一种疏水溶液及解决片式元件外电极浆料流挂的方法
【专利摘要】本发明公开了一种疏水溶液及解决片式元件外电极浆料流挂的方法，所述疏水溶液包括按体积百分比计量的0.5%～8%的辛烷基三乙氧基硅烷、1.0%～5.0%的正硅酸乙酯、85%～98%的异丙醇、0.1%～0.4%的盐酸以及0.4%～2.0%的冰醋酸，其中冰醋酸的体积百分浓度小于等于2%，盐酸的体积百分浓度小于等于4%。在制作外电极前将待制作外电极的片式元件浸泡于前述的疏水溶液中一段时间，使元件的外表面被疏水溶液覆盖包裹，再将经过浸泡的元件吹干，得到的元件表面具有一层疏水膜层，此时，再在上端电极涂敷电极浆料，将不会发生流挂和爬升等现象，防止了月牙电极的产生。
【专利说明】一种疏水溶液及解决片式元件外电极浆料流挂的方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及疏水溶液以及采用疏水溶液解决片式元件外电极浆料流挂的方法。
【背景技术】
[0002]近年来，随着片式元器件的广泛使用，而对其各方面性能及外观要求也趋于多样化，同时片式元器件某些外观不良又反过来制约某些电性能。比如，片式元器件外电极通常是以物理机械方式浸涂电极浆料形成，电极浆料在产品表面易润湿、扩散、爬升、流挂，固化成型后就会形成半月形的外电极(即月牙电极)，造成产品外观、电性不良。月牙电极在电镀过程会产生尖端放电效应，导致镀层向磁体延伸过快而爬镀，严重时两端外电极连接在一起而造成元件短路；月牙电极会导致产品杂散电容增加，从而影响产品电性能。
[0003]传统的解决上述问题的办法包括:1)通过提高浆料触变指数、黏度，调整浸涂参数，花费大量时间和物力成本，不但效果不显著且一致性、再现性差；2)通过等离子处理对元器件表面进行改性，使电极浆料在产品表面不易润湿、扩散、爬升、流挂，从而解决月牙电极不良。但这些方法需花费高昂的设备、 原料和能源成本，且等离子处理工艺复杂不易操作控制。
【发明内容】
[0004]本发明的目的在于提出一种疏水溶液及采用疏水处理解决片式元件外电极浆料流挂的方法，以克服现有的方法存在处理成本高、工艺复杂不易操控的问题。
[0005]本发明提供的疏水溶液，包括以下组分:
[0006]
【权利要求】
1.一种疏水溶液，包括以下组分:
2.一种解决片式元件外电极浆料流挂的方法，其特征在于:在制作外电极前将待制作外电极的元件进行以下预处理: 51、疏水处理:将待制作外电极的元件浸泡并完全淹没于疏水溶液中，以使所述元件的外表面被所述疏水溶液覆盖包裹，其中，所述疏水溶液包括按体积百分比计量的0.5%~8%的辛烷基三乙氧基硅烷、1.0%~5.0%的正硅酸乙酯、85%~98%的异丙醇、0.1%~0.4%的盐酸以及0.4%~2.0%的冰醋酸，其中所述冰醋酸的体积百分浓度小于等于2%，所述盐酸的体积百分浓度小于等于4% ； 52、吹干:将经步骤SI疏水处理过的元件在300°C以下吹干。
3.如权利要求2所述的`方法，其特征在于:步骤SI中，所述元件在所述疏水溶液中的浸泡时间为5-10min。`
4.如权利要求2所述的方法，其特征在于:步骤S2中，吹干的方式为:将所述元件倒入倾斜式吹干篮中以60-100r/min转速在40°C以下吹干。
5.如权利要求2至4任一项所述的方法，其特征在于，所述预处理还包括: 53、研磨倒角:将步骤S2中吹干后的元件置于倒角罐中，并加入与元件同体积的水和元件体积的1/4~3/4的研磨介质，采用倒角机进行研磨倒角。
6.如权利要求5所述的方法，其特征在于:所述倒角机为行星倒角机，并且以80-1201./min的转速对元件研磨倒角5-8min。
7.如权利要求6所述的方法，其特征在于，所述预处理还包括: 54、分离:完成步骤S3后，采用与元件、所述研磨介质尺寸相匹配的目数的筛网在水中将所述研磨介质和元件分离。
8.如权利要求7所述的方法，其特征在于，所述预处理还包括: ` 55、烘干:将经步骤S4分离得到的元件在300°C以下烘干。
【文档编号】C09D5/00GK103773226SQ201310712504
【公开日】2014年5月7日 申请日期:2013年12月20日 优先权日:2013年12月20日
【发明者】杨日章, 王清华, 陈先仁 申请人:深圳顺络电子股份有限公司