低折射层涂敷用组合物及包含其的透明导电性膜的制作方法
【技术领域】
[0001] 本发明涉及一种低折射层涂敷用组合物及包含其的透明导电性膜。
【背景技术】
[0002] 触控面板根据位置检测方法，分为光学方式、超声波方式、静电容量方式及电阻膜 方式等。电阻膜方式的触控面板的结构是，透明导电性膜和附着有透明导电体层的玻璃隔 着间隔部相向配置，使电流在透明导电性膜流动，并测定附着有透明导电体层的玻璃中的 电压的结构。另一方面，静电容量方式的触控面板的基本结构是，在基材上形成透明导电 层，特征在于没有可动部分，并且，由于具有高耐久性、高透射率，因此，也适用于车载用途 等。
[0003] 通常，适用于上述触控面板的透明导电性膜，在透明的膜基材的一方面，从上述膜 基材侧开始，依次形成底漆层及导电层，而在日本专利公开公报第2003-197035号公开了 在基材膜和导电层之间形成有底涂层的透明导电性膜。最近，不仅是对上述透明导电性膜， 对同时确保构成透明导电性膜的底涂层的折射率的调节及耐久性的底涂层组合物的研宄 也一直持续进行着。
【发明内容】
本发明要解决的抟术问题
[0004] 本发明的一实施例提供低折射层涂敷用组合物，上述低折射层涂敷用组合物包含 硅氧烷化合物及金属盐，从而使低折射层的结构性结合更加紧密，且降低外部环境引起的 损伤。
[0005] 本发明的再一实施例提供包含低折射层的透明导电性膜，上述低折射层由上述低 折射涂敷用组合物形成。 抟术方案
[0006] 本发明的一实施例提供包含硅氧烷化合物及金属盐的低折射层涂敷用组合物。
[0007] 上述金属盐可包含选自由锌、钇、三价铬、二价钴、三价钴、镍、镁、铝、一价铜、二价 铜、三价铁、镉、锑、水银、铷、钒及它们的组合构成的组中的一种以上的盐。
[0008] 上述金属盐可包含选自由硝酸盐、硫酸盐、羧酸盐、卤化物、醇盐、乙酰丙酮盐及它 们的组合构成的组中的一种以上的盐。
[0009] 相对于总100重量％，可包含约0. 1重量％至约1. 0重量％的上述金属盐。
[0010] 上述硅氧烷化合物可包含硅氧烷聚合物，上述硅氧烷聚合物选自由四甲氧基硅 烷、四乙氧基硅烷、甲基三甲氧基硅烷、缩水甘油醚氧丙基三甲氧基硅烷及它们的组合构成 的组中的一种以上。
[0011] 上述硅氧烷聚合物的分子量可以为约1000至约50000。
[0012] 相对于总100重量％，可包含约5重量％至约100重量％的上述硅氧烷化合物。
[0013] 本发明的再一实施例提供透明导电性膜，包含利用上述低折射层涂敷用组合物形 成的低折射层。
[0014] 上述透明导电性膜可以是透明基材、高折射层、低折射层及导电层的层叠结构。
[0015] 上述低折射层的折射率可以是约1. 4至约1. 5。
[0016] 上述低折射层的厚度可以是约5nm至约100nm。
[0017] 上述高折射层的厚度可以是约20nm至约150nm。
[0018] 上述透明基材可以是包含选自由聚对苯二甲酸乙二醇酯（PET)、聚萘二甲酸乙二 醇酯（PEN)、聚醚砜（PES)、聚碳酸酯（PC)、聚丙烯（PP)、聚氯乙烯（PVC)、聚乙烯（PE)、聚甲 基丙烯酸甲酯（PMMA)、乙烯-乙烯醇（EVA)、聚乙烯醇（PVA)及它们的组合构成的组中的某 一种的单一膜或层叠膜。
[0019] 上述导电层可包含氧化铟锡（ITO,IndiumTinOxide)或氟掺杂氧化锡（FT0， Fluorine-dopedTinOxide)〇
[0020] 在上述透明基材的一面或两面还可包含硬涂层。 有益效果
[0021] 使用上述低折射层涂敷用组合物，可确保涂敷性、光特性及阻隔特性优秀的低折 射层。
[0022] 上述透明导电性膜对酸或碱种类的蚀刻液的抵抗性优秀，并且，可降低导电层的 电阻。
【附图说明】
[0023] 图1简要表示本发明一实施例的透明导电性膜的截面。
[0024] 图2简要表示本发明再一实施例的透明导电性膜的截面。
【具体实施方式】
[0025] 以下，详细说明本发明的实施例。但是，这仅仅作为例示来提示，不会因这些实施 例而限制本发明，本发明只根据权利要求书所要保护的范畴来定义。
[0026] 为了准确说明本发明，省略与说明无关的部分，在说明书全文中，对相同或类似的 结构要素附加相同的附图文字。
[0027] 附图中，为了明确表示各个层及区域，厚度有所放大。并且，在附图中，为了便于说 明，将一部分层及区域的厚度放大表示。
[0028] 以下，在基材的"上部（或下部）"或基材的"上（或下）"形成任意结构，不仅表 示任意结构以接触方式形成在上述基材的上表面（或下表面），还表示并不局限于在上述 基材和基材上（或下）形成的任意结构之间不包括其他结构。
[0029] 低折射层涂敷用组合物
[0030] 本发明的一实施例提供包含硅氧烷化合物及金属盐的低折射层涂敷用组合物。
[0031] 在形成透明导电性膜时，通常情况下，在低折射层的上部蒸镀导电层，并在实施用 于结晶化的高温退火过程之后，导电层的各个区域之间会产生传导率的差异，这是因为在 透明基材中产生的挥发性气体和水分等防止导电层的结晶化。并且，存在由于导电层与低 折射层及高折射层之间的折射率的差异引起的可视性的问题，以及进行用于在导电层形成 图案的蚀刻时产生的低折射层遭到破坏的问题。
[0032] 为此，上述低折射层涂敷用组合物同时包含硅氧烷化合物和金属盐，从而可以对 包含上述低折射层涂敷用组合物的低折射层赋予阻隔特性，并由于上述阻隔特性，在透明 基材中产生的挥发性气体和水分不会影响导电层，从而能够降低导电层的传导率减少的现 象。并且，可以防止由酸或碱等蚀刻液引起的损伤，且在降低导电层的阻力的同时，还能确 保物理特性的提尚。
[0033] 进而，由于硅氧烷化合物本身的物理折射率低，因此，利用包含硅氧烷化合物及金 属盐的低折射层涂敷用组合物来形成低折射层，并通过调节上述低折射层的折射率及厚 度，能够体现优秀的可视性。
[0034] 上述低折射层涂敷用组合物可包含金属盐。金属盐是指包含金属的酸进行中和反 应，从而与水一同产生的金属化合物，因此，通过包含上述金属盐，就能在形成导电层之后， 在高温进行退火时，不使透明基材中产生的挥发性气体接触导电层，从而能够防止在导电 层的结晶化工序之后传导率降低的现象。并且，通过同时包含硅氧烷化合物和上述金属盐， 能够使得上述低折射层涂敷用组合物的结构性结合更加紧密，从而可以形成密度高的低折 射层。
[0035] 上述金属盐可包含选自由锌、钇、三价铬、二价钴、三价钴、镍、镁、铝、一价铜、二价 铜、三价铁、镉、锑、水银、铷、钒及它们的组合构成的组中的一种以上的盐，但并不局限于 此，还可选择使用具有传导率的通常的过渡金属中的一种。并且，上述金属盐可包含选自由 硝酸盐、硫酸盐、羧酸盐、卤化物、醇盐、乙酰丙酮盐及它们的组合构成的组中的一种以上的 盐。
[0036] 具体地，相对于总100重量％，包含约0. 1重量％至约1. 0重量％的上述金属盐。 通过以上述范围的含量包含上述金属盐，能够确保低折射层涂敷用组合物的涂敷性，且利 用上述组合物进行涂敷时，能够促进凝胶化，而增加固化速度。进而，在形成低折射层时，金 属盐填充空隙（void)部分，从而能够改善低折射层的耐化学性。
[0037] 上述低折射层涂敷用组合物可包含硅氧烷化合物。上述硅氧烷化合物可包含硅 氧烷聚合物，上述硅氧烷聚合物包含选自由四甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷、甲基三甲氧基硅 烷、缩水甘油醚氧丙基三甲氧基硅烷及它们的组合构成的组中的一种以上。
[0038] 具体地，上述硅氧烷化合物可包含由化学式1形成的硅氧烷聚合物。化学式1为 (Rl)n-Si-(0-R2)4-n，上述R1是碳数1至18的烷基、乙烯基、烯丙基、环氧基或丙烯酸基， 上述R2是具有碳数1至6的烷基或乙酰氧基，上述n是0 <n< 4的整数。
[0039] 因此，除了上述的之外，上述硅氧烷化合物可包含硅氧烷聚合物，上述硅氧烷 化合物包含选自三乙氧基（乙