多齿膦配位铜配合物双发射电致发光染料、合成方法及其应用与流程

技术特征：

1.多齿膦配位铜配合物双发射电致发光染料，其特征在于该染料以多齿膦配体与CuX配位构成，分子结构式如下：

所述多齿膦配体为DPPPP、DPNA、PPNADP、PPPNADP或DPNAP，其中X为Cl、Br或I。

2.权利要求1所述多齿膦配位铜配合物双发射电致发光染料合成方法，其特征在于该合成方法如下：

将1mmol多齿膦配体、0.5～1mmol的CuX、5～10ml的二氯甲烷混合，在40-45℃反应10～15小时后，旋干，以DCM和PE为淋洗剂柱层析纯化，得到多齿膦配位铜配合物；

所述多齿膦配体为DPPPP、DPNA、PPNADP、PPPNADP或DPNAP，其中X为Cl、Br或I。

3.根据权利要求2所述多齿膦配位铜配合物双发射电致发光染料合成方法，其特征在于所述的多齿膦配体与CuX的物质的量比为(1～2)∶1。

4.根据权利要求2所述多齿膦配位铜配合物双发射电致发光染料合成方法，其特征在于所述的多齿膦配体与CuX的物质的量比为1∶1。

5.根据权利要求2所述多齿膦配位铜配合物双发射电致发光染料合成方法，其特征在于所述的DCM和PE的混合溶剂中DCM与PE的体积比为1﹕20。

6.根据权利要求2所述多齿膦配位铜配合物双发射电致发光染料合成方法，其特征在于在42℃反应12小时。

7.根据权利要求2所述多齿膦配位铜配合物双发射电致发光染料合成方法，其特征在于在43℃反应13小时。

8.根据权利要求2所述多齿膦配位铜配合物双发射电致发光染料合成方法，其特征在于在44℃反应14小时。

9.根据权利要求2所述多齿膦配位铜配合物双发射电致发光染料合成方法，其特征在于在45℃反应15小时。

10.权利要求1所述多齿膦配位铜配合物双发射电致发光染料应用，其特征在于所述多齿膦配位铜配合物双发射电致发光染料作为发光层的客体材料用于制备电致发光器件。