等。
[0067]作为引发剂，能够举出例如2，2—二甲氧基一 1，2—二苯乙烷一 1 一酮、1 一羟基一环己苯酮、2 —羟基一 2 —甲基一 1 一苯基丙烷一 1 一酮等。
[0068]另外，光固化树脂组合物可以对应需要包含填料、功能性添加剂、溶剂、无机材料、颜料、防带电剂、增感色素等。作为填料，可以使用例如无机微粒子或有机微粒子的任一种。作为无机微粒子，能够举出例如Si02、Ti02、Zr02、Sn02、A103等的金属氧化物微粒子。作为功能性添加剂，能够举出例如致均剂、表面调整剂、吸收剂、消泡剂等。
实施例
[0069]<4.实施例 >
以下，对本发明的实施例进行说明。在本实施例中，利用内部应变或表面起伏不同的圆筒基体材料制作原盘，并对反射光强度分布及图案排列进行了评价。此外，本发明并不局限于这些实施例。
[0070]如下进行圆筒基体材料的内部应变的测定、圆筒基体材料的表面起伏的测定、原盘的反射光强度分布的观察及原盘的图案排列的观察。
[0071][圆筒基体材料的内部应变的测定]
利用应变测定器(SVP —纵型，ASAHI TECHNO GLASS制)，测定了圆筒基体材料的内部应变。
[0072][圆筒基体材料的表面起伏的测定]
利用表面形状粗糙度测定机(Form Talysurf PGI 1250A，TAYLOR HOBSON制)，测定了圆筒基体材料的表面起伏。
[0073][原盘的反射光强度分布的测定]
使原盘旋转，并且一边使搭载激光(λ = 650nm)和受光元件(Η)光电二极管)的测定头沿原盘的高度方向移动，一边测定激光的反射强度，记录并地图(map)化而得到表示原盘的反射光强度分布的二维图像。
[0074][原盘的图案排列的观察]
利用扫描型电子显微镜(SEM:Scanning Electron Microscope)，进行了原盘表面的观察。
[0075][实施例1]
准备了内部应变小于20nm/cm、外周表面的周期10mm以下的起伏的振幅为lOOnm以下的石英玻璃的圆筒基体材料。图8是示出实施例1的圆筒基体材料的内部应变的图像。通过应变测定器得到与因内部的残留应力而引起的双折射量对应的有色图像，显示小于20nm/cm的内部应变。
[0076]在该圆筒基体材料的外周表面成膜了由钨的金属氧化物构成的抗蚀剂层。然后，利用曝光装置通过激光的热压印，在抗蚀剂层构图了呈准六方格子图案的潜影。接着，对圆筒基体材料上的抗蚀剂层实施显影处理，使曝光部分的抗蚀剂溶解。由此，得到抗蚀剂层以准六方格子图案开口的抗蚀剂原盘。接着，利用蚀刻装置，对抗蚀剂原盘进行RIE蚀刻，形成朝向相对于玻璃辊的表面的垂直方向的凹部。最后，通过抛光完全除去抗蚀剂图案。通过上述，得到目标玻璃滚筒主盘(原盘)。
[0077]图9及图10分别是示出实施例1的原盘的反射光强度分布的二维图像及实施例1的原盘的图案排列的SEM图像。如图9所示实施例1的原盘的反射光强度分布均匀，另外，如图10所示也没有发生图案错乱。
[0078][比较例1]
准备了包含内部应变约70nm/cm的带状区域、外周表面的周期10mm以下的起伏的振幅为lOOnm以下的石英玻璃的圆筒基体材料。图11是示出比较例1的圆筒基体材料的内部应变的图像。通过应变测定器得到与因内部的残留应力而引起的双折射量对应的有色图像，出现内部应变约70nm/cm的带状区域。利用该圆筒基体材料，与实施例1同样地制作了玻璃滚筒主盘(原盘)。
[0079]图12及图13分别是示出比较例1的原盘的反射光强度分布的二维图像及比较例1的原盘的图案排列的SEM图像。如图12所示比较例1的原盘的反射光强度分布为带状。另外，通过透射光检查在带状区域内观察到白浊。另外，如图13所示在带状区域内发生了图案错乱。
[0080][实施例2]
准备了内部应变小于20nm/cm、外周表面的周期10mm以下的起伏的振幅为约50nm的石英玻璃的圆筒基体材料。图14是示出实施例2的圆筒基体材料的表面起伏的图表。实施例2的外周表面中的圆周方向的起伏的振幅小到50nm左右。利用该圆筒基体材料，与实施例1同样地制作了玻璃滚筒主盘(原盘)。
[0081]图15是示出实施例2的原盘的反射光强度分布的二维图像。如图15所示实施例2的原盘的反射光强度分布均匀。
[0082][比较例2]
准备了内部应变小于20nm/cm、外周表面的周期10mm以下的起伏的振幅为约lOOnm的石英玻璃的圆筒基体材料。图16是示出比较例2的圆筒基体材料的表面起伏的图表。比较例2的外周表面中的圆周方向的起伏在5mm间距振幅为lOOnm左右。利用该圆筒基体材料，与实施例1同样地制作了玻璃滚筒主盘(原盘)。
[0083]图17是示出比较例2的原盘的反射光强度分布的二维图像。如图17所示比较例2的原盘的反射光强度分布产生沿着起伏的条纹状的特性分布。
[0084][评价结果]
如比较例1所示，在采用利用抗蚀剂材料的热变化的热压印法曝光期望的图案时，圆筒基体材料的内部应变为70nm/cm以上的情况下，因曝光时的热而石英表面发生变动，会引起曝光图案错乱，反射光强度产生带状的分布。另外，因伴随图案排列错乱的透射散射光而在透射光检查中产生白浊区域。
[0085]另一方面，如实施例1所示，在圆筒基体材料的内部应变小于70nm/cm的情况下，曝光图案错乱得到抑制，能得到面内均匀的反射光强度分布，也没有产生起因于衍射光的白浊区域。
[0086]另外，如比较例2所示，在圆筒基体材料的外周表面中的圆周方向的周期10mm以下的起伏的振幅为lOOnm以上的情况下，描绘期望的图案时，无法令聚焦伺服机构跟随，弓丨起曝光图案的尺寸变动，反射光强度分布产生沿着起伏的条纹状的特性分布。
[0087]另一方面，如实施例2所示，在圆筒基体材料的外周表面中的圆周方向的周期10mm以下的起伏的振幅小于lOOnm的情况下，能够抑制曝光图案的尺寸变动，反射光强度分布均匀。
[0088] 标号说明
10原盘；11圆筒基体材料；12结构体；13抗蚀剂层；14潜影；20激光；21激光源；22电光元件；23反射镜；24光电二极管；25调制光学系统；26聚光透镜；27音响光学元件；28准直透镜；29成型机；30驱动器；31反射镜；32移动光学台；33光束扩展器；34物镜；35主轴电动机；36转台；37控制机构；41蚀刻反应槽；42圆柱电极；43对置电极；44级间耦合电容器；45高频电源；51基体供给辊；52卷绕辊；53、54导向辊；55夹持辊；56剥离辊；57涂敷装置；58光源；61基体；62树脂层。
【主权项】
1.一种圆筒基体材料，由圆筒形状的石英玻璃构成， 内部应变以双折射量为小于70nm/cm。2.如权利要求1所述的圆筒基体材料，其中所述内部应变以双折射量为20nm/cm以下。3.如权利要求1或2所述的圆筒基体材料，其中外周表面中的圆周方向的周期10mm以下的起伏的振幅为小于lOOnm。4.如权利要求1或2所述的圆筒基体材料，其中外周表面中的圆周方向的周期10mm以下的起伏的振幅为50nm以下。5.—种原盘，具备: 所述权利要求1至4的任一项所述的圆筒基体材料；以及 由在所述圆筒基体材料的外周表面排列多个的凹部或凸部构成的结构体。6.一种原盘的制造方法，包括: 抗蚀剂成膜工序，在所述权利要求1至4的任一项所述的圆筒基体材料的外周表面成膜抗蚀剂层； 曝光工序，在所述抗蚀剂层形成潜影； 显影工序，对形成所述潜影的抗蚀剂层进行显影；以及 蚀刻工序，以所述显影的抗蚀剂层的图案为掩模进行蚀刻，形成由在所述圆筒基体材料的外周表面排列多个的凹部或凸部构成的结构体。7.如权利要求6所述的原盘的制造方法，其中在所述曝光工序对所述抗蚀剂层照射激光而形成潜影。8.如权利要求7所述的原盘的制造方法，其中在所述曝光工序利用热压印形成潜影。9.如权利要求6所述的原盘的制造方法，其中在所述蚀刻工序利用干法蚀刻形成结构体。10.一种光学元件的制造方法，使光固化树脂层密合到所述权利要求5所述的原盘的外周表面，使该光固化树脂层固化剥离，对光固化树脂层转印所述原盘的结构体。
【专利摘要】提供能够均匀地转印微细图案的圆筒基体材料、原盘及原盘的制造方法。使用由圆筒形状的石英玻璃构成且内部应变以双折射量为小于70nm/cm的圆筒基体材料（11）。在该圆筒基体材料（11）的外周表面成膜抗蚀剂层，并在抗蚀剂层形成潜影，使形成潜影的抗蚀剂层显影，并以显影的抗蚀剂层的图案为掩模进行蚀刻，形成由在圆筒基体材料（11）的外周表面排列多个的凹部或凸部构成的结构体（12）。
【IPC分类】B29L11/00, C03B20/00, B29C59/04, G03F7/09, G11B7/26, B29C33/38, G03F7/004
【公开号】CN105408265
【申请号】CN201480043133
【发明人】村本穣, 菊池正尚, 梶谷俊一, 音羽孝聪, 高桥康弘
【申请人】迪睿合株式会社
【公开日】2016年3月16日
【申请日】2014年12月4日
【公告号】DE112014004375T5, WO2015093308A1