降调节。具体为，
[0079]第一，对所述掩模板2的支架，水平调节挡板位置，使其边缘与挡板4的蒸发窗孔41 一侧边缘一致；
[0080]第二，对所述掩模板2的支架，纵向调节实心掩膜板，达到与样品(夹具)之间的指定间距；
[0081 ] 第三，对所述挡板4及支架，使用所述挡板4的纵向传动控制装置，纵向调节，使挡板4的支架与掩模板2的支架贴合；
[0082]第三，选择沉积源材料，进行超高真空薄膜沉积，并在沉积同时，使用所述掩模板X轴水平控制步进电机，控制实心掩膜板在设定速率，从所述窗口一侧边缘匀速移动到另一侧边缘。
[0083]第四，上述第三完毕后，对所述挡板4的支架，使用所述挡板4的纵向传动控制装置，纵向调节，使挡板4的支架与掩模板2的支架分离；
[0084]第五，上述第四完毕后，对所述掩模板2的支架，纵向下降掩膜板2，与样品(夹具)分离；
[0085]9、重复上述7，直至完成所需连续梯度薄膜的沉积制备。
[0086]情况二:从尚真空超尚真空设备的沉积室中向大气卸载样品。
[0087]1、在具备进样室的超高真空设备系统中使用，其中样品台采用纵向倒置方位的安装方式。
[0088]2、样品传递杆6 (含转换接头61)安装于进样室中，样品传递杆6的轴线和可拆卸样品托3的轴线在同一平面内，并相互垂直。
[0089]3、超尚真空设备系统的起始状态为:沉积室处于超尚真空状态，其与进样室之间由插板阀隔离。进样室处于高真空状态。样品台的固定插板21与掩模板2及支架处于最大分离位置；掩模板2及支架处于纵向最低位置。
[0090]4、使用所述样品传递杆6 (含转换接头61)从大气，通过进样室，从沉积室卸载样品。具体为，
[0091]第一，在沉积室和进样室之间插板阀保持关闭状态下，开启沉积室和进样室之间插板阀，并将样品台的固定插板21纵向调节到与可拆卸样品托3平行位置，将所述样品传递杆6(含转换接头61)逆时针旋转至90°位置，向沉积室直线推送，使转换接头61完全插入可拆卸样品托3;
[0092]第二，在上述第一完成后，将所述样品传递杆6 (含转换接头61)逆时针旋转至180°位置，使所述样品传递杆6上的第一旋转锁头7与可旋转第一锁定槽孔32锁定；
[0093]第三，在上述第二完成后，进一步将样品传递杆6逆时针旋转90°，使可拆卸样品托3所述固定插板21的第二固定锁定槽孔22中分离，然后将样品传递杆6 (含转换接头61)和可拆卸样品托3完全退出沉积室，退入进样室。
[0094]第四，在上述第三完成后，关闭沉积室和进样室之间插板阀。
[0095]第五，在上述第四完成后，开启进样室，从转换接头61上卸载可拆卸样品托3。在不中断主体沉积腔室的超尚真空状态下，完成从主体沉积室通过进样室向大气卸载样品的过程。
[0096]第六，在上述第五完成后，对进样室进行抽真空操作，至所需本底真空度。设备系统回复至起始状态。
[0097]以上就是一种用于薄膜沉积设备系统的样品传递和掩膜装置的结构特点和工作过程，其优点:该装置与薄膜沉积设备形成一个整体，处于完全密封的状态，样品的装载与卸载不需要中断设备系统的高真空或超高真空状态；样品固定方便可靠，不会在工艺过程中由于样品台的原位旋转或相对运动而脱落，并且不受工艺过程，如原位高温退火时的热辐射影响；掩膜板的位置可以相对于样品台位置进行精确调整，可以精确控制掩模板与样品(夹具)之间间距为分离或贴合状态；掩模板可以相对于样品台做定位位移，也可以做连续位移；掩膜板及其运动控制不受高温工艺影响。
[0098]以上所述的仅是本实用新型的优选实施方式，应当指出，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型创造构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。
【主权项】
1.一种用于薄膜沉积设备系统的样品传递和掩膜装置，其特征在于，包括掩膜板传递装置⑴、掩膜板⑵、可拆卸样品托⑶、挡板⑷、冷却水管(5)、样品传递杆(6)和与掩膜板⑵相应的固定插板(21)； 固定插板(21)通过第一支持杆(23)设置在样品台的转轴上，掩膜板(2)通过支架滑动安插在掩膜板传递装置(I)中； 冷却水管(5)设置在挡板⑷的两侧和顶端，冷却水管(5)的两端均设有不锈钢软管，不锈钢软管的末端与真空法兰流体馈穿导件相连通，冷却水管(5)通过不锈钢软管和真空法兰流体馈穿导件与沉积室外部冷却循环水路形成闭路连接； 挡板(4)设置在沉积室内； 样品传递杆(6)设置在掩膜板(2)的一侧，样品传递杆￠)的进样端设有与可拆卸样品托(3)相应的转换接头(61)。
2.根据权利要求1所述的一种用于薄膜沉积设备系统的样品传递和掩膜装置，其特征在于，样品传递杆(6)上设有直线推送装置和原位旋转装置，且安装于高真空的进样室里，在不中断主沉积腔室高真空或超高真空状态下，通过进样室从大气向高真空或超高真空传递样品。
3.根据权利要求1所述的一种用于薄膜沉积设备系统的样品传递和掩膜装置，其特征在于，转换接头(61)的一端设有双柱插头，双柱插头之间设有第一旋转锁头(7)，转换接头(61)的另一端设有与样品传递杆(6)相连接的固定接头。
4.根据权利要求1所述的一种用于薄膜沉积设备系统的样品传递和掩膜装置，其特征在于，所述的冷却水管(5)通过与掩膜板(2)移动相应移动的第二支持杆(51)的一端固定在挡板(4)上，第二支持杆(51)的另一端设有传动装置，传动装置与外部的传动控制装置相连接。
5.根据权利要求1所述的一种用于薄膜沉积设备系统的样品传递和掩膜装置，其特征在于，掩膜板(2)的厚度<0.2_，掩膜板(2)上可以是面阵阵列图形，或者其他固定设计图形和图案组合，也可以是用于连续梯度薄膜沉积的实心掩膜板。
6.根据权利要求3所述的一种用于薄膜沉积设备系统的样品传递和掩膜装置，其特征在于，固定插板(21)的内侧设有第二固定锁定槽孔(22)，第二固定锁定槽孔(22)内设有螺纹固定孔；可拆卸样品托(3)的中部安插有与螺纹固定孔相应的螺纹丝杆，螺纹丝杆的一端设有与第二固定锁定槽孔(22)相应的第二旋转锁头(31)。
7.根据权利要求6所述的一种用于薄膜沉积设备系统的样品传递和掩膜装置，其特征在于，螺纹丝杆的另一端设有与第一旋转锁头(7)相应的可旋转第一锁定槽孔(32)。
8.根据权利要求7所述的一种用于薄膜沉积设备系统的样品传递和掩膜装置，其特征在于，还包括夹具，夹具由平头螺钉和厚度< 0.2mm的夹片组成，夹片通过平头螺钉固定在可拆卸样品托(3)的螺纹孔中。
9.根据权利要求3所述的一种用于薄膜沉积设备系统的样品传递和掩膜装置，其特征在于，可拆卸样品托(3)朝向样品传递杆￠)的侧部设有与双柱插头相应的双孔插孔。
10.根据权利要求1所述的一种用于薄膜沉积设备系统的样品传递和掩膜装置，其特征在于，挡板⑷上设有与可拆卸样品托⑶尺寸相应的蒸发窗孔(41)。
11.根据权利要求4所述的一种用于薄膜沉积设备系统的样品传递和掩膜装置，其特征在于，传动控制装置或为手动微调金属波纹管，或为步进电机驱动。
12.根据权利要求1所述的一种用于薄膜沉积设备系统的样品传递和掩膜装置，其特征在于，掩膜板传递装置(I)为二维直线传动控制装置，分别使用步进电机在两个相互垂直的方向上控制掩膜板(2)进行移动。
【专利摘要】本实用新型涉及高真空和超高真空设备系统的配置，具体涉及了一种用于薄膜沉积设备系统的样品传递和掩膜装置，包括掩膜板传递装置、掩膜板、可拆卸样品托、挡板、冷却水管和样品传递杆，该装置与薄膜沉积设备形成一个整体，处于完全密封的状态，样品的装载与卸载不需要中断设备系统的高真空或超高真空状态；样品固定方便可靠，不会在工艺过程中由于样品台的原位旋转或相对运动而脱落，并且不受工艺过程，如原位高温退火时的热辐射影响；掩膜板的位置可以相对于样品台位置进行精确调整，可以精确控制掩模板与样品(夹具)之间间距为分离或贴合状态；掩模板可以相对于样品台做定位位移，也可以做连续位移；掩膜板及其运动控制不受高温工艺影响。
【IPC分类】C23C16-04, C23C14-04
【公开号】CN204608143
【申请号】CN201520215989
【发明人】茆胜, 朱煜, 张令辉, 张耀辉
【申请人】宁波华甬新材料科技有限公司
【公开日】2015年9月2日
【申请日】2015年4月10日