含芴的聚酯丙烯酸酯低聚物及其制备方法和应用的制作方法
【专利摘要】本发明提供了一种含芴的聚酯丙烯酸酯低聚物，该低聚物不仅具有含有芴骨架的低聚物所具有的高耐热性、高透明性、高折射率和低膨胀系数等优异特性，同时由于低聚物中含有酯基，使得低聚物在具有一定柔韧性的同时，具有很好的耐磨性；此外，本发明将酸酐作为酯化反应的原料，提高了酯化反应的活性，同时还可以减弱羧酸与醇的反应，进而使得制备的低聚物的分子量低且低聚物的稳定性好，符合有保护膜的增亮膜领域所需的低聚物的要求；且本发明提供的制备方法简单，反应可控。
【专利说明】含芴的聚酯丙烯酸酯低聚物及其制备方法和应用
【技术领域】
[0001]本发明涉及光学膜材料【技术领域】，尤其涉及一种含芴的聚酯丙烯酸酯低聚物及其制备方法和应用。
【背景技术】
[0002]具有芴骨架的化合物具有高耐热性、高透明性、高折射率、低线性膨胀系数等优异特性，将具有芴骨架的化合物与含有羧基的化合物反应得到的聚合物材料在光学用罩光剂、防反射膜、眼镜透镜、光纤、光波导等光学材料上的应用已成为研究者们关注的主要内容。[0003]在光电材料领域，具体到有保护膜的增亮膜领域，该领域所需的含芴的聚酯低聚物需具有高耐热性、耐磨性以及较高的折射率；目前，制备具有优异性能的含芴的聚酯低聚物的报道也有很多，但是均存在着合成原料对人和环境刺激性大且合成产品性能不稳定等问题，如:日本专利JP2011-105887A公开了一种含有芴骨架的聚酯低聚物，由具有芴骨架的二元醇(如:9，9_双[4-(2-羟乙氧基)苯基]芴)和二羧酸二卤化物(如:对苯二甲酰氯)反应，且将二羧酸二卤化物过量，反应完毕后，再加入碱中和过量的卤化物，制备得到含芴的聚酯低聚物，该法使用二羧酸二卤化物作为反应原料，由于二羧酸二卤化物具有较大刺激性且反应活性高，使得反应不易控制且低聚物的稳定性也差。
[0004]因此，寻求一种可用于有保护膜的增亮膜领域的具有芴骨架的低聚物，且其具有好的稳定性，以及其制备方法简单可控、反应原料低毒或无毒是当前需要解决的技术问题。
【发明内容】
[0005]有鉴于此，本发明所要解决的技术问题在于提供一种含芴的聚酯丙烯酸酯低聚物及其制备方法，本发明提供的低聚物的制备方法简单可控，且低聚物稳定性好可用于有保护膜的增亮膜领域。
[0006]本发明提供了一种含芴的聚酯丙烯酸酯低聚物，由酸酐与醇反应后的混合液与具有式(I)结构的化合物反应制得，
【权利要求】
1.一种含芴的聚酯丙烯酸酯低聚物，由酸酐与醇反应后的混合液与具有式(I)结构的化合物反应制得，
2.根据权利要求1所述的低聚物，其特征在于，所述具有式(II)结构的酸酐中的酸酐与所述具有式(III)结构的醇中的羟基的摩尔比为(0.8~1.8):1。
3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述酸酐与醇反应后的混合液中的羧基与所述具有式(I)结构的化合物中的羟基的摩尔比为1:(0.8~1.5)。
4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述R2为C2~CS的撑基。
5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述含芴的聚酯丙烯酸酯低聚物的重均分子量为2000~3500g/mol。
6.一种含芴的聚酯丙烯酸酯低聚物的制备方法，包括: I)将具有式(II)结构的酸酐与式(III)所示结构的醇反应，得到酸酐与醇反应后的混合液，
7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，所述具有式(II)结构的酸酐中的酸酐与所述具有式(III)结构的醇中的羟基的摩尔比为(0.8~1.5):1。
8.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，所述反应液中的羧基与所述具有式(I)结构的化合物中的羟基的摩尔比为1: (I~1.5)。
9.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，所述步骤I)的反应温度为80~90°C。
10.一种有保护膜的增亮膜，由权利要求1~5所述的含芴的聚酯丙烯酸酯低聚物或者由权利要求6~9任意一项所述的方法制备的含芴的聚酯丙烯酸酯低聚物制备而成。
【文档编号】C09D167/06GK103980473SQ201410228851
【公开日】2014年8月13日 申请日期:2014年5月27日 优先权日:2014年5月27日
【发明者】陈嘉, 张立虎, 尹晓峰, 丁清华, 周钰明 申请人:张家港康得新光电材料有限公司, 东南大学