表面保护膜及贴合有该表面保护膜的光学部件的制作方法
【专利摘要】本发明提供一种对表面具有凹凸的光学用膜也能够使用且对被粘附体的污染少、对被粘附体的低污染性也不会经时劣化且具有优良的抗剥离静电性能的表面保护膜，以及使用了该表面保护膜的光学部件。在由具有透明性的树脂构成的基材膜(1)的单面形成有粘结剂层(2)，并在粘结剂层(2)上贴合了具有剥离剂层(4)的剥离膜(5)的表面保护膜(10)中，剥离膜(5)是在树脂膜(3)的单面层叠剥离剂层(4)而成，所述剥离剂层(4)含有以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂以及与该剥离剂不发生反应的抗静电剂，通过所述抗静电剂成分从剥离膜(5)向粘结剂层(2)的表面转移，能减少从被粘附体剥下前述粘结剂层(2)时的剥离静电压。
【专利说明】表面保护膜及贴合有该表面保护膜的光学部件
【技术领域】
[0001] 本发明涉及一种贴合于偏光板、相位差板、显示器用透镜膜等光学部件（下面，有 时也称"光学用膜"）的表面的表面保护膜。更详细而言，本发明提供一种对被粘附体的污 染少的表面保护膜、进而具有无经时劣化的优良的抗剥离静电性能的表面保护膜、以及贴 合有该表面保护膜的光学部件。
【背景技术】
[0002] 目前，当制造、搬运偏光板、相位差板、显示器用透镜膜、防反射膜、硬涂膜、触摸面 板用透明导电膜等的光学用膜、以及使用了它们的显示器等光学产品时，通过在该光学用 膜的表面贴合表面保护膜而防止后续工序中的表面污染、刮伤。为了节省对表面保护膜进 行剥离后再进行贴合的劳力和时间从而提高作业效率，对作为产品的光学用膜的外观检查 而言，有时也在光学用膜上贴合着表面保护膜的状态下直接实施。
[0003] 从以往以来，在光学产品的制造工序中，为了防止伤痕、污垢的附着，通常使用在 基材膜的单面设置了粘结剂层的表面保护膜。表面保护膜是通过微粘结力的粘结剂层被贴 合于光学用膜上。将粘结剂层设定为微粘结力的原因在于，为了将使用完毕的表面保护膜 从光学用膜表面剥离而去除时能够容易地进行剥离，并且为了防止粘结剂附着并残留在作 为被粘附体的产品的光学用膜上的现象（所谓的防止粘结剂残留的发生）。
[0004] 近年来，在液晶显示面板的生产工序中，由于将贴合于光学用膜上的表面保护膜 剥离而去除时产生的剥离静电压，会破坏用于控制液晶显示器的显示画面的驱动IC等电 路部件，还有液晶分子的取向会损伤，虽然这些现象发生的件数少但也在发生。
[0005] 另外，为了减少液晶显示面板的电耗，液晶材料的驱动电压趋于降低，随之驱动IC 的击穿电压也趋于降低。最近，要求将剥离静电压控制在+〇. 7kV?一 0. 7kV的范围内。
[0006] 另外，近年来，伴随着3D显示器（立体视觉显示器）的普及，有在偏光板等光学用 膜的表面贴合FPR(图案相位差膜，Film Patterned Retarder)膜的情况。剥离在偏光板 等光学用膜的表面所贴合的表面保护膜后，再贴合FPR膜。但是，当偏光板等的光学用膜表 面被表面保护膜中使用的粘结剂、抗静电剂所污染时，存在难以粘贴FPR膜的问题。因此， 对该用途上使用的表面保护膜而言，要求其对被粘附体的污染少。
[0007] 另一方面，在一些液晶面板制造厂商中，作为表面保护膜对被粘附体的污染性的 评价方法，是采用如下方法：先对偏光板等的光学用膜上贴合的表面保护膜进行剥离，在混 入了气泡的状态下进行再贴合，对再贴合后的物件在规定条件下进行加热处理，然后剥离 表面保护膜并观察被粘附体的表面。在这种评价方法中，即使被粘附体的表面污染是微量 的，但若在混入气泡的部分与表面保护膜的粘结剂相接触的部分之间存在被粘附体表面污 染的差异，则会作为气泡痕迹（有时也称作"气泡污痕"）残留。因此，作为对被粘附体表面 的污染性的评价方法，会是非常严格的评价方法。近年来，根据以这种严格的评价方法进行 判定的结果，也需要对被粘附体的表面污染性方面没有问题的表面保护膜。
[0008] 为了防止从作为被粘附体的光学用膜上剥离表面保护膜时因剥离静电压高所引 起的缺陷，有人提出了一种表面保护膜，其使用了含有用于降低剥离静电压的抗静电剂的 粘结剂层。
[0009] 例如，在专利文献1中，公开了一种使用由烷基三甲基铵盐、含羟基的丙烯酸类聚 合物、聚异氰酸酯组成的粘结剂的表面保护膜。
[0010] 另外，在专利文献2中，公开了一种由离子性液体和酸值为I. 0以下的丙烯酸聚合 物组成的粘结剂组合物、以及使用了该组合物的粘结片类。
[0011] 另外，在专利文献3中，公开了一种由丙烯酸聚合物、聚醚多元醇化合物、通过阴 离子吸附性化合物处理过的碱金属盐组成的粘结剂组合物、以及使用了该组合物的表面保 护膜。
[0012] 另外，在专利文献4中，公开了一种由离子性液体、碱金属盐、玻璃化转变温度为 (TC以下的聚合物组成的粘结剂组合物、以及使用了该组合物的表面保护膜。
[0013] 上述专利文献1?4中，是在粘结剂层内部添加有抗静电剂。但是，粘结剂层的厚 度越厚，并且随着贴合于被粘附体上后的时间推移，抗静电剂从粘结剂层向表面保护膜所 贴合的被粘附体移动的量会越多。当抗静电剂向被粘附体移动的量增多时，作为被粘附体 的光学用膜的外观品质降低；或者，在贴合FPR膜时，存在FPR膜的粘接性降低的可能性。
[0014] 为了减少此时从粘结剂层移向被粘附体的抗静电剂的经时变化，若降低粘结剂层 的厚度，则会产生其它问题。例如，当用于为了防止晃眼而施加防眩光处理后的偏光板等表 面有凹凸的光学用膜时，粘结剂层无法迎合光学用膜表面的凹凸而混入气泡，或者，由于光 学用膜与粘结剂的粘接面积减少而降低粘结力，在使用中会存在表面保护膜发生分离或剥 落的问题。
[0015] 现有技术文献
[0016] 专利文献
[0017] 专利文献1 :日本特开2005-131957号公报
[0018] 专利文献2 :日本特开2005-330464号公报
[0019] 专利文献3 :日本特开2005-314476号公报
[0020] 专利文献4 :日本特开2006-152235号公报
【发明内容】
[0021] 发明要解决的课题
[0022] 因此，需要一种在光学用膜中使用的表面保护膜，其对表面上有凹凸的光学用膜 也能够使用，对被粘附体的污染非常少、且对被粘附体的污染性没有经时变化（不随着时 间推移发生变化），并且，还能够较低地抑制从被粘附体剥离表面保护膜时的剥离静电压的 表面保护膜。
[0023] 本发明人等对该课题进行了精心研究。
[0024] 为了减少对被粘附体的污染并且也减少污染性的经时变化，需要降低被推测对被 粘附体造成污染的抗静电剂成分的量。但是，当降低抗静电剂成分的量时，会导致从被粘附 体上剥离表面保护膜时的剥离静电压变高。于是，本发明人等研究了在不增加抗静电剂成 分的绝对量的情况下较低地抑制从被粘附体上剥离表面保护膜时的剥离静电压的方法。 [0025] 其结果发现，不在粘结剂组合物中添加抗静电剂并进行混合而形成粘结剂层，而 是涂布粘结剂组合物并进行干燥而层叠粘结剂层后，通过对粘结剂层表面赋予适量的抗静 电成分，能够较低地抑制从作为被粘附体的光学用膜上剥离表面保护膜时的剥离静电压， 并基于上述发现完成了本发明。
[0026] 本发明就是鉴于上述情况而完成的，其课题在于，提供一种对表面上有凹凸的光 学用膜也能够使用且对被粘附体的污染少，并且对被粘附体的低污染性不会因时间推移而 发生变化的表面保护膜，进而具有无经时劣化（随着时间推移不发生劣化）的优良的抗剥 离静电性能的表面保护膜，以及使用了该表面保护膜的光学部件。
[0027] 解决课题的方法
[0028] 为了解决上述课题，本发明的表面保护膜的技术思想在于，在涂布粘结剂组合物 并进行干燥而层叠粘结剂层后，对该粘结剂层的表面赋予适量的抗静电剂，由此，能够较低 地抑制对被粘附体的污染性，而且能够较低地抑制从作为被粘附体的光学用膜上剥离时的 剥离静电压。
[0029] 为了解决上述课题，本发明提供一种表面保护膜，其是在由具有透明性的树脂构 成的基材膜的单面上形成有粘结剂层、并在该粘结剂层上贴合了具有剥离剂层的剥离膜的 表面保护膜，其中，该剥离膜是在树脂膜的单面上层叠剥离剂层而成，该剥离剂层含有以二 甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂以及与该剥离剂不发生反应的抗静电剂，前述抗静电 剂成分从前述剥离膜向前述粘结剂层的表面转移，从而能够减少从被粘附体剥下前述粘结 剂层时的剥离静电压。
[0030] 另外，优选前述抗静电剂是熔点为30?80°C的离子性化合物。
[0031] 另外，优选前述粘结剂层是使（甲基）丙烯酸酯共聚物交联而成。
[0032] 另外，优选从前述粘结剂层剥离前述剥离膜时的剥离力为0· 2N/50mm以下。
[0033] 另外，本发明提供一种光学部件，其贴合有上述表面保护膜。
[0034] 发明效果
[0035] 本发明的表面保护膜对被粘附体的污染少，并且对被粘附体的低污染性不会因时 间推移而发生变化。另外，基于本发明的表面保护膜，即使被粘附体是AG偏光板等的表面 有凹凸的光学用膜也能够使用。另外，基于本发明，能够提供一种可较低地抑制从作为被粘 附体的光学用膜上剥离时发生的剥离静电压、并具有无经时劣化的优良的抗剥离静电性能 的表面保护膜，以及使用该表面保护膜的光学部件。
[0036] 基于本发明的表面保护膜，能够可靠地保护光学用膜表面，因此能够实现生产效 率的提商和成品率的提商。
【专利附图】
【附图说明】
[0037] 图1是表示本发明的表面保护膜的概念的剖面图。
[0038] 图2是表示从本发明的表面保护膜上剥下剥离膜的状态的剖面图。
[0039] 图3是表示本发明的光学部件的一实施例的剖面图。
[0040] 附图标记的说明
[0041] 1……基材膜；2……粘结剂层；3……树脂膜；4……剥离剂层；
[0042] 5……剥离膜；7……抗静电剂；8……被粘附体（光学部件）；
[0043] 10……表面保护膜；11……剥下剥离膜后的表面保护膜；
[0044] 20……贴合了表面保护膜的光学部件。
【具体实施方式】
[0045] 下面，基于实施方式详细说明本发明。
[0046] 图1是表示本发明的表面保护膜的概念的剖面图。该表面保护膜10是在透明基 材膜1的单面的表面形成有粘结剂层2。在该粘结剂层2的表面上贴合有剥离膜5,该剥离 膜5是在树脂膜3的表面形成剥离剂层4而成。
[0047] 作为在本发明的表面保护膜10中使用的基材膜1，使用由具有透明性和挠性 的树脂构成的基材膜。由此，能够在将表面保护膜贴合于作为被粘附体的光学部件的状 态下实施光学部件的外观检查。用作基材膜1的由具有透明性的树脂构成的膜，优选使 用聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚间苯二甲酸乙二醇酯（polyethylene isophthalate)、聚对苯二甲酸丁二醇酯等聚酯膜。作为该膜只要具有所需强度且具有光学 适应性即可，除了聚酯膜以外也可以使用由其它树脂构成的膜。基材膜1既可以是未拉伸 膜，也可以是被施以单轴拉伸或双轴拉伸的膜。另外，也可以将拉伸膜的拉伸倍率、拉伸膜 的伴随晶体化所形成的轴方向的取向角度控制在特定值。
[0048] 对本发明的表面保护膜10中使用的基材膜1的厚度而言，并没有特别的限定，例 如，优选为12?100 μ m左右的厚度；若为20?50 μ m左右的厚度则易于操作，因此更优 选。
[0049] 另外，根据需要，可在基材膜1的与形成有粘结剂层2的面相反侧的面上，设置用 于防止表面污染的防污层、抗静电层、防止刮伤的硬涂层等。另外，在基材膜1的表面，也可 以实施基于电晕放电进行的表面改性、底涂剂的涂抹等易粘接化处理。
[0050] 另外，对本发明的表面保护膜10中使用的粘结剂层2而言，只要是在被粘附体的 表面进行粘接、使用完毕后可简单地剥下并且难以污染被粘附体的粘结剂层即可，并没有 特别限定，但考虑到在光学用膜上贴合后的耐久性等，通常采用使（甲基）丙烯酸酯共聚物 交联而成的粘结剂层。
[0051] 作为（甲基）丙烯酸酯共聚物，可以举出将主要单体与共聚用单体、官能性单体、 含有聚氧化亚烷基的单体进行共聚而成的共聚物，其中，所述主要单体可举出丙烯酸正丁 酯、丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸异辛酯、丙烯酸异壬酯等；所述共聚用单体可举出丙烯腈、 醋酸乙烯酯、甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯等；所述官能性单体可举出丙烯酸、甲基丙烯酸、 丙烯酸羟乙酯、丙烯酸羟丁酯、甲基丙烯酸缩水甘油酯、N-羟甲基甲基丙烯酰胺等；所述含 有聚氧化亚烷基的单体可举出甲氧基聚乙二醇甲基丙烯酸酯等。（甲基）丙烯酸酯共聚物 中，主要单体和其它单体均可以为（甲基）丙烯酸酯，也可以作为主要单体以外的单体，含 有一种或两种以上的除了（甲基）丙烯酸酯以外的单体。除了主要单体以外的其它单体，可 从上述共聚用单体、官能性单体、含有聚氧化亚烷基的单体等中选择，并没有特别的限定。
[0052] 对添加于粘结剂层2中的固化剂而言，作为使（甲基）丙烯酸酯共聚物交联的交 联剂，可以举出异氰酸酯化合物、环氧化合物、三聚氰胺化合物、金属螯合物等。另外，作为 增粘剂，可以举出松香类、香豆酮-茚类、萜烯类、石油类、酚类等。
[0053] 对本发明的表面保护膜10中使用的粘结剂层2的厚度，并没有特别的限定，例如， 优选为5?40 μ m左右的厚度，更优选为10?30 μ m左右的厚度。另外，当为表面保护膜 对被粘附体表面的剥离强度（粘结力）是〇· 03?0· 3N/25mm左右的、具有微粘结力的粘结 剂层2时，从被粘附体上剥离表面保护膜时的操作性优良，因此优选。另外，基于从表面保 护膜10剥下剥离膜5时的操作性优良的观点，优选从粘结剂层2剥下剥离膜5时的剥离力 为 0· 2N/50mm 以下。
[0054] 另外，对本发明的表面保护膜10中使用的剥离膜5而言，是在树脂膜3的单面上 层叠剥离剂层4而成，所述剥离剂层4含有以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂以及 与该剥离剂不发生反应的抗静电剂。
[0055] 作为树脂膜3,可以举出聚酯膜、聚酰胺膜、聚乙烯膜、聚丙烯膜、聚酰亚胺膜等，从 透明性优良和价格比较低廉的观点出发，特别优选为聚酯膜。树脂膜既可以是未拉伸膜，也 可以是单轴拉伸膜或双轴拉伸膜。另外，也可以将拉伸膜的拉伸倍率、拉伸膜的伴随晶体化 所形成的轴方向上的取向角度控制在特定值。
[0056] 对树脂膜3的厚度并没有特别的限定，例如，优选为12?100 μ m左右的厚度；若 为20?50 μ m左右的厚度则易于操作，因此更优选。
[0057] 另外，在树脂膜3的表面，也可以根据需要实施基于电晕放电进行的表面改性、底 涂剂的涂抹等易粘接化处理。
[0058] 作为构成剥离剂层4的、以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂，可以举 出加成反应型、缩合反应型、阳离子聚合型、自由基聚合型等的公知的聚硅氧烷类剥离 齐U。作为加成反应型聚硅氧烷类剥离剂市售的产品，例如，可以举出：KS-776A、KS-847T、 KS-779H、KS-837、KS-778、KS-830 (信越化学工业株式会社制造）；SRX-211、SRX-345、 SRX-357、SD7333、SD7220、SD7223、LTC-300B、LTC-350G、LTC-310(陶氏康宁东丽株式会社 (Dow Corning Toray Co. ,Ltd.)制造）等。作为缩合反应型市售的产品，例如，可以举出 SRX-290、SYL0FF-23(陶氏康宁东丽株式会社制造）等。作为阳离子聚合型市售的产品，例 如，可以举出 TPR-6501、TPR-6500、UV9300、UV9315、UV9430(迈图高新材料公司（Momentive Performance Materials Inc.)制造）、X62_7622(信越化学工业株式会社制造）等。作为 自由基聚合型市售的产品，例如，可以举出X62-7205 (信越化学工业株式会社制造）等。
[0059] 作为构成剥离剂层4的抗静电剂，优选对以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离 剂溶液的分散性良好，并且不阻碍以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂的固化的抗静 电剂。另外，对抗静电剂而言，为了能够从剥离剂层4向粘结剂层2表面转移而对粘结剂 层赋予抗静电效果，优选不与以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂发生反应的抗静电 齐[J。作为这样的抗静电剂，优选熔点为30?80°C的离子性化合物。
[0060] 作为熔点为30?80°C的离子性化合物，是具有阳离子和阴离子的离子化合物， 可以举出：阳离子为吡啶鎗阳离子、咪唑鎗阳离子、嘧啶鎗阳离子、吡唑鎗阳离子、吡咯鎗阳 离子、铵阳离子等的含氮鎗阳离子，或者为磷鎗阳离子、硫鎗阳离子等；阴离子为六氟化磷 酸根（PF 6_)、硫氰酸根（SCN_)、烷基苯磺酸根（RC6H4SCV)、高氯酸根（C10 4_)、四氟化硼酸根 (BF4O等的无机或有机阴离子的化合物。通过选择烷基的链长、取代基的位置、个数等，能 够得到熔点为30?80°C的化合物。优选阳离子为季氮鎗阳离子，可以举出：1-烷基吡啶鎗 (2?6位的碳原子既可以具有取代基也可以不具有取代基）等的季吡啶鎗阳离子、1，3-二 烷基咪唑鎗（2、4、5位的碳原子既可以具有取代基也可以不具有取代基）等的季咪唑鎗阳 离子、四烷基铵等的季铵阳离子等。
[0061] 抗静电剂相对于以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂的添加量，是根据抗静 电剂的种类、与剥离剂的亲和性程度的不同而不同。抗静电剂的添加量只要考虑到从被粘 附体上剥离表面保护膜时所需的剥离静电压、对被粘附体的污染性、粘结特性等而进行设 定即可。
[0062] 剥离剂层4可以是通过以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂以及与该剥离 剂不发生反应的抗静电剂的混合物所形成的剥离剂层4。对于以二甲基聚硅氧烷作为主要 成分的剥离剂与抗静电剂的混合方法而言，并没有特别的限定。可以采用下列混合方法中 的任一种方法：在以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂中添加抗静电剂进行混合后， 添加剥离剂固化用催化剂并加以混合的方法；预先采用有机溶剂稀释以二甲基聚硅氧烷 作为主要成分的剥离剂后，添加抗静电剂以及剥离剂固化用催化剂并加以混合的方法；预 先将以聚二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂稀释于有机溶剂后，添加催化剂而进行混 合，然后，添加抗静电剂并加以混合的方法等。另外，根据需要，也可以添加硅烷偶联剂等粘 合促进剂、含有聚氧化亚烷基的化合物等的辅助抗静电效果的材料。
[0063] 对于以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂与抗静电剂的混合比率而言，并没 有特别的限定，但相对于以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂的固体成分100,优选抗 静电剂以固体成分计为5?100左右的比例。相对于以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥 离剂的固体成分100,若抗静电剂以固体成分换算的添加量为小于5的比例，则抗静电剂对 粘结剂层表面的转移量也变少，难以使粘结剂层发挥抗静电的功能。另外，相对于以二甲基 聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂的固体成分100,若抗静电剂以固体成分换算的添加量为 超过100的比例，则与抗静电剂一起以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂也会被转移 至粘结剂层表面，因此，可能会降低粘结剂层的粘结特性。
[0064] 本发明中在表面保护膜10的基材膜1上形成粘结剂层2的方法以及贴合剥离膜 5的方法，均可采用公知的方法来进行，没有特别的限定。具体而言，可以举出：（1)将用于 形成粘结剂层2的树脂组合物涂布于基材膜1的单面上并进行干燥，形成粘结剂层后贴合 剥离膜5的方法；（2)将用于形成粘结剂层2的树脂组合物涂布于剥离膜5表面上并进行 干燥，形成粘结剂层后，贴合基材膜1的方法等。可以采用其中的任一种方法。
[0065] 另外，当将粘结剂层2形成于基材膜1的表面时，可采用公知的方法来进行。具体 而言，能够使用逆转涂布、逗点涂布、凹版涂布、狭缝式挤压涂布、麦勒棒（Mayer bar)涂布、 气刀涂布等公知的涂布方法。
[0066] 另外，同样地，当将剥离剂层4形成于树脂膜3时，可以采用公知的方法来进行。具 体而言，能够采用凹版涂布、麦勒棒涂布、气刀涂布等公知的涂布方法。
[0067] 对具有上述构成的本发明表面保护膜10而言，从作为被粘附体的光学用膜上剥 离时的表面电位优选为+〇. 7kV?一 0. 7kV。并且，更优选表面电位为+0. 5kV?一 0. 5kV， 特别优选表面电位为+〇. IkV?一 0. lkV。该表面电位能够通过改变剥离剂层中所含有的抗 静电剂的种类、添加量等来进行调整。
[0068] 图2是表示从本发明的表面保护膜上剥下剥离膜的状态的剖面图。
[0069] 通过将剥离膜5从图1所示的表面保护膜10上剥下，剥离膜5的剥离剂层4所含 的抗静电剂（附图标记7)的一部分，被转移（附着）至表面保护膜10的粘结剂层2的表 面。因此，在图2中，以附图标记7的斑点示意性地表示了被转移至表面保护膜的粘结剂层 2表面的抗静电剂。通过抗静电剂7的成分从剥离膜5向粘结剂层2的表面转移，能够降低 从被粘附体上剥下粘结剂层2时的剥离静电压。此外，从被粘附体上剥下粘结剂层时的剥 离静电压，可采用公知的方法进行测定。例如，在将表面保护膜贴合于偏光板等的被粘附体 上后，使用高速剥离试验机（TESTER产业株式会社（TESTER Sangyo Co. ,Ltd.)制造）以每 分钟40m的剥离速度剥离表面保护膜的同时，使用表面电位计（株式会社基恩士（Keyence Corporation)制造）每IOms测定被粘附体表面的表面电位，并将此时的表面电位绝对值的 最大值作为剥离静电压（kV)来进行测定。
[0070] 对本发明的表面保护膜而言，当将图2所示的剥下了剥离膜的状态的表面保护膜 11贴合于被粘附体上时，被转移至该粘结剂层2表面的抗静电剂与被粘附体表面进行接 触。通过该操作，能够较低地抑制再次从被粘附体上剥下表面保护膜时的剥离静电压。
[0071] 图3是表示本发明的光学部件的实施例的剖面图。
[0072] 在从本发明的表面保护膜10上剥下剥离膜5而粘结剂层2外露的状态下，通过该 粘结剂层2贴合于作为被粘附体的光学部件8上。
[0073] S卩，在图3中示出了贴合有本发明的表面保护膜10的光学部件20。作为光学部 件，可以举出偏光板、相位差板、透镜膜、兼用作相位差板的偏光板、兼用作透镜膜的偏光板 等光学用膜。这种光学部件，被用作液晶显示面板等液晶显示装置、各种计量仪器类的光学 系统装置等的构成部件。另外，作为光学部件，还可以举出防反射膜、硬涂膜、触摸面板用透 明导电膜等光学用膜。
[0074] 基于本发明的光学部件，当将表面保护膜10从作为被粘附体的光学部件（光学用 膜）上剥离去除时，能够充分地将剥离静电压抑制在低水平。因此，不用担心会破坏驱动 1C、TFT兀件、棚极线驱动电路等的电路部件，能够提商制造液晶显不面板等工序中的生广 效率，确保生产工序的可靠性。
[0075] 实施例
[0076] 下面，通过实施例进一步说明本发明。
[0077] (实施例1)
[0078](表面保护膜的制造）
[0079] 将5重量份的加成反应型聚娃氧烧（产品名称为SRX-345,陶氏康宁东_株式会 社制造）、0. 75重量份的N- 丁基-4-甲基吡啶鎗六氟磷酸盐、95重量份的甲苯与醋酸乙酯 为1:1的混合溶剂、0. 05重量份的钼催化剂（产品名称为SRX-212,陶氏康宁东丽株式会社 制造）混合在一起并进行搅拌混合，配制了用于形成实施例1的剥离剂层的涂料。采用麦 勒棒，将用于形成实施例1的剥离剂层的涂料，以使干燥后的厚度成为〇. 2 μ m的方式，涂布 在厚度为38 μ m的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜的表面，并在120°C的热风循环式烘炉中干燥1 分钟，获得了实施例1的剥离膜。另一方面，将以100:4的重量比使丙烯酸2-乙基己酯与 丙烯酸2-羟乙酯进行共聚而成的、重均分子量为47万的丙烯酸酯共聚物30重量份，溶解 于70重量份的醋酸乙酯中而获得粘结剂（固体成分含量为30%的醋酸乙酯溶液），相对于 100重量份的该粘结剂，添加1. 2重量份的HDI类固化剂（产品名称为Coronate ( = σ木一 卜）ΗΧ，日本聚氨酯工业株式会社（Nippon Polyurethane Industry Co. ,Ltd.)制造）并 进行混合而形成涂抹液，并将该涂抹液以使干燥后的厚度成为20 μ m的方式涂布于厚度为 38 μ m的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜的表面，然后通过KKTC的热风循环式烘炉干燥2分钟， 从而形成了粘结剂层。然后，在该粘结剂层的表面，贴合了上述制造的实施例1的剥离膜的 剥离剂层（聚硅氧烷处理面）。将所得到的粘结膜在40°C的环境下保温5天，以使粘结剂 固化，获得了实施例1的表面保护膜。
[0080] (实施例2)
[0081] 除了以干燥后的厚度成为〇. 1 μ m的方式涂布用于形成实施例1的剥离剂层的涂 料以外，与实施例1同样地进行操作，获得了实施例2的表面保护膜。
[0082] (实施例3)
[0083] 除了作为实施例1的加成反应型聚硅氧烷采用陶氏康宁东丽株式会社制造的 SRX-211(产品名称）以外，与实施例1同样地进行操作，获得了实施例3的表面保护膜。
[0084] (比较例1)
[0085] 将5重量份的加成反应型聚娃氧烧（产品名称为SRX-345,陶氏康宁东_株式会社 制造）、95重量份的甲苯与醋酸乙酯为1:1的混合溶剂、0. 05重量份的钼催化剂（产品名称 为SRX-212,陶氏康宁东丽株式会社制造）混合在一起并进行搅拌混合，配制了用于形成比 较例1的剥离剂层的涂料。采用麦勒棒，将用于形成比较例1的剥离剂层的涂料，以使干燥 后的厚度成为〇. 2 μ m的方式涂布在厚度为38 μ m的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜的表面，并在 120°C的热风循环式烘炉中干燥1分钟，获得了比较例1的剥离膜。另一方面，相对于100 重量份的实施例1的粘结剂（固体成分含量为30%的醋酸乙酯溶液），添加并混合了 N-丁 基-4-甲基吡啶鎗六氟磷酸盐3重量份、HDI类固化剂（产品名称为Coronate HX，日本聚 氨酯工业株式会社制造）1. 2重量份而形成涂抹液，并将该涂抹液以使干燥后的厚度成为 20 μ m的方式涂布于厚度为38 μ m的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜的表面，然后通过1001O的热 风循环式烘炉干燥2分钟，从而形成了粘结剂层。然后，在该粘结剂层的表面，贴合了上述 制造的比较例1的剥离膜的剥离剂层（聚硅氧烷处理面）。将所得到的粘结膜在40°C的环 境下保温5天，以使粘结剂固化，获得了比较例1的表面保护膜。
[0086] (比较例2)
[0087] 除了使用N- 丁基-4-甲基吡啶鎗六氟磷酸盐0. 1重量份以外，与比较例1同样地 进行操作，获得了比较例2的表面保护膜。
[0088] (实施例4)
[0089] 将丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸丁酯和丙烯酸2-羟乙酯以60:40:4的重量比进行 共聚而成的重均分子量为48万的丙烯酸酯共聚物30重量份，溶解于70重量份的醋酸乙酯 中形成粘结剂（固体成分含量为30 %的醋酸乙酯溶液），相对于100重量份的该粘结剂添 加并混合1.2重量份的HDI类固化剂（产品名称为Coronate HX，日本聚氨酯工业株式会社 制造）而获得涂抹液，使用该涂抹液来代替实施例1的涂抹液，除此以外，与实施例1同样 地进行操作，获得了实施例4的表面保护膜。
[0090] (实施例5)
[0091] 将丙烯酸2-乙基己酯、甲氧基聚乙二醇（400)甲基丙烯酸酯和丙烯酸2-羟乙酯 以90:10:4的重量比进行共聚而成的重均分子量为38万的（甲基）丙烯酸酯共聚物30 重量份，溶解于70重量份的醋酸乙酯中形成粘结剂（固体成分含量为30%的醋酸乙酯溶 液），相对于100重量份的该粘结剂添加并混合1. 2重量份的HDI类固化剂（产品名称为 Coronate HX，日本聚氨酯工业株式会社制造）而获得涂抹液，使用该涂抹液来代替实施例 1的涂抹液，除此以外，与实施例1同样地进行操作，获得了实施例5的表面保护膜。
[0092] (实施例6)
[0093] 将丙烯酸2-乙基己酯与丙烯酸以100:4的重量比进行共聚而成的重均分子量为 52万的丙烯酸酯共聚物30重量份，溶解于70重量份的醋酸乙酯中形成粘结剂（固体成分 含量为30%的醋酸乙酯溶液），相对于100重量份的该粘结剂添加并混合I. 0重量份的环 氧类固化剂（产品名称为TETRAD-C，三菱瓦斯化学株式会社（Mitsubishi Gas Chemical Company Inc.)制造）而获得涂抹液，使用该涂抹液来代替实施例1的涂抹液，除此以外与 实施例1同样地进行操作，获得了实施例6的表面保护膜。
[0094] 下面，示出评价试验的方法和结果。
[0095]〈剥离膜的剥离力的测定方法〉
[0096] 以宽度50mm、长度150mm的尺寸切割表面保护膜的试样。在23°C X50% RH的试 验环境下，使用拉伸试验机以300mm/分钟的剥离速度向180°方向剥掉剥离膜，测定此时 的强度，并将其作为剥离膜的剥离力（N/50mm)。
[0097]〈表面保护膜的粘结力的测定方法〉
[0098] 米用贴合机在玻璃板表面贴合了防眩低反射处理偏光板（AG-LR偏光板）。然后， 将切割成宽度为25mm的表面保护膜贴合于偏光板的表面后，在23°C X 50% RH的试验环境 下保管1天。然后，使用拉伸试验机以300mm/分钟的剥离速度向180°方向剥离掉表面保 护膜，测定此时的强度，并将其作为粘结力（N/25mm)。
[0099]〈表面保护膜的剥离静电压的测定方法〉
[0100] 米用贴合机在玻璃板表面贴合了防眩低反射处理偏光板（AG-LR偏光板）。然 后，将切割成宽度为25mm的表面保护膜贴合于偏光板的表面后，在23°C X 50% RH的试验 环境下保管1天。然后，在使用高速剥离试验机（TESTER产业株式会社（TESTER Sangyo Co.，Ltd.)制造）以每分钟40m的剥离速度剥离表面保护膜的同时，使用表面电位计（株式 会社基恩士（Keyence Corporation)制造）每IOms测定前述偏光板表面的表面电位，并将 此时的表面电位绝对值的最大值作为剥离静电压（kV)。
[0101]〈表面保护膜的表面污染性的确认方法〉
[0102] 米用贴合机在玻璃板表面贴合了防眩低反射处理偏光板（AG-LR偏光板）。然后， 将切割成宽度为25mm的表面保护膜贴合于偏光板的表面后，在23°C X 50% RH的试验环境 下保管3天和30天。然后，剥下表面保护膜，通过目测观察了偏光板表面的污染性。作为 表面污染性的判定基准，当偏光板上无污染转移时判定为（〇），当确认偏光板上有污染转 移时判定为（X)。
[0103] 对所得到的实施例1?6和比较例1?2的表面保护膜进行测定，并将测定结果 示于表1?2中。其中，"2EHA"是指丙烯酸2-乙基己酯，"HEA"是指丙烯酸-2-羟乙酯， "BA"是指丙烯酸丁酯，"#400G"是指甲氧基聚乙二醇（400)甲基丙烯酸酯，"AA"是指丙烯 酸，"AS剂"是指N- 丁基-4-甲基吡啶鎗六氟磷酸盐。对粘结剂层和剥离剂层的组成而言， 是将粘结剂的总量或者用于形成剥离剂层的涂料的总量分别达到约100重量份的方式以 重量份来表示。
[0104] 表 1
[0105]
【权利要求】
1. 一种表面保护膜，在由具有透明性的树脂构成的基材膜的单面形成有粘结剂层，并 在所述粘结剂层上贴合了具有剥离剂层的剥离膜，其中， 所述剥离膜是在树脂膜的单面上层叠剥离剂层而成，所述剥离剂层含有以二甲基聚硅 氧烷作为主要成分的剥离剂以及与该剥离剂不发生反应的抗静电剂， 所述抗静电剂成分从所述剥离膜向所述粘结剂层的表面转移，从而减少从被粘附体剥 下所述粘结剂层时的剥离静电压。
2. 如权利要求1所述的表面保护膜，其中，所述抗静电剂是熔点为30?80°C的离子性 化合物。
3. 如权利要求1或2所述的表面保护膜，其中，所述粘结剂层是使（甲基）丙烯酸酯共 聚物交联而成。
4. 如权利要求1?3中任一项所述的表面保护膜，其中，从所述粘结剂层剥离所述剥离 膜时的剥离力为〇? 2N/50mm以下。
5. -种光学部件，其贴合有权利要求1?4中任一项所述的表面保护膜。
【文档编号】C09J7/02GK104371581SQ201410312033
【公开日】2015年2月25日 申请日期:2014年7月2日 优先权日:2013年8月13日
【发明者】小林弘幸, 春日充, 远藤佳子, 林益史 申请人:藤森工业株式会社