其中所述涂层基本由镍组成。
[0117] 项目58.根据项目54的涂镍金刚石颗粒批料，其中所述涂层的厚度为约lnm至约 500nm〇
[0118] 项目59.根据项目54的涂镍金刚石颗粒批料，其中所述涂层占所述涂镍金刚石颗 粒的总重量的1重量％至3重量％。
[0119] 项目60.根据项目54的涂镍金刚石颗粒批料，其中所述平均金刚石粒度不大于约9 μπι，如不大于约8μηι、不大于约μπι或不大于约6μηι。
[0120] 项目61.根据项目54的涂镍金刚石颗粒批料，其中所述涂镍金刚石颗粒的平均粒 度为至少约lwn，如至少约2μηι、至少约μπι或至少约4μηι。
[0121] 项目62.根据项目54的涂镍金刚石颗粒批料，其中所述涂镍金刚石颗粒的平均粒 度不高于9μηι，如不高于8μηι、不高于7μηι或不高于6μηι。
[0122] 项目63.根据项目54的经涂覆研磨颗粒批料，其中至少95%的所述经涂覆研磨颗 粒包含在研磨颗粒的整个表面积上延伸的保形涂层。
[0123] 项目64.根据项目63的经涂覆研磨颗粒批料，其中至少99%的所述经涂覆研磨颗 粒包含在研磨颗粒的整个表面积上延伸的保形涂层。
[0124] 实例
[0125] 金刚石颗粒的无电镀镍
[0126]对于所有实验，使用平均粒度为4μπι至6μπι的金刚石颗粒。将金刚石颗粒加到含硫 酸镍(15-20g/l)、次磷酸钠、分散剂和酸性pH的水性镍镀浴中。在加入金刚石颗粒之前已向 镀浴施加超声能并持续提供直至完成镀镍过程。表1中示出了实验的汇总。
[0127] 非团聚系数(NAF)的计算
[0128] 根据式NAF = D50sa/D50b(式1)计算NAF，其中D50sa为无电镀镍之前的金刚石粒度而 D50b为无电镀镍后的D50粒度。对于所有实验，包括比较例，05(^值，即镀镍之前的D50金刚 石粒度，为4.624μηι。
[0129] 粒度测量
[0130] 未经涂覆和经涂覆金刚石颗粒的代表性样品的粒度分布（PDS)测量使用 Microtrac-ΧΙΟΟ分析仪通过激光衍射技术进行。
[0131] 表1汇总了代表本发明的实例，即实例E1至E6，和比较例C1至C6。
[0132] 表1:
[0133]
[0134] 从表1可见，对于所有代表性实例El至E6，NAF大于0.97。如表1中所指示，实例El至 E6的颗粒样品的SEM图像在图2、3、4、5、6和7中示出。还如表l中所示，涂镍后的D50b粒度仅 微小地增大，即从未经涂覆金刚石粒度的4.624μπι增大到经涂覆状态的4.628μπι至4.753μπι。
[0135] 与实例El至Ε6相比，比较例Cl至C6展示了其中NAF低于0.9并且识别到该经涂覆研 磨颗粒批料的团聚的情况(对于附图编号与样品编号的精确对应关系，参见表1)。如在图8 至13中的对应SEM图像中可见，未相对于其它工艺参数如浴体积和固体载量充分调节超声 能的功率来防止颗粒团聚和颗粒团簇的形成。
[0136] 如表1中关于比较例还可见，测得涂覆后D50b粒度大得多的增加，增至至多14.25μ m，这表明这些涂镍金刚石颗粒的品质低劣，即具有不均匀的涂层并且形成不期望的较大颗 粒。
[0137] 在进一步回顾实例的某些经涂覆研磨颗粒后，还注意到本文的实施例的经涂覆研 磨颗粒可相对于比较例的涂层质量具有特别的涂层质量。例如，图15A示出了来自实例E6的 批料、NAF为0.985的某些涂镍研磨颗粒的SEM图像。图15B示出了比较例C5的NAF为0.471的 涂镍研磨颗粒的图像。
[0138] 在某些情况下，一些常规工艺可能尝试使用压碎和/或过筛技术来控制团聚，然 而，这样的工艺效率低下并且看起来将导致涂层的损伤。如自比较例7(表2)进一步可见，团 聚的涂镍金刚石颗粒的压碎和通过10微米尺寸筛的过筛在过筛后产生了较少的团聚(增大 N A F);然而，压碎和过筛导致了研磨颗粒的镍涂层可观察到的损伤（参见图16 A和16 B)。然 而，甚至在压碎和过筛后，比较例C7的涂镍颗粒的NAF也不增至至少0.9的NAF而不与本发明 的代表性实例E1-E6的NAF相当。相比之下，实例E1-E6的涂镍金刚石颗粒易于过筛并且不需 要压碎。因此，在通过10微米尺寸筛对NAF为至少0.9的涂镍颗粒进行过筛的情况下，过筛后 镍涂层的质量可保持不变(参见图17A和17B)。
[0139] 表2:比较例C7,涂覆了20重量％镍的4-6微米尺寸金刚石颗粒，经受压碎和过筛。
[0141] (D50b =经涂覆金刚石颗粒的D50;
[0142] D50sa =未经涂覆金刚石颗粒的D50 = 4.624ym。）
[0143] 在前面的说明书中，已结合特定的实施例描述了理念。然而，本领域普通技术人员 应理解，可作各种修改和改变而不偏离如下面的权利要求书中所陈述的本发明的范围。因 此，本说明书和附图应视为示意性的而非限制性的意义，并且所有此类修改意在包括在本 发明的范围内。
【主权项】
1. 一种用于形成经涂覆研磨颗粒批料的方法，所述方法包括 -提供研磨颗粒在浴中的分散体，其中所述研磨颗粒的平均粒度<ΙΟμπι; -在所述浴中用涂覆材料涂覆所述研磨颗粒； -向所述浴施加超声能并调节所述超声能的功率以形成非团聚系数（NAF)为至少约 0.90的经涂覆研磨颗粒批料，所述非团聚系数定义为比率(D50sa/D50b)，其中D50b表示所述 经涂覆研磨颗粒批料的中值粒度而D50sa表示涂覆前所述研磨颗粒的中值粒度。2. 根据权利要求1所述的方法，其中所述研磨颗粒包含选自金刚石、立方氮化硼、碳化 硅、碳化硼、氧化铝、氮化硅、碳化钨、氧化锆或它们的组合的材料。3. 根据权利要求2所述的方法，其中所述研磨颗粒为金刚石颗粒。4. 根据权利要求1、2或3所述的方法，其中所述涂层包含选自镍、钛、铜、锌、铬、青铜以 及它们的组合的材料。5. -种制造研磨制品的方法，所述方法包括 提供基材并将经涂覆研磨颗粒批料附接到所述基材，其中所述研磨颗粒批料具有至少 约0.9的非团聚系数(NAF)，所述非团聚系数定义为比率(D50sa/D50b)，其中D50b表示所述经 涂覆研磨颗粒批料的中值粒度而D50sa表示涂覆前所述研磨颗粒的中值粒度。6. 根据权利要求5所述的制造研磨制品的方法，其中所述基材选自盘、线、环带、磨石、 锥体以及它们的组合。7. 根据权利要求5所述的制造研磨制品的方法，其中所述研磨颗粒为涂镍金刚石颗粒。8. 经涂覆研磨颗粒批料，所述经涂覆研磨颗粒批料的平均粒度<ΙΟμπι并且非团聚系数 (NAF)为至少0.90,所述非团聚系数定义为比率(D50sa/D50b)，其中D50b表示所述经涂覆研 磨颗粒批料的中值粒度而D50sa表示涂覆前所述研磨颗粒的中值粒度。9. 根据权利要求8所述的经涂覆研磨颗粒批料，其中所述研磨颗粒的材料选自金刚石、 立方氮化硼、碳化硅、碳化硼、氧化铝、氮化硅、碳化钨、氧化锆或它们的任何组合。10. 根据权利要求8所述的经涂覆研磨颗粒批料，其中所述研磨颗粒的涂层包含镍、钛、 铜、锌、铬、青铜或它们的组合。11. 根据权利要求9或10所述的经涂覆研磨颗粒批料，其中所述研磨颗粒包含金刚石颗 粒并且所述涂层包含镍。12. 根据权利要求8、9或10所述的经涂覆研磨颗粒批料，其中所述研磨颗粒的平均粒度 为至少约lym并且不大于7μηι。13. 根据权利要求8、9或10所述的经涂覆研磨颗粒批料，其中所述涂层的厚度为约lnm 至约500nm。14. 一种研磨制品，所述研磨制品包含根据权利要求8、9或10所述的研磨颗粒批料。15. 根据权利要求14所述的研磨制品，其中所述研磨制品为固结研磨线。
【专利摘要】本发明提供了一种均匀地涂覆小研磨颗粒的方法，具体而言用镍涂覆≤10μm的金刚石颗粒的方法，并且提供了一种含所述经涂覆研磨颗粒的研磨制品，例如固结金刚石线。所述方法包括向镀浴施加超声能并调节超声能的功率使得研磨颗粒批料的非团聚系数(NAF)为至少约0.90，非团聚系数定义为比率(D50sa/D50b)，其中D50b表示经涂覆研磨颗粒的中值粒度而D50sa表示涂覆前研磨颗粒的中值粒度。
【IPC分类】C23C24/00
【公开号】CN105431569
【申请号】CN201480043171
【发明人】Z·科斯蒂奇, W·麦加, A·G·海尔勒, N·J·图玛维奇, B·C·谢弗
【申请人】圣戈本陶瓷及塑料股份有限公司
【公开日】2016年3月23日
【申请日】2014年6月26日
【公告号】EP3014000A1, US20150004890, WO2014210313A1