低温快速固化性涂料组合物和固化物品的制作方法
【专利摘要】涂料组合物，包含(A)由具有至少两个氢甲硅烷基的有机氢硅氧烷与含烯基的烷氧基硅烷的氢化硅烷化反应得到的有机硅氧烷，以及(B)有机金属催化剂，所述涂料组合物在低温快速固化。固化的涂料抗开裂。
【专利说明】低温快速固化性涂料组合物和固化物品
【技术领域】
[0001] 该发明涉及包含有机硅氧烷和有机金属催化剂的低温快速固化性涂料组合物及 其固化物品。
【背景技术】
[0002] 含烷氧基甲硅烷基的硅烷和硅氧烷化合物广泛用于油漆和涂料领域。将这些含 烧氧基甲娃烧基的娃氧烧化合物与固化催化剂共混时，烧氧基在常温下反应形成娃氧烧网 络。具有耐热性和耐候性的涂料能够容易形成。因此它们用于从户外建筑覆盖到电子部件 的众多领域。
[0003] 这样的含烷氧基甲硅烷基的硅氧烷化合物通常通过烷氧基硅烷的部分水解制得， 如专利文献1?3中所述。但是，含烷氧基的硅氧烷化合物具有固化速率低的缺点。据认 为，高活性的烷氧基在水解反应期间被消耗，而留下低活性的烷氧基。因此，接下来的固化 反应以低速率进行。
[0004] 专利文献4公开了另一种通过含氢甲硅烷基的有机硅化合物与同时含烯烃和烷 氧基甲硅烷基基团的化合物的氢化硅烷化反应制备含烷氧基甲硅烷基的硅氧烷化合物的 方法。即使通过该方法制备硅氧烷化合物，也没有观察到反应速率的显著提高。
[0005] 专利文献5提出使用含烷氧基甲硅烷基的环状硅氧烷化合物作为形成绝缘膜的 材料。尽管该环状硅氧烷化合物含许多活性烷氧基甲硅烷基，也没有观察到相比于普通的 烧氧基娃烧的反应速率的显者提1?。
[0006] 包含低分子量的含烷氧基甲硅烷基的硅烷或硅氧烷化合物如四甲氧基硅烷的涂 料组合物的反应性高并且，例如在25°C和50% RH的环境中在15分钟内固化。但是，其涂 层为脆性的并且长久用作涂膜时具有机械性能不足，这由在固化过程中的开裂所证实。
[0007] 文献列表
[0008] 专利文献 l:JP1〇l66〇
[0009] 专利文献 2: JP-A HI 1-166052
[0010] 专利文献 3:JP-A2009-263576
[0011] 专利文献 4:JP_A H〇6_27l65〇
[0012] (USP5464901, EP0616011B1)
[0013] 专利文献 5 :JP-A2〇〇5-〇23〇75
[0014] (USP7576230, EP1493746B1)
【发明内容】
[0015] 发明的目的为提供为完全反应性的并且固化成为具有提高的耐开裂性的膜的低 温快速固化性涂料组合物及其固化物品。
[0016] 发明人发现，涂料组合物，其包含（A)有机硅氧烷，其通过使（i)每分子含至少两 个氢甲硅烷基（Si-H)基团的硅氧烷化合物（或有机氢硅氧烷）与（ii)含特定碳链的烯烃 部分与烷氧基甲硅烷基基团的硅烷化合物反应得到，得到的有机硅氧烷每分子具有多个 烷氧基甲硅烷基基团，每个烷氧基甲硅烷基基团通过特定的碳链（即至少6个碳原子的亚 烷基链）键合于有机硅氧烷中的硅原子，以及（B)有机金属催化剂，所述涂料组合物在低 温可快速固化，并且其固化膜具有耐开裂性和耐碱性。
[0017] 一个方面中，本发明提供低温快速固化性涂料组合物，其包含：
[0018] (A)有机硅氧烷，其由每分子具有至少两个氢甲硅烷基基团的有机氢硅氧烷与具 有通式（1)的含烯基的烷氧基硅烷的氢化硅烷化反应得到，
[0019]
【权利要求】
1. 低温快速固化性涂料组合物，其包含： (A) 有机娃氧烧，其由每分子具有至少两个氧甲娃烧基基团的有机氧娃氧烧与具有通 式（1)的含烯基的烷氧基硅烷的氢化硅烷化反应得到，
0) 其中m为4?12的整数，η为0、1或2, R1和R2各自独立地为CfC3烷基或C6-C 1Q芳基， 以及， (B) 有机金属催化剂。
2. 权利要求1所述的涂料组合物，其中所述有机氢硅氧烷为环状硅氧烷。
3. 权利要求1所述的涂料组合物，其中所述有机硅氧烷（A)具有通式（2):
(2) 其中a为6?14的整数，并且b为3?6的整数。
4. 权利要求3所述的涂料组合物，其中所述有机硅氧烷（A)具有通式（3):
(3) 其中b为3?6的整数。
5. 权利要求1所述的涂料组合物，其中所述有机金属催化剂（B)包含钛。
6. 权利要求1所述的涂料组合物，其基本上无溶剂。
7. 权利要求1所述的涂料组合物，其中将所述有机硅氧烷（A)在使用前即刻与所述有 机金属催化剂（B)混合。
8. 权利要求1所述的涂料组合物的固化物品。
【文档编号】C09D183/04GK104119796SQ201410169254
【公开日】2014年10月29日 申请日期:2014年4月25日 优先权日:2013年4月26日
【发明者】山田哲郎, 吉川裕司, 土田和弘 申请人:信越化学工业株式会社