端部穿过水冷却法兰400和穿过减速器402的右侧法兰406，但不阻挡左进气口 136和左排气口 140。O形圈412被放置在水冷却法兰400和右法兰406之间的右侧。螺栓414用来固定减速器402及水冷却法兰400。水冷却法兰400和右法兰406形成的角度挤压右边的O形圈412与处理管108外壁，在左端适配器124与处理管108之间形成气密密封。左法兰404被无孔法兰416覆盖。中心环418和左O形圈420被布置在无孔法兰416和减速器402密封它们之间的间隙之间。夹具422用于固定和松开无孔法兰416与减速器402。柔性管424连接左气体管138与左进气口 136，用于装卸左基底118。
[0031]如上所指出的，使用两个单独的反应气体管128，130和两个单独的排气管132，134，反应气体流入到左和右的反应空间112，114，未使用的反应气体和反应副产物从这些反应空间112，114中排出。图5A示出了反应气体管128，130的示意图，在本示例性实施例中，左反应气体管128包括两个气体源502，在本发明中气体源数目在很大程度上是任意的，气体管具有更少或更多数量的气体源将仍然落入本发明的范围之内。气体源502连接相应的流量控制器504，其作用是调节从气体源502进入左进气口 136的气体的流量。
[0032]如图5B所示，依次示出了两个排气管132，134，左边的排气管132通过压力传感器506 (例如，压力控制器)输入，节气门508的压力传感器506测量的压力，并通过现有的电子反馈机制，控制所述节流阀508的来调节在左反应空间112的压力。气体然后通过一个圈510 (例如，液氮阱)，然后用旋转式机械泵512送到排气口 514。
[0033]图中所示的组件利用单独的反应气体管128，130和单独的排气管132和134的左侧和右侧的反应空间112，114。具有对这些反应空间112，114独立控制的优点。图5A和5B的反应气体管128，130和排气管132和134之间，视具体情况而定。例如，该反应气体管128，130可能具有共同的气体源，或者是在排气管132和134可具有共同的旋转机械泵。在具体实施例中，一个共用的反应气体管和一个共用的排气管可足以服务两个反应空间112，114。
[0034]CVD反应器100的各种元件基本上是常规的材料形成。处理管108和内部气体管138，144可以，例如，包括但不限于诸如材料石英或氧化铝。基底支持器116，120可包括一种材料但不限于例如，石英，氧化铝，或金属。适配器124，126，两个平行的导轨148，两个导轨支承件150，并在两个适配器支持部152可以包括金属但不限于，例如铝或不锈钢。橡胶元件，如O型环412，420可以由高温弹性体，诸如，全氟弹性体。流量控制器504，节流阀508，泵512等构成的反应气体管128，130和排气管132和134可以从商业供应商(例如MKS仪器公司(安多弗，马萨诸塞来源，美国))。
[0035]本发明实施例使用化学气相沉积反应器100进行成膜，将左基底118装入左反应空间112，和右基底122装入右反应空间114 ;加热源102被滑动至左基底118的加热空间106由此被加热到所需的反应温度以允许所需的膜沉积发生在左基底118上。
[0036]加热源102滑动至右反应空间114，从右反应气体管130以所需的流速和压力通入反应气体和至右反应空间。使右基底122被加热到所需的反应温度以在右基底122上膜沉积，同时在左反应空间112的左基底118来冷却。交替实现两个反应空间的膜沉积及冷却。加热源102再次传送至左反应空间112，左基底118中膜沉积同时右基底122的膜冷却。如上所示，在CVD反应器100，左反应气体管128和左排气管132用于左反应空间112，而右反应气体管130和右排气管134用于右反应空间114。
[0037]通过提供处理管108与两个反应区112，114，其可以由一个加热源102分别加热，实现更大的产量。通过利用化学气相沉积反应器设置两个反应空间可分别同时进行冷却基底和进行薄膜沉积，并且根据本发明可移动的加热源，解决膜污染和损坏问题。
[0038]应当再次强调的是，本发明的上述实施例仅是示例性的。其他实施例可以使用不同的元件类型和安排用于实现所描述的功能。所附权利要求的范围内的这些众多备选实施例将是显而易见的本领域技术人员所熟知的。
[0039]虽然在本实施例中的CVD反应器100的加热源102利用电阻加热的加热元件104，替代实施例中，根据本发明的方面可利用热能的几种可供选择的来源。这些替代性来源包括但不限于辐射加热用高强度辐射光源和电感应加热。
[0040]以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。
【主权项】
1.一种沉积膜的装置，其特征在于，所述装置包括: 处理管，所述处理管包括第一反应空间和第二反应空间，第二反应空间与第一反应空间由隔离部隔开使气体不相导通，每一反应空间中均放置有基底； 加热源，所述加热源包括加热元件，所述加热元件形成了中空加热空间，所述处理管穿过所述加热空间； 导轨，所述加热源由所述导轨支撑，从而沿着导轨的纵向轴线滑动，在第一反应空间及第二反应空间转换加热； 至少一反应气体管，所述反应气体管可引入第一反应气体流入第一反应空间，并引入第二反应气体流入到第二反应空间；及至少一排气管，所述排气管从所述第一反应空间和从所述第二反应空间排出气体。2.根据权利要求1所述的沉积膜的装置，其特征在于:所述装置还包括与处理管连接的适配器及适配器支撑部，所述适配器分别与反应气体管排气管连通，所述适配器通过适配器支撑部滑动的连接在导轨上，从而能容纳不同长度的管材。3.根据权利要求2所述的沉积膜的装置，其特征在于:所述适配器包括水冷却法兰和减速器；所述减速器具有左法兰，右法兰，上法兰和下法兰；下法兰用作反应气体管的进气口的端口，而上法兰用作排气口的端口 ；所述处理管的端部穿过水冷却法兰及减速器的右法兰；所述适配器还包括放置在水冷却法兰和右法兰之间的O形圈及螺栓用来固定减速器及水冷却法兰；水冷却法兰和右法兰形成的角度挤压O形圈与处理管外壁，在适配器与处理管之间形成气密密封。4.根据权利要求2所述的沉积膜的装置，其特征在于:所述适配器支撑部高度可调从而可以容纳不同直径的管材。5.根据权利要求1所述的沉积膜的装置，其特征在于:所述反应气体管及排气管均为两个，分别独立控制第一反应空间及第二反应空间。6.根据权利要求1所述的沉积膜的装置，其特征在于:所述反应气体管包括气体源及流量控制器。7.根据权利要求1所述的沉积膜的装置，其特征在于:所述排气管包括依次连接的压力传感器、节流阀、圈及旋转式机械泵。
【专利摘要】本发明公开一种沉积膜的装置，所述装置包括：处理管，所述处理管包括第一反应空间和第二反应空间，第二反应空间与第一反应空间由隔离部隔开使气体不相导通，每一反应空间中均放置有基底；加热源，所述加热源包括加热元件，所述加热元件形成了中空加热空间，所述处理管穿过所述加热空间；导轨，所述加热源由所述导轨支撑，从而沿着导轨的纵向轴线滑动，在第一反应空间及第二反应空间转换加热；至少一反应气体管，所述反应气体管可引入第一反应气体流入第一反应空间，并引入第二反应气体流入到第二反应空间；及至少一排气管，所述排气管从所述第一反应空间和从所述第二反应空间排出气体。
【IPC分类】C23C16/00
【公开号】CN105525271
【申请号】CN201410507630
【发明人】林朝晖
【申请人】福建省辉锐材料科技有限公司
【公开日】2016年4月27日
【申请日】2014年9月28日