邻位烷氧基取代吡啶的新合成方法与流程

技术特征：

1.邻位烷氧基取代吡啶的新合成方法，其特征在于：涉及产物的结构式为：

。

2.根据权利要求1所述的邻位烷氧基取代吡啶的新合成方法，其特征在于：采用邻位卤代吡啶为起始原料，在固体氢氧化钠的作用下与相应的醇反应得到单取代烷氧基吡啶或者双取代烷氧基吡啶。

3.根据权利要求2所述的邻位烷氧基取代吡啶的新合成方法，其特征在于：邻位卤代吡啶为氟取代，氯取代，溴取代或者碘取代。

4.根据权利要求2所述的邻位烷氧基取代吡啶的新合成方法，其特征在于：相应的醇为甲醇，乙醇和丙醇等。

5.根据权利要求2所述的邻位烷氧基取代吡啶的新合成方法，其特征在于：单取代烷氧基吡啶的生产中氢氧化钠的用量为1个当量；双取代烷氧基吡啶的生产中氢氧化钠的用量为2.5个当量。

6.根据权利要求2所述的邻位烷氧基取代吡啶的新合成方法，其特征在于：邻位烷氧基吡啶的生产中的反应条件为回流反应。

7.根据权利要求2所述的邻位烷氧基取代吡啶的新合成方法，其特征在于：邻位烷氧基吡啶的生产中的反应时间为4-8小时。