光电含钼蚀刻废液再利用处理方法
【技术领域】
[0001]本发明关于一种废液资源化处理，特别是一种光电产业含钼蚀刻废液再利用处理方法。
【背景技术】
[0002]拜电子工业日渐进步所赐，半导体及面板等组件的需求量也日渐增加，但随着制程改良，产业规模的增设，面对所增加的废水及废液的排放及回收，也日渐成为棘手及急需改善的问题。其中光电产业中的铝蚀废液以混酸及错合物等型态(磷酸、硝酸及醋酸)存在，其铝蚀废液中含有过程中被去除的钼金属，其浓度通常介于5?15ppm之间，但此铝蚀废液几乎未具有特别单独回收处理方式，通常仅与厂内其他股废水大量混合稀释后降低钼离子浓度后排出，此不仅造成河川水质，土壤等的重金属残留及大量水资源的浪费外，其中钼金属为稀有的贵重金属，同时存在于铝蚀废液中未经有效回收处理而径予排弃，流失重要的钼资源殊为可惜。
[0003]由此可见，上述现有的粗略处理方式存在重大缺失，实非妥善的设计，而亟需要加以改良。
【发明内容】
[0004]为解决上述现有技术上的缺点以及杜绝钼贵重金属资源的浪费，研发本发明的一种光电产业含钼蚀刻废液再利用处理方法。本发明是将光电产业制程中所排出的含有钼金属的铝蚀刻废液回收再利用，其先采用强碱性阴离子交换树脂吸附钼金属离子，将钼离子浓度由约lOppm含量降至0.5ppm以下，达到环保法规光电业别的放流水标准。钼离子被吸附于阴离子交换树脂内，饱和之后进行溶离解析作业，所得的溶离解析液含高浓度钼金属离子的再利用回收处理，采用的制程技术包含纯化、除杂、晶析、锻烧等程序制成高纯度及高溶解度触媒级氧化钼、高纯精钼酸、高纯度钼酸钠及钼酸铵等钼盐类产品。
[0005]本发明提供一种光电产业含钼蚀刻废液再利用的处理方法，步骤如下:
[0006]以25?30% NaOH溶液将一第一含钼金属蚀刻废液调整在pH 1.5?3.0间，其中该第一钼金属蚀刻废液中的钼离子的浓度范围为5?lOppm，其中第一含钼金属蚀刻废液包含钼金属磷酸错化物、钼金属硝酸错化物以及钼金属醋酸错化物；
[0007]以lm3/hr的流速将该第一钼金属蚀刻废液进入阴离子交换树脂塔内进行吸附，并产生阴离子交换后的一第二含钼金属蚀刻废液，其中该第二含钼金属蚀刻废液中的钼金属含量小于0.3ppm ；
[0008]将该第二含钼金属蚀刻废液加入一调匀剂进行调匀，产生一第三含钼金属蚀刻废液，其中该第三含钼金属蚀刻废液中的钼金属含量为30g/L，该调匀剂含有钠离子及磷酸根离子；
[0009]将该第三含钼金属蚀刻废液于反应槽内搅拌并以蒸气升温至40?80°C之间，并加入氯化镁或氯化钙进行脱磷反应，形成一第四含钼金属蚀刻废液，其中该第四含钼金属蚀刻废液中更包含磷镁错化物或磷钙错化物，其中该脱磷反应的氯化镁或氯化钙的浓度为该第三含钼金属蚀刻废液中磷浓度2?3倍；
[0010]将该第四含钼金属蚀刻废液于过滤机进行过滤分离，形成一第一含钼金属滤饼及一第一含钼金属滤液；以及
[0011]将该第一含钼金属滤饼烘干后，与硫酸铵或尿素粉碎搅拌后形成磷、镁、钼酸铵(NPMg)肥料三要素，将该第一含钼金属滤液于常压式减压蒸发器中，以50?90°C浓缩形成一高纯度钼酸钠。
[0012]本发明提供另一种光电含钼蚀刻废液再利用处理方法，步骤如下:
[0013]以25?30% NaOH溶液将一第五含钼金属蚀刻废液调整在pH 1.5?3.0间，其中该第五钼金属蚀刻废液中的钼离子的浓度范围为5?lOppm，其中第五含钼金属蚀刻废液包含钼金属磷酸错化物、钼金属硝酸错化物以及钼金属醋酸错化物；
[0014]以lm3/hr的流速将该第五钼金属蚀刻废液进入阴离子交换树脂塔内进行，并产生阴离子交换后的一第六含钼金属蚀刻废液，其中该第六含钼金属蚀刻废液中的钼金属含量小于 0.3ppm ；
[0015]将该第六含钼金属蚀刻废液加入一调匀剂进行调匀，产生一第七含钼金属蚀刻废液，其中该第七含钼金属蚀刻废液中的钼金属含量为30g/L，该调匀剂含有钠离子及磷酸根离子；
[0016]将该第七含钼金属蚀刻废液于反应槽内搅拌并以蒸气升温至40?80°C之间，并加入氯化镁或氯化钙进行脱磷反应，形成一第八含钼金属蚀刻废液，其中该第八含钼金属蚀刻废液中更包含磷镁错化物或磷钙错化物，其中该脱磷反应的氯化镁或氯化钙的浓度为该第七含钼金属蚀刻废液中磷浓度2?3倍；
[0017]将该第八含钼金属蚀刻废液于过滤机进行过滤分离，形成一第二含钼金属滤饼及一第二含钼金属滤液；
[0018]将该第二含钼金属滤液于蒸发器中，以50?90°C浓缩产生一第一二次滤液；
[0019]将该第一二次滤液加入2?8%盐酸及1?3%双氧水，并搅拌升温至60?90 °C进行酸沉反应，再将酸沉反应后该第二含钼金属滤液进行过滤，形成一精钼酸滤饼；以及
[0020]将该精钼酸滤饼加入2?8%硝酸或2?8%盐酸并加入2.5%的氯化铵或硝酸铵并搅拌加热至60?80°C后进一步脱水及水洗，形成出一高纯精钼酸。
[0021]本发明提供又一种光电产业含钼蚀刻废液再利用处理方法，步骤如下:
[0022]以25?30% NaOH溶液将一第九含钼金属蚀刻废液调整在pH 1.5?3.0间，其中该第九钼金属蚀刻废液中的钼离子的浓度为5?lOppm，其中第九含钼金属蚀刻废液包含钼金属磷酸错化物、钼金属硝酸错化物以及钼金属醋酸错化物；
[0023]以lm3/hr的流速将该第九钼金属蚀刻废液进入阴离子交换树脂塔内进行，并产生阴离子交换后的一第十含钼金属蚀刻废液，其中该第十含钼金属蚀刻废液中的钼金属含量小于 0.3ppm ；
[0024]将该第十含钼金属蚀刻废液加入一调匀剂进行调匀，产生一第十一含钼金属蚀刻废液，其中该第i^一含钼金属蚀刻废液中的钼金属含量为30g/L，该调匀剂含有钠离子及磷酸根呙子；
[0025]将该第十一含钼金属蚀刻废液于反应槽内搅拌并以蒸气升温至40?80°C之间，并加入氯化镁或氯化钙进行脱磷反应，形成一第十二含钼金属蚀刻废液，其中该第十二含钼金属蚀刻废液中更包含磷镁错化物或磷钙错化物，该脱磷反应的氯化镁或氯化钙的浓度为该第i^一含钼金属蚀刻废液中磷浓度2?3倍；
[0026]将该第十二含钼金属蚀刻废液于过滤机进行过滤分离，形成一第三含钼金属滤饼及一第三含钼金属滤液；
[0027]将该第三含钼金属滤液于常压式减压的蒸发器中，以50?90°C浓缩产生一第二二次滤液；将该第二二次滤液加入2?8%盐酸及1?3%双氧水，并搅拌升温至60?90°C进行酸沉反应，再将酸沉反应后该第三含钼金属滤液进行过滤，形成一精钼酸滤饼；
[0028]将该精钼酸滤饼加入2?8%硝酸或2?8%盐酸并加入2.5%的氯化铵或硝酸铵并搅拌加热至60?80°C后进一步脱水及水洗，形成出一高纯精钼酸；以及
[0029]将该高纯精钼酸于一旋转式电炉内通入空气以300?520°C进行锻烧，降温后形成一高纯触媒氧化钼。
[0030]本发明可应用于光电产业中液晶面板(TFT-1XD)、无机光发射二极管、触摸屏(TP)等平板显示器、电浆显示器以及薄膜太阳能电池等制程所排出的酸性含钼蚀刻废液的回收，其中含有高浓度钼金属离子5?15ppm的废液不能直接排放，而采用强碱性的阴离子交换树脂吸附处理之后排出的其含有微量钼金属离子小于0.2ppm可完全达到法规排放标准的处理。此外，吸附饱和的阴离子交换树脂溶离解析之后含钼蚀刻废液的资源化回收，经纯化、除杂、浓缩及晶析进一步制成钼酸钠制品，且无废水排放的环保型制程技术，或者产制为高纯度钼酸，并锻烧成