有较低的滚轮522,其由一或多个驱动器525所驱动，驱动器525例如是马 达。驱动器525可通过轴523连接于滚轮522,用于滚轮的转动。因此，一个马达525驱动 多于一个滚轮是可行的，例如通过皮带、齿轮系统或类似的机构来连接多个滚轮。
[0053] 滚轮524可用于在垂直或实质上垂直位置中支撑基板。一般来说，基板可为垂直 或可自垂直位置略为偏移，例如是至多5°。具有lm2至9m2的基板尺寸的大面积基板通常 非常薄，例如少于1mm，例如是〇. 7mm或甚至0. 5mm。为了支撑基板且让基板在固定位置中， 基板是在基板的处理期间提供于载体中。因此，基板可通过传输系统来传输，当基板由载体 所支撑时，传输系统包括例如数个滚轮及驱动器。举例来说，具有基板于其中的载体由具有 滚轮522及滚轮524的系统所支撑。
[0054] 根据此处所述的实施例的沉积材料源，也就是阴极100提供于腔体内，沉积材料 源面对用于进行涂布的基板的侧边。沉积材料源100提供用于沉积于基板上的沉积材料 565。如图5中所示且根据此处所述的实施例，阴极100可为具有靶材区段且具有沉积材料 于其上的靶材。
[0055] 根据一些实施例，在层沉积期间以参考编号565标注的沉积材料可根据沉积工艺 及后续的已涂布基板的应用来选择。举例来说，源的沉积材料可为选自由金属、硅、IZO、 IGZO、AZO、SnO、AlSnO、InGaSnO、及例如是形成透明导电氧化物的其他材料所组成的群组的 材料，金属可例如是铝、钼、钛、铜、或类似的材料。一般来说，通过提供来自源的材料或通过 反应沉积，可沉积包括此种材料的氧化物、氮化物或碳化物层，也就是说，来自源的材料与 来自处理气体的像是氧、氮、或碳的元素进行反应。
[0056] 图6绘示用于制造可转动溅镀阴极的方法的实施例。此方法包括在步骤602中贴 附第一靶材区段于背管的第一轴位置。在步骤604中，第二靶材区段被贴附于相邻背管的 第一靶材区段的第二轴位置。提供在第一靶材区段的外表面和第二靶材区段的外表面中的 步阶，其中此步阶具有至少〇. 5mm的高度，特别是0. 5mm至3mm，更特别是1mm至1. 5mm。根 据其典型的修改，在步骤602与步骤604中，第一靶材区段与第二靶材区段可接合于背管。 根据可产生其他实施例的再其他修改，第一靶材区段与第二靶材区段的相对侧表面被粗糙 化。举例来说，它们可在第一靶材区段与第二靶材区段研磨之后被粗糙化。一般来说，它们 可通过喷珠或其他类似的方式来进行粗糙化，且进行粗糙化至为10ymRmax或以上的表面 粗糙度，特别是100ymRmax或以上的表面粗糙度。
[0057] 虽然以上内容针对本发明的实施例，但是可以设计本发明的其他及进一步实施例 而在不脱离本发明的基本范围，本发明的范围由权利要求所确定。
【主权项】
1. 一种可转动溅镀靶材，被配置以绕着一轴转动，该轴是定义一轴方向，该可转动溅镀 靶材包括： 形成靶材的至少第一靶材区段及第二靶材区段； 其中该第一靶材区段具有第一径向外表面、第一径向内表面及两个第一相对侧表面， 特别是两个第一相对圈形侧表面； 其中该第二靶材区段具有第二径向外表面、第二径向内表面及两个第二相对侧表面， 特别是两个第二相对圈形侧表面； 其中该第一靶材区段的该两个第一相对侧表面中的至少一侧表面相邻于该第二靶材 区段的该两个第二相对侧表面中的另一侧表面，该两个第一相对侧表面的该至少一侧表面 具有为IOym Rmax或以上的表面粗糙度，特别是IOOym Rmax或以上的表面粗糙度。
2. 如权利要求1所述的靶材，其特征在于，该第一靶材区段的第一外部半径相异于 该第二革巴材区段的第二外部半径达〇? 5mm或以上，特别是0? 5mm至3mm，更特别是Imm至 I. 5mm〇
3. 如权利要求1至2的任一项所述的靶材，其特征在于，该靶材具有第一轴外部靶材区 段与相对轴外部靶材区段，且其中该第一靶材区段与该第二靶材区段的至少一者设置于该 第一轴外部靶材与该相对轴外部靶材之间的轴方向中。
4. 如权利要求1至3的任一项所述的靶材，其特征在于，位于该第一靶材区段与该第二 革巴材区段之间的接合间隙为0. 5mm或以下，特别是0.1 mm到0. 3mm。
5. 如权利要求1至4的任一项所述的靶材，其特征在于，该第一靶材区段与该第二靶材 区段的至少一者的长度是300mm或以上，特别是400mm或以上，更特别是400mm到500mm。
6. 如权利要求1至5的任一项所述的靶材，其特征在于，该第一靶材区段的第一外部半 径被提供于该靶材的第一轴位置且该第二靶材区段的第二外部半径被提供于该靶材的第 二轴位置，且其中该第一位置与该第二位置彼此相距约1mm。
7. 如权利要求2至6的任一项所述的靶材，其特征在于，该第一轴外部靶材区段与该相 对轴外部靶材区段具有数个外部半径，其大于该第一轴外部靶材区段及该相对轴外部靶材 区段之间的多个靶材区段的外部半径。
8. 如权利要求1至7的任一项所述的靶材，其特征在于，该靶材的材料选自由陶瓷、金 属、ITO、IZO、IGZO、AZO、SnO、AlSnO、InGaSnO、钛、铝、铜、钼、及其组合所组成的群组。
9. 如权利要求1至8的任一项所述的靶材，其特征在于，该靶材于该轴方向中的长度为 I. 5m或以上，特别是2m或以上。
10. -种可转动溅镀阴极，包括： 背管；以及 根据权利要求1至9的任一项所述的可转动溅镀靶材。
11. 如权利要求10所述的可转动溅镀阴极，其特征在于，该靶材接合于该背管。
12. 如权利要求10所述的可转动溅镀阴极，其特征在于，该靶材是非接合的靶材。
13. -种制造可转动溅镀阴极的方法，包括： 贴附第一靶材区段于背管的第一轴位置； 贴附第二靶材区段于该背管的相邻于该第一靶材区段的第二轴位置； 其中该第一靶材区段具有第一径向外表面、第一径向内表面及两个第一相对侧表面， 特别是两个第一相对圈形侧表面； 其中该第二靶材区段具有第二径向外表面、第二径向内表面及两个第二相对侧表面， 特别是两个第二相对圈形侧表面； 其中该第一靶材区段的该两个第一相对侧表面的至少一侧表面相邻于该第二靶材区 段的该两个第二第二侧表面的一个侧表面，该两个第一相对侧表面的该至少一侧表面具有 为10 ym Rmax或以上的表面粗糙度，特别是100 ym Rmax或以上的表面粗糙度。
14. 如权利要求13所述的方法，其特征在于，提供在由该第一靶材区段与该第二靶材 区段形成的该革G材的外表面中的步阶，其中该步阶具有至少0. 5mm的高度，特别是0. 5mm至 3mm的高度，更特别是Imm至I. 5mm的高度。
15. 如权利要求13至14的任一项所述的方法，其特征在于，在研磨该第一靶材区段与 该第二靶材区段之后，该第一靶材区段与该第二靶材区段的数个相对侧表面被粗糙化。
【专利摘要】描述了一种可转动溅镀靶材，可转动溅镀靶材被配置以绕着一轴转动，此轴定义一轴方向。可转动溅镀靶材包括形成靶材的至少第一靶材区段与第二靶材区段，其中第一靶材区段与第二靶材区段的数个相对侧表面中的至少一者被粗糙化，特别是被粗糙化为10μm Rmax或以上的表面粗糙度，更特别是100μm Rmax或以上的表面粗糙度。
【IPC分类】C23C14-34
【公开号】CN104755650
【申请号】CN201380052591
【发明人】A·霍斯卡瓦
【申请人】应用材料公司
【公开日】2015年7月1日
【申请日】2013年10月4日
【公告号】EP2906736A1, US20150279636, WO2014058741A1