一种多步反应烧结法制备低残硅的碳化硅陶瓷材料的方法与流程

文档序号:12159545阅读:来源:国知局
技术总结
一种多步反应烧结法制备低残硅的碳化硅陶瓷材料的方法,包括碳源选择、将不同活性的碳源与碳化硅粉混合,加入酚醛树脂或PVA机械混料、粉料成型、渗硅烧结、热处理消除残硅、最后对所获得的碳化硅制品进行打磨处理,去除表面冷凝的碳硅和平整毛糙表面,得到合格的碳化硅成品;本发明解决了现有的反应烧结碳化硅陶瓷材料存在的由于残留硅含量较多而限制了高温、腐蚀环境、高温差环境中应用的问题,能够制备出低残硅高致密度的碳化硅陶瓷材料,大幅提高了反应烧结碳化硅材料的导热性能、高温力学性能、杨氏模量、耐腐蚀性能、高温导电性能等,大大拓展了反应烧结碳化硅材料的应用范围。

技术研发人员:杨建锋;张南龙;尹萍;邓宇宸;曾德军;张亚明
受保护的技术使用者:西安交通大学
文档号码:201610850564
技术研发日:2016.09.26
技术公布日:2017.03.08

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