双轴取向聚酯膜和使用双轴取向聚酯膜的脱模膜的制作方法

文档序号:3619817阅读:171来源:国知局
专利名称:双轴取向聚酯膜和使用双轴取向聚酯膜的脱模膜的制作方法
技术领域
本发明涉及一种脱模膜,其中,在各种光学检测适应性优异、且低聚物向膜表面的析出量极少的聚酯膜上设置有脱模层,该脱模膜例如,不仅用于制造在液晶显示器(以下有时简记为IXD)中使用的偏光板、相位差板等IXD组成构件,制造等离子体显示器面板(以下有时简记为rop)组成构件,制造有机电致发光(以下有时简记为有机EL)组成构件等各种显示器组成构件,还适合于各种光学用途等。
背景技术
以往,以聚酯膜为基材的脱模膜,用于制造液晶偏光板、相位差板组成构件,制造PDP组成构件,制造有机EL组成构件等各种显示器组成构件等,在各种光学用途等中使用。作为脱模膜使用上的问题,可以列举在高温下在脱模层表面析出的低聚物在制造工序内产 生各种故障。近年来,伴随IT (Information Technology)领域的飞跃发展,随着制造IXD、PDP、有机EL等显示构件时所使用的脱模膜品质提高,存在伴随低聚物析出的各种问题明显化的情况。为了应对上述各种用途,不仅希望脱模性优异,而且希望膜表面的杂质极少。SP,这是因为特别也有透过光观察的所谓重视视觉辨认性的用途,所以甚至是在通常的膜用途中完全没有问题的膜表面的杂质也会造成大问题。例如,列举液晶偏光板的制造工序的一例,该制造工序虽然包括经由粘接剂层贴合脱模膜和偏光板并缠绕为卷状的工序等,但可以认为低聚物是经过粘接剂涂布后的干燥工序而析出的。在脱模层表面析出的低聚物向贴合的对方的粘接剂层表面转移,在将附着低聚物的带有粘接剂层的偏光板与玻璃基板贴合而制造LCD时,有时会产生得到的LCD的亮度下降等的弊端。近年来,以提高LCD的视觉辨认性为目的,有将显示画面的亮度进一步提高的趋势,上述弊端越来越成为严重的问题。另一方面,以实现制造成本伴随生产率提高而降低为目的,伴随制造工序的高速化,特别有将干燥工序中的干燥温度设定得高的趋势,因为上述的低聚物更容易析出、污染辊而造成在生产中带来障碍的状况。在伴随液晶偏光板的显示能力、色相、对比度、杂质混入等光学评价的检测工序中,采取由目测或使用放大镜进行的防止缺陷品流出的对策,但在使用结晶化的低聚物附着的脱模膜时,因杂质混入而判断为不良品,存在产生制品成品率下降等弊端的问题。不仅上述的杂质问题,而且液晶显示装置的组成构件等,为了评价显示能力、色相、对比度等,通常也是适时地进行检测。但是,将以往的双轴取向聚酯作为基材使用的脱模膜,因为具有各向异性,所以对于伴随光学评价的检测造成障碍,在检测中进行如下操作预先暂时剥离除去该表面保护膜,在检测结束后再次重新贴合新的表面保护膜。用新的表面保护膜重新贴合,是因为表面保护膜即使能够再贴合,但如果再贴合就有损美观程度的缘故。在上述的检测中,表面保护膜的剥离和再贴合,在工序上需要2个工序,在极度地追求成本降低的该领域中,成为大的障碍。作为解决上述问题的方法,提出将双轴取向聚酯的取向主轴的方向制成实质上与偏光板或相位差板的取向轴的方向相同,或以90°进行叠层的方法,但在使用双轴取向聚酯膜的方法中,因为难以严格控制取向主轴的方向,所以有成品率变差的问题。现有技术文献专利文献 专利文献I :日本特开平6-16941号公报专利文献2 :日本特开平7-3215号公报专利文献3 :日本特开2000-44904号公报专利文献4 日本特开2000-238441号公报专利文献5 :日本特开平7-101026号公报专利文献6 :日本特开2001-335649号公报专利文献7 :日本特开2001-62960号公报

发明内容
发明所要解决的课题本发明是鉴于上述实际情况而完成的,其解决课题是提供双轴取向聚酯膜和使用该双轴取向聚酯膜的脱模膜,其能够容易地检测出在光学检测中的缺陷,低聚物析出量极少,例如,不仅用于制造液晶偏光板、相位差板等液晶组成构件,制造PDP组成构件,制造有机EL组成构件等各种显示器组成构件,还适合于各种光学用途等。用于解决课题的方法本发明的发明者们鉴于上述实际情况进行了深入研究,结果发现根据具有特定结构的膜,就能够容易解决上述课题,从而完成了本发明。S卩,本发明的第I要点在于一种双轴取向聚酯膜,其特征在于,其为取向主轴方向为11度以下且在膜浊度值为10 25 %的聚酯膜的至少一个面具有含有硅烷化合物涂布层的膜,将该膜以180°C加热5分钟时的上述涂布层表面的低聚物量为3. Omg/m2以下,本发明的第2要点在于一种脱模膜,其特征在于,其为在上述聚酯膜的涂布层上设置有脱模层的膜,该膜的剥离力为10 lOOmN/cm范围。发明的效果根据本发明,就能够提供双轴取向聚酯膜和使用该双轴取向聚酯膜的脱模膜,其能够容易地检测出在光学检测中的缺陷,低聚物析出量极少,例如,不仅用于制造液晶偏光板、相位差板等液晶组成构件,制造PDP组成构件,制造有机EL组成构件等各种显示器组成构件,还适合于各种光学用途等,本发明的工业价值高。
具体实施例方式以下,详细说明本发明。作为本发明的聚酯,例如代表性地可以列举结构单元的80摩尔%以上为对苯二甲酸乙二醇酯的聚对苯二甲酸乙二醇酯、结构单元的80摩尔%以上为2,6-萘二甲酸乙二醇酯的聚2,6-萘二甲酸乙二醇酯、结构单元的80摩尔%以上为对苯二甲酸1,4-环己烷二甲醇酯的聚对苯二甲酸1,4-环己烷二甲醇酯等。其它可以列举聚间苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸1,4-丁二醇酯等。作为上述优势构成成分以外的共聚成分,例如,可以使用丙二醇、1,3_ 丁二醇、2,3- 丁二醇、季戊二醇、丙二醇、丁二醇、己二醇、二甘醇、三甘醇、聚乙二醇、聚丁二醇、聚亚烷基二醇等的二醇成分,间苯二甲酸、2,7-萘二甲酸、间苯二甲酸-5-磺酸钠、草酸、丙二酸、琥珀酸、己二酸、壬二酸、癸二酸、二苯醚二甲酸和羟基一元羧酸等的酯形成性衍生物。另外,作为聚酯,在均聚物或共聚物以外,也可以使用与其他树脂的小比例的掺合物。作为在聚对苯二甲酸乙二醇酯中掺合的树脂的例子,例如,可以列举间苯二甲酸共聚物、对苯二甲酸环己烷二甲醇酯共聚物、聚乙二醇共聚物等的各种共聚聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯和共聚聚萘二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯等。本发明的聚酯膜的特性粘度通常为0. 40 0. 90,优选为0. 45 0. 80,更优选为0. 50 0. 70的范围。特性粘度小于0. 40,则膜的机械强度有变弱的倾向,特性粘度大于 0. 90时,则熔融粘度变高,有时会产生给挤出机带来负荷,或增加制造成本等的问题。以往,作为减少膜的低聚物的方法,使用由固相聚合预先使聚合物中的低聚物量减少、将最终膜的低聚物减少的处理方法,但固相聚合时,有因为特性粘度变高或工序增加而成本上升的问题。另外,在膜制造工序的挤出机中,熔融温度变高或滞留时间变长时,就会观察不到使低聚物减少的效果。作为向聚酯膜赋予滑动性并且调整膜浊度值的优选方法,使用在聚酯膜中配合颗粒的方法。能够通过所配合的惰性颗粒种类、粒径、含量来调整膜浊度值。作为在聚酯膜中含有的惰性颗粒,例如,可以列举二氧化硅、碳酸钙、碳酸镁、碳酸钡、硫酸钙、磷酸钙、磷酸镁、高岭土、氧化铝、氧化钛等的颗粒。另外,也可以使用在日本特公昭59-5216号公报、日本特开昭59-217755号公报等中记载的耐热性有机颗粒。作为其它耐热性有机颗粒的例子,可以列举热固性尿素树脂、热固性酚醛树脂、热固性环氧树脂、苯并三聚氰二胺树脂等。在膜原料的制造工序中,还可以使用使催化剂等金属化合物的一部分沉淀、微分散得到的析出颗粒。另一方面,关于使用的颗粒的形状并没有特别限定,可以使用球状、块状、棒状、扁平状等任意I种形状。另外,关于其硬度、比重、色泽等也没有特别限制。这些一系列的颗粒可以根据需要并用2种以上。另外,使用的颗粒的平均粒径通常为0. I 5iim、优选为0. 2 3iim的范围。平均粒径小于0. I y m时,颗粒容易凝集,有时分散性会变得不充分,或不能提高膜浊度。另一方面,在大于5 Pm时,膜的表面粗糙度变得过粗,在后续工序中,在涂布设置各种表面功能层时等有时会产生问题。另外,聚酯层中的颗粒含量通常为0. 05 5重量%、优选为0. 003 3重量%的范围。颗粒含量小于0.05重量%时,有时膜的滑动性不充分,或不能提高膜浊度。另一方面,添加大于5重量%时,有膜浊度变得过高的倾向。作为在聚酯中添加颗粒的方法,没有特别限定,能够采用现有公知的方法。例如,可以在将聚合物聚合的任意阶段中添加。
另外,通过如下等方法进行使用带有通风孔的混炼挤出机,掺合在乙二醇或水等中分散的颗粒的浆料与聚酯原料的方法,或使用混炼挤出机,将干燥得到的颗粒与聚酯原料掺合的方法。另外,在本发明的聚酯膜中,在上述颗粒以外,根据需要还可以添加现有公知的抗氧化剂、防静电剂、热稳定剂、润滑剂、染料、颜料等。本发明的聚酯膜,在至少I个表面设置含有硅烷化合物的涂布层,将以180°C热处理10分钟后的涂布层表面的低聚物量设为3. Omg/m2以下,优选设为2. 8mg/m2以下,更优选设为I. 60mg/m2以下,特别优选设为I. 00mg/m2以下。表面低聚物量大于3. Omg/m2时,在脱模膜和粘接层的加热制造工序中,因为表面低聚物会成为杂质而不理想。为了达到上述目的,在本发明中,在防止低聚物析出的方面,以设置含有硅烷化合物剂的涂布层为特征,但在没有含有硅烷化合物的涂布层时,因为由热处理而在膜表面大量析出低聚物,所以在生产工序中用于搬运膜的辊会被低聚物污染,或析出的低聚物成为 杂质而不理想。含有硅烷化合物的涂布层,例如通过使用硅烷偶联剂形成,所谓硅烷偶联剂是在I个分子中具有至少2种反应性不同的官能团,一般是YRSiX3所示的化合物。其中,Y为乙稀基、环氧基、氣基等的有机官能团,R为亚甲基、亚乙基、亚丙基等那样的亚烷基,X为甲氧基、乙氧基等那样的可水解基团和烷基,但在本发明中供给的硅烷偶联剂,优选Y为氨基。在Y为乙烯基或环氧基时,有低聚物的密封效果变少的倾向。作为具体的化合物,例如,可以列举N-P (氨基乙基)Y-氨基丙基三甲氧基硅烷、N- ^ (氛基乙基)Y _氛基丙基二乙氧基娃烧、N-0 (氛基乙基)Y-氛基丙基甲基二甲氧基娃烧等。就在本发明中使用的优选的硅烷偶联剂而言,硅烷偶联剂是下述通式所示的化合物。Y_(CH2)3_Si_(X)3(上述式中,X表示-OCH3 或-OCH2CH3, Y 表示-NH2 或-NHCH2CH2NH2)就更优选的硅烷偶联剂而言,硅烷偶联剂是下述通式所示的化合物。Z_(CH2)3_Si_(X)3(上述式中,X表示-OCH3 或-OCH2CH3, Z 表示-NHCH2CH2NH2。)在含有本发明的硅烷化合物的防低聚物析出层中,根据需要,可以并用上述硅烷偶联剂以外的水溶性或水分散性的粘合剂树脂。作为这样的粘合剂树脂,例如,可以列举聚乙烯醇、聚酯、聚氨酯、丙烯酸树脂、乙烯基树脂、环氧树脂、酰胺树脂等。它们也可以通过各自的骨架结构共聚等而实质性上具有复合结构。作为具有复合结构的粘合剂树脂,例如,可以列举丙烯酸树脂接枝聚酯、丙烯酸树脂接枝聚氨酯、乙烯基树脂接枝聚酯、乙烯基树脂接枝聚氨酯等。在作为本发明目的的防止低聚物向膜表面析出上,优选在上述粘合剂中使用聚乙烯醇。以重量份计,粘合剂成分的配合量相对于涂布层优选为50重量份以下的范围,更优选为30重量份以下的范围。在本发明的膜的涂布层中,根据需要,还可以包含交联反应性化合物。
作为交联反应性化合物,选自羟甲基化或烷羟基(alkylol)化的尿素类、三聚氰胺类、三聚氰二胺类、丙烯酰胺类、聚酰胺类等的化合物、聚胺类、环氧化合物、噁唑啉化合物、氮丙唳化合物、嵌段异氰酸酯化合物、娃烧偶联剂、钛偶联剂、招错(zircoaluminate)类偶联剂、金属螯合物、有机酸酐、有机过氧化物、热或光反应性的乙烯基化合物或感光性树脂等的多官能低分子化合物和高分子化合物。交联反应性化合物通过与主要在涂布层中含有的树脂所具有的官能团进行交联反应,能够改善涂布层的凝集性、表面硬度、耐擦伤性、耐溶剂性、耐水性。例如,上述官能团为羟基时,作为交联反应性化合物,优选三聚氰胺类化合物、嵌段异氰酸酯化合物、有机酸酐等,上述官能团为有机酸及其酸酐时,作为交联反应性化合物,优选环氧类化合物、三聚氰胺类化合物、噁唑啉类化合物、金属螯合物等,上述官能团为胺类时,作为交联反应性化合物,优选环氧类化合物等,优选选择使用与涂布层中包含的树脂所具有的官能团的交联反应效率高的交联反应性化合物。交联反应性化合物,只要在I个分子中包含2个以上的反应性官能团,则既可以为低分子量化合物,也可以为具有反应性官能团的高分子聚合物中的任意化合物。 交联反应性化合物的配合量,相对于涂布层,以重量比计,优选50重量份以下的范围,更优选30重量份以下的范围,特别优选15重量份以下的范围。在本发明的涂布层中,根据需要,为了改善涂布层的滑动性,还可以包含惰性颗粒。涂布层的厚度优选在0. 01 2 ii m的范围,更优选在0. 03 0. 5 ii m的范围,特别优选在0. 06 0. 2 ii m的范围。涂布层的厚度小于0. 01 ii m时,有时不能得到充分的防止低聚物析出的效果,大于2 ii m时,有抗粘连性不充分的倾向。作为本发明膜的基材的双轴取向聚酯膜,取向主轴的倾斜度为11度以下,优选为9度以下。另外,在这里所谓的取向主轴的方向被称为取向角,是指相对于膜宽度方向或纵向的主轴的倾斜度。在使用取向主轴的倾斜度大于11度的双轴取向聚酯膜的脱模膜中,在正交尼科耳棱镜检测时,漏光大,给杂质和伤等的缺陷检测带来障碍。取向主轴的方向,能够通过变更纵向拉伸中的温度和拉伸倍率、横向拉伸中的温度和拉伸倍率、以及松弛处理等的条件来调整。本发明为了使偏光板的杂质和伤等的缺陷检测更容易,将膜浊度值设为10 25%,优选设为14 21%的范围。浊度值小于10%时,光透过聚酯膜时的散射光少,检测性良好,在聚酯膜表面存在伤时,在检测时,聚酯膜表面的伤明显,就不能准确地进行检测体本身的缺陷检测。另外,浊度值大于25%时,表面的散射光多,在检测中应该检测出的缺陷没有被检测出而不理想。另外,本发明的聚酯膜优选2层结构以上的构成。能够通过配合在中间层中添加的颗粒来调整膜浊度,通过配合在表层中添加的颗粒来调整膜的表面性。本发明通过在膜中配合的颗粒,调整膜浊度,但在单层的情况下,在提高膜浊度时,因为进行大量地配合颗粒等的方法,所以膜两面的表面粗糙度变大。在将表面粗糙度大的聚酯膜用作脱模膜的情况下,在将脱模膜贴合于偏光板的粘接材料时,有时因为表面突起的影响而卷入气泡,或者在脱模膜的表面转印于粘接材料的表面而在面板上贴合偏光板时,有时会产生气泡。本发明膜的厚度通常为10 IOOiim的范围,优选为20 75 iim的范围,更优选为20 50iim的范围。大于该范围时,有时膜的处理性会变差,或制造成本上升。接着,具体说明本发明的聚酯膜的制造例,但不受以下的制造例任何限定。S卩,优选使用先前说明的聚酯原料,以冷却辊冷却固化从模头挤出的熔融片,得到未拉伸片的方法。此时,为了提高片的平面性,必须提高片与旋转冷却鼓的附着力,优选采用静电施加附着法和/或液体涂布附着法。接着,得到的未拉伸片在双轴方向上被拉伸。此时,首先将上述未拉伸片在I个方向由辊或拉幅机方式的拉伸机进行拉伸。拉伸温度通常为70 120°C,优选为80 110°C,拉伸倍率通常为2. 5 7倍,优选为3. 0 6倍。接着,在垂直相交于第I段拉伸方向的方向上拉伸,此时,拉伸温度通常为70 170°C,拉伸倍率通常为3. 0 7倍,优选为3. 5 6倍。然后,继续以180 270°C的温度在紧拉下或30%以内的松弛下进行热处理,得到双轴取向膜。 在上述拉伸中,也可以采用将I个方向的拉伸以2阶段以上进行的方法。此时,优选以最终2个方向的拉伸倍率分别为上述范围的方式进行。另外,在本发明中,关于构成脱模膜的聚酯膜的制造,也可以采用同时双轴拉伸法。所谓同时双轴拉伸法是在将上述未拉伸片通常以70 120°C、优选以80 110°C,在温度被控制状态下在机械方向和宽度方向上同时进行拉伸使其取向的方法,作为拉伸倍率,以面积倍率计为4 50倍,优选为7 35倍,更优选为10 25倍。然后,继续以170 2500C的温度在紧拉下或30%以内的松弛下进行热处理,得到拉伸取向膜。关于采用上述拉伸方式的同时双轴拉伸装置,可以采用螺旋方式、缩放方式、线性驱动方式等现有公知的拉伸方式。在聚酯膜表面形成涂布层的方法没有特别限制,但适合采用在制造聚酯膜的工序中涂敷涂布液的方法。具体而言,可以列举在未拉伸片表面涂敷涂布液进行干燥的方法,在单轴拉伸膜表面涂敷涂布液进行干燥的方法,在双轴拉伸膜表面涂敷涂布液进行干燥的方法等。其中,在未拉伸膜或单轴拉伸膜表面涂敷涂布液后,对膜进行热处理的过程中同时将涂布层干燥固化的方法较为经济。另外,作为形成涂布层的方法,根据需要,也能够采用并用上述涂布方法中的几种的方法。具体而言,可以列举在未拉伸片表面涂布第一层进行干燥,然后在单轴方向上拉伸后涂布第二层进行干燥的方法等。作为在聚酯膜表面涂敷涂布液的方法,可以使用在原崎勇次著、稹书店、1979年发行的一 f ^ 方式(译文涂布方式)”中所示的逆向辊式涂布、照相凹版涂布、棒式涂布、气刀式涂布等。在本发明中使用的涂布液,通常从安全性和卫生性的观点出发,优选将水作为主要介质进行调制。只要在以水为主要介质的情况下,以改善向水的分散的目的或以改善成膜性能的目的,也可以含有少量有机溶剂。在与主要介质的水混合使用时,有机溶剂优选以在水中溶解的范围使用,但如果是长时间放置不分离那样稳定的乳浊液(乳液),也可以以在水中不溶解的状态使用。有机溶剂可以单独使用,单根据需要,也可以并用2种以上。在本发明中,在涂布层上形成的脱模层只要是含有具有脱模性的材料,就没有特别限定。其中,通过含有固化型有机硅树脂的脱模层而脱模性变得良好故而优选。既可以使用以固化型有机硅树脂为主要成分的类型,也可以使用通过与聚氨酯树脂、环氧树脂、醇酸树脂等有机树脂的接枝聚合等产生的改性有机硅类型。作为固化型有机硅树脂的种类,可以使用加成型、缩聚型、紫外线固化型、电子束固化型、无溶剂型等中的任意I种固化反应类型。列举具体例子,可以列举信越化学工业(株)生产的KS-774、KS-775、KS-778、KS-779H、KS-847H、KS-856、X-62-2422、X-62-2461,DowCorningAsia (株)生产的 DKQ3-202、DKQ3-203、DKQ3-204、DKQ3-205、DKQ3-210,Toshiba Silicone Co.,Ltd (株)生产的YSR-3022、TPR-6700、TPR-6720、TPR-6721、Dow Corning Toray Co. , Ltd.(株)生产的SD7220、SD7226、SD7229等。为了调整脱模层的剥离性等,还可以并用剥离控制剂。另外,如上所述有时也在脱模层中添加具有氨基 的硅烷化合物。在本发明中,作为在聚酯膜上设置脱模层的方法,可以使用逆向辊式涂布、照相凹版涂布、棒涂、刮刀涂布等现有公知的涂布方式。在本发明中的脱模层的涂布量,通常为0. 01 lg/m2的范围。在本发明中,在不设置脱模层的面,可以设置粘接层、防静电层、防低聚物析出层等的涂布层,另外,也可以在聚酯膜上施加电晕处理、等离子体处理等的表面处理。本发明的脱模膜的剥离力为10 100mN/cm,优选为10 50mN/cm的范围。剥离力小于10mN/cm时,剥离力变得过轻,即使在本来不需要剥离的情况下,有时也会产生容易剥离的弊端,另一方面,在大于100mN/cm时,剥离力变得过重,在剥离时粘接剂变形,由于在后面的工序中产生问题,或粘接剂附着于脱模膜侧,故而不理想。另外,粘接剂层或脱模层的涂膜干燥和/或固化(热固化、电离放射线固化等)可以各自分别或同时进行。在同时进行时,优选以80°C以上的温度进行。作为干燥和固化的条件,优选以80°C以上进行10秒钟以上。干燥温度低于80°C或固化时间小于10秒时,涂膜的固化不完全,由于涂膜变得易于脱落而不理想。实施例接着,列举实施例进一步说明本发明。但本发明只要不超出其要点,就不受以下的实施例限定。另外,在以下的实施例、比较例中的物性评价方法如下。( I)聚酯的特性粘度的测定精密称量Ig聚酯,加入IOOml苯酚/四氯乙烷=50/50 (重量比)的混合溶剂,使其溶解,在30°C测定。(2)平均粒径(Cl5O)将使用岛津制作所生产的离心沉降式粒度分布测定装置(SA-CP3型)测定得到的等值球形分布中的累计体积分率50%的粒径作为平均粒径d50。(3)取向主轴的方向(取向角)的测定使用卡尔 蔡司公司(Carl Zeiss)生产的偏光显微镜,观察聚酯膜的取向,测定聚酯膜面内的主取向轴的方向相对于聚酯膜的宽度方向倾斜多少度,作为取向角。对于得到该测定的膜的中央部和两端的共计3处实施,将3处之内最大的取向角值作为最大取向角。(4)膜浊度根据JIS-K6714,由株式会社日本电色工业生产的分球式浊度计NDH-20D测定膜的浊度。(5)膜的热处理重叠A4尺寸的绘图纸(Kent paper)和进行热处理的聚酯膜。此时,以具有涂布层的面为外侧的方式,用曲别针等将四角夹住,将绘图纸和聚酯膜固定。在氮气氛下,在180°C的烘箱中放置上述聚酯膜10分钟进行热处理。(6)热处理后的膜表面低聚物量以上部开放、底边的面积为250cm2的方式,折叠热处理后的聚酯膜,制成四方形的箱。设置涂布层时,将涂布层面设为内侧。接着,在以上述方法制成的箱中加入IOml的DMF,·放置3分钟后回收DMF。将回收的DMF供给液相色谱(岛津LC-7A),求出DMF中的低聚物量,将该值除以与DMF接触的膜面积,作为膜表面低聚物量(mg/m2)。DMF中的低聚物量由标准试样峰面积和测定试样峰面积的峰面积比求出(绝对校正曲线法)。标准试样的制成,准确称量预先分离获得的低聚物(环状三聚体),溶解在准确称量得到的DMF中而制成。标准试样的浓度优选0. 001mg/ml 0. 01mg/ml的范围。液相色谱的条件如下所述。流动相A :乙腈流动相B :2%乙酸水溶液柱三菱化学(株)生产,MCI GEL ODS IHU柱温40°C流速1ml/分钟检测波长254nm(7)脱模膜的剥离力(F)的评价在试样膜的脱模层表面贴合双面粘接胶带(日东电工生产“No. 502”)的一个面后,剪切为50mmX300mm的尺寸,然后测定在室温放置I小时后的剥离力。剥离力使用拉伸试验机((株)Intesco生产“Intesco model 2001型”),在拉伸速度300mm/分钟的条件下,进行180°剥离。(8)实用特性<在正交尼科耳棱镜下的目测检测性>按照在膜上涂布脱模剂以干燥机温度120°C、线速度30m/min的条件得到的脱模膜的宽度方向,与偏光膜的取向轴平行的方式,经由粘接剂,使脱模膜与偏光膜附着,制成偏光板,在所附着的脱模膜上,以取向轴与膜宽度方向垂直相交的方式,使检测用的偏光板重叠,从偏光板侧照射白色光,用目测观察检测用的偏光板,按照以下基准评价在正交尼科耳棱镜下的目测检测性。另外,在测定时,从相对于得到的膜的宽度方向的中央部和两端部的共计3处,分别切出4A尺寸的样品来实施。“判断基准”〇无光干涉性,能够检测A :有光干涉,但能够检测X :有光干涉,不能检测〇和A为实际使用上没有问题的级别<脱模特性>
通过从具有粘接层的叠层膜剥离脱模膜时的状况,评价脱模特性。〇脱模膜干净地剥离,未见粘接剂附着于脱模层的现象A :脱模膜被剥离,但以快速剥离时,粘接剂附着于脱模层X :粘接剂附着于脱模膜<辊污染状况>在制造具有粘接层的叠层膜时,目测观察制造装置的各辊,评价由低聚物造成的辊的污染状况。〇在制造后的棍表面未见附着物
A :在制造后的辊表面稍微可见附着物,但在制造上为无障碍级别X :在制造后的辊表面可见附着物,必须进行辊清洁。<聚酯(A)的制造>在反应器中以100重量份对苯二甲酸二甲酯和60重量份乙二醇为起始原料,作为催化剂,加入四水合乙酸镁,将反应开始温度设为150°C,随着甲醇的蒸馏除去,使温度缓慢上升,3小时后达到230°C。4小时后,使酯交换反应实质上结束。在该反应混合物中添加酸式磷酸乙酯后,移入缩聚槽,加入0. 04份三氧化二锑,进行4小时缩聚反应。即,将温度从230°C缓慢升温到280°C。另一方面,压力从常压缓慢降低,最终设为0. 3mmHg。反应开始后,由反应槽的搅拌动力变化,在相当于特性粘度0. 63的时刻停止反应,氮加压下使聚合物排出,得到聚酯的片材(A)。该聚酯的特性粘度为0. 63。<聚酯(B)的制造>在聚酯(A)的制造方法中,添加酸式磷酸乙酯后,添加平均粒径0.8iim的合成碳酸钙颗粒的乙二醇浆料,使颗粒相对于聚酯的含量为I重量%,除此以外,使用与聚酯(A)的制造方法同样的方法得到聚酯(B)。得到的聚酯(B)的特性粘度为0. 63。<聚酯(C)的制造>在聚酯(B)的制造方法中,将添加颗粒设为平均粒径I. 5 Pm的合成碳酸钙颗粒,将其相对于聚酯的含量设为I重量%,除此以外,使用与聚酯(B)的制造方法同样的方法得到聚酯(C)。得到的聚酯(C)的特性粘度为0. 63。在以下的实施例、比较例中使用的涂布液用的化合物如下。 涂布液化合物例娃烧偶联剂(A)为N-P (氨基乙基)Y-氨基丙基三甲氧基硅烷,在涂布液配制中,浓度调整的稀释液使用纯水。娃烧偶联剂(B)为N-P (氨基乙基)Y-氨基丙基三乙氧基硅烷,在涂布液配制中,浓度调整的稀释液使用纯水。娃烧偶联剂(C)为Y-氨基丙基三甲氧基硅烷,在涂布液配制中,浓度调整的稀释液使用纯水。娃烧偶联剂(D)为N-苯基-Y -氨基丙基三甲氧基硅烷,在涂布液配制中,浓度调整的稀释液使用纯水。
硅烷偶联剂(E)为Y-环氧丙氧基丙基三乙氧基硅烷,在涂布液配制中,因为在纯水中难以溶解,所以浓度调整的稀释液使用2%乙酸水溶液。PVA类树脂皂化度=88摩尔%、聚合度=500的聚乙烯醇涂布液-A的配制配制含有90重量%硅烷偶联剂(A)、10重量% PVA类树脂的涂布液。涂布液的固体成分浓度设为2重量%。涂布剂-B E
在涂布剂-A的配制中,将涂布液变更为下述表示的配合以外,以与涂布液-A的配制同样的方法,得到涂布液-B F。<涂布液配合>涂布液-A :硅烷偶联剂(A) /PVA类树脂=90/10涂布液-B :硅烷偶联剂(B) /PVA类树脂=90/10涂布液-C :硅烷偶联剂(C) /PVA类树脂=90/10涂布液-D :硅烷偶联剂(D) /PVA类树脂=90/10涂布液-E :硅烷偶联剂(E) /PVA类树脂=90/10涂布液-F的配制配制含有80份聚氨酯水分散体A (大日本化学工业(株)生产的HydranAP-40)、20份聚酯水分散体B (大日本化学工业(株)生产的FINEDIC ES-670 ( 7 r i 'y r -y >7 7^ES-670))的涂布液。在涂布液中,固体成分浓度设为2重量%。聚酯膜-I作为中间层的原料,将70wt%聚酯(A)和30wt%聚酯(B)作为中间层的原料进行混合,作为表层的原料,混合84wt%聚酯(A)和16wt%聚酯(B),分别供给2台带有通风口的挤出机,以290°C熔融挤出后,使用静电施加附着法在将表面温度设定在40°C的冷却辊上冷却固化,得到未拉伸片。接着,在100°C在纵向拉伸2. 8倍后,在该纵向拉伸膜的表面涂敷涂布液-A,在拉幅机内经过预热工序,以120°C施加5. I倍横向拉伸后,以220°C进行10秒钟的热处理,然后,以180°C在横向施加4%的松弛,得到宽4000mm的主卷(masterroll)。从距离该主卷一端1400mm的位置进行开缝,在芯上缠绕1000m,得到聚酯膜-I。得到的膜的总厚度为38 ii m,各自的层厚为4 u m/30 u m/4 u m0聚酯膜-2在聚酯膜-I中,将原料配合变更为在表I中表示的原料配合_2,将涂布液-A变更为涂布液-B,除此以外,与聚酯膜-I同样操作,得到聚酯膜_2。聚酯膜-3在聚酯膜-I中,将原料配合变更为在表I中表示的原料配合_3,除此以外,与聚酯膜-I同样操作,得到聚酯膜-3 5。聚酯膜-4在聚酯膜-I中,将原料配合变更为在表I中表示的原料配合_4,除此以外,与聚酯膜-I同样操作、得到聚酯膜-3 5。
聚酯膜-5在聚酯膜-I中,将涂布液-A变更为涂布液-C,除此以外,与聚酯膜-I同样操作,得到聚酯膜-5。聚酯膜-6在聚酯膜-I中,将涂布液-A变更为涂布液-D,除此以外,与聚酯膜-I同样操作,得到聚酯膜-6。聚酯膜-7在聚酯膜-I中,将纵向的拉伸倍率变更为2. 9倍,除此以外,与聚酯膜的制造-I同样操作,得到聚酯膜-8。
聚酯膜-8在聚酯膜-I中,将纵向的拉伸倍率变更为3. 4倍,将横向的拉伸倍率变更为4. 2倍,除此以外,与聚酯膜-I同样操作,得到聚酯膜_9。聚酯膜-9在聚酯膜-I中,将涂布液-A变更为涂布液-E,除此以外,与聚酯膜-I同样操作,得到聚酯膜-9。聚酯膜-10在聚酯膜-I中,不进行纵向拉伸后的涂布,除此以外,与聚酯膜-I同样操作,得到聚酯膜-10。聚酯膜-11在聚酯膜-I中,将涂布液-A变更为涂布液-F,除此以外,与聚酯膜-I同样操作,得到聚酯膜-U。聚酯膜-12在聚酯膜-I中,将原料配合变更为在表I中表示的原料配合_5,除此以外,与聚酯膜-I同样操作,得到聚酯膜-12。聚酯膜-13在聚酯膜-I中,将原料配合变更为在表I中表示的原料配合_6,除此以外,与聚酯膜-I同样操作,得到聚酯膜-13。[表I]
权利要求
1.一种双轴取向聚酯膜,其特征在于 其为取向主轴的方向为11度以下、且在膜浊度值为10 25%的聚酯膜的至少一个面具有含有硅烷化合物的涂布层的膜,将该膜以180°C加热5分钟时的所述涂布层表面的低聚物量为3. Omg/m2以下。
2.如权利要求I所述的双轴取向聚酯膜,其特征在于 硅烷化合物具有氨基。
3.一种脱模膜,其特征在于 其为在权利要求I所述的膜的涂布层上设置有脱模层的膜,该脱模膜中,剥离力为10 100mN/cm的范围。
全文摘要
本发明提供一种双轴取向聚酯膜和脱模膜,其能够容易地检测出在光学检测中的缺陷、低聚物析出量极少,例如,不仅用于制造液晶偏光板、相位差板等液晶组成构件,制造PDP组成构件,制造有机EL组成构件等各种显示器组成构件,还适合于各种光学用途等。该双轴取向聚酯膜为取向主轴的方向为11度以下、且在膜浊度值为10~25%的聚酯膜的至少一个面具有含有硅烷化合物的涂布层的膜,将该双轴取向聚酯膜以180℃加热5分钟时上述涂布层表面的低聚物量为3.0mg/m2以下,该脱模膜为在该双轴取向聚酯膜的涂布层上设置有脱模层的膜,该脱模膜中,剥离力为10~100mN/cm范围。
文档编号C08J7/04GK102762367SQ20118001020
公开日2012年10月31日 申请日期2011年2月23日 优先权日2010年2月23日
发明者椚原一弘 申请人:三菱树脂株式会社
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