1.一种镀覆装置，用于对基板保持件所保持的基板进行镀覆处理，所述镀覆装置的特征在于，具有：
镀覆槽，该镀覆槽能够接受保持有基板的基板保持件；
挡块部件，该挡块部件从所述镀覆槽的内侧的壁面向所述镀覆槽的内侧延伸，并且能够在所述镀覆槽内移动；以及
移动机构，该移动机构用于使所述挡块部件向配置在所述镀覆槽内的基板保持件移动。
2.根据权利要求1所述的镀覆装置，其特征在于，
所述移动机构构成为使所述挡块部件向配置在所述镀覆槽内的基板保持件的侧面移动。
3.根据权利要求1所述的镀覆装置，其特征在于，
所述移动机构构成为使所述挡块部件向配置在所述镀覆槽内的基板保持件的前面移动。
4.根据权利要求1所述的镀覆装置，其特征在于，
所述移动机构构成为使所述挡块部件向配置在所述镀覆槽内的基板保持件的背面移动。
5.根据权利要求1所述的镀覆装置，其特征在于，
所述挡块部件具有密封部件，该密封部件能够与配置在所述镀覆槽内的基板保持件接触。
6.根据权利要求1所述的镀覆装置，其特征在于，
所述挡块部件在所述镀覆槽的高度方向上延伸。
7.根据权利要求1所述的镀覆装置，其特征在于，
所述挡块部件沿着所述镀覆槽的内侧的侧面以及底面延伸。
8.根据权利要求1所述的镀覆装置，其特征在于，
所述移动机构具有流体弹簧。
9.根据权利要求1所述的镀覆装置，其特征在于，
所述移动机构具有凸轮要素。