高精持续供胶泵装置的制作方法

文档序号:5458230阅读:147来源:国知局
专利名称:高精持续供胶泵装置的制作方法
技术领域
本发明涉及晶片喷涂领域,具体为一种高精持续供胶泵装置,应用于半导体制程中对晶片喷涂的供胶。
背景技术
传统晶圆均为旋转涂覆,利用间歇式供胶胶泵配合离心力使晶圆表面胶膜均 勻,但在不规则表面无法实施。传统的甩胶技术无法解决不规则晶圆表面的胶膜均勻 性,喷涂技术的产生解决了这个难题,喷胶的供液泵需要实现高精度并可以连续供液。

发明内容
本发明的目的在于提供一种高精持续供胶泵装置,可实现喷胶工艺中的胶液供 应,对液体流量高精度控制,保证连续运转的稳定性。本发明的技术方案是一种高精持续供胶泵装置,该装置设有三个活塞缸,每个活塞缸的一端安装活 塞,每个活塞缸的另一端分别通过活塞缸出口连接管路与出口管路连通,通过活塞缸进 口连接管路与进口管路连通,在所述活塞缸出口连接管路、活塞缸进口连接管路上分别 设有单向阀,出口管路连接外部喷嘴,进口管路连接供液罐,三个活塞的活塞杆端部分 别与一传动轴上的三个凸轮顶触,三个凸轮围绕传动轴均勻分布。所述的高精持续供胶泵装置,三个活塞缸设置于防护体内。所述的高精持续供胶泵装置,防护体顶部设置上端盖,出口管路、进口管路设 置于上端盖中。所述的高精持续供胶泵装置,三个活塞杆与凸轮顶触点的高度按顺序逐渐升高 或降低。所述的高精持续供胶泵装置,传动轴通过联轴器与微步进马达连接。本发明的有益效果是1、本发明为半导体不规则表面晶片喷涂技术,它是强化对晶片不规则表面均勻 喷涂的供液装置。持续喷胶方法喷雾不规则表面晶片,需要用高精度持续供胶装置供应 光刻胶。该装置设有步进电机、活塞、凸轮实现高精度持续供胶,利用微步进控制器与 凸轮和活塞配合实现高精度控制。2、本发明利用微步进马达与活塞缸及活塞配合单向阀实现液体的吐出和回吸, 交替工作,实现液体的连续供应和连续补充。


图1为本发明高精持续供胶泵装置的结构示意图。图2为本发明高精持续供胶泵装置的管路示意图。图中,1上端盖;2出口管路;3进口管路;4单向阀;5防护体;6活塞缸;7活塞;8凸轮;9传动轴;10联轴器;11微步进马达;12活塞缸出口连接管路;13活塞 缸进口连接管路。
具体实施方式
如图1-2所示,本发明高精持续供胶泵装置主要包括上端盖1、出口管路2、 进口管路3、单向阀4、防护体5、活塞缸6、活塞7、凸轮8、传动轴9、联轴器10、微 步进马达11、活塞缸出口连接管路12、活塞缸进口连接管路13,具体结构如下在防护体5内设置三个活塞缸6,每个活塞缸6的一端开口用于安装活塞7,每 个活塞缸6的另一端分别通过活塞缸出口连接管路12与出口管路2连通,通过活塞缸进 口连接管路13与进口管路3连通,在所述活塞缸出口连接管路12、活塞缸进口连接管路 13上分别设有单向阀4,出口管路2负责连接外部喷嘴,进口管路3负责连接供液罐。防 护体5顶部设置上端盖1,所述的出口管路2、进口管路3设置于上端盖1中。三个活塞缸6分别与各自的活塞缸出口连接管路12、活塞缸进口连接管路13进 行连接,活塞缸6负责胶液缓存。三个活塞7的活塞杆端部分别与三个凸轮8顶触,三 个凸轮8围绕传动轴9均勻分布,即三个活塞杆与凸轮8顶触点的高度按顺序逐渐升高或 降低),传动轴9通过联轴器10与微步进马达11连接,三个凸轮8交替上升实现胶液的 连续供应。本发明中,供胶每分钟喷射0.1-5.0毫升(精度士0.01)。本发明中,微步进马达的技术参数如下1.8度/步,可细分至1/2500。本发明的工作过程如下工作时,微步进马达11带动传动轴9转动,传动轴9由联轴器10与微步进马达 11连接,传动轴9带动三个凸轮8转动,三个凸轮8连接活塞7的部位不同,三个凸轮8 设计均勻排列,这样传动轴9旋转一周时,三个凸轮8交替上升实现胶液的连续供应。活 塞7通过上下吐出和回吸胶液,在活塞缸6中的胶液经活塞缸出口连接管路12、活塞缸进 口连接管路13与进、出胶液的单向阀连接实现胶液的控制。利用微步进马达与活塞缸及 活塞配合单向阀实现液体的吐出和回吸,交替工作,实现液体的连续供应和连续补充。结果表明,应用微步进马达,通过对凸轮和活塞缸直径的运算可以很精确的得 出每次喷射的液体容量,通过三个凸轮的均勻分布实现对液体的持续供应。
权利要求
1.一种高精持续供胶泵装置,其特征在于该装置设有三个活塞缸,每个活塞缸的 一端安装活塞,每个活塞缸的另一端分别通过活塞缸出口连接管路与出口管路连通,通 过活塞缸进口连接管路与进口管路连通,在所述活塞缸出口连接管路、活塞缸进口连接 管路上分别设有单向阀,出口管路连接外部喷嘴,进口管路连接供液罐,三个活塞的活 塞杆端部分别与一传动轴上的三个凸轮顶触,三个凸轮围绕传动轴均勻分布。
2.按照权利要求1所述的高精持续供胶泵装置,其特征在于三个活塞缸设置于防 护体内。
3.按照权利要求2所述的高精持续供胶泵装置,其特征在于防护体顶部设置上端 盖,出口管路、进口管路设置于上端盖中。
4.按照权利要求1所述的高精持续供胶泵装置,其特征在于三个活塞杆与凸轮顶 触点的高度按顺序逐渐升高或降低。
5.按照权利要求1所述的高精持续供胶泵装置,其特征在于传动轴通过联轴器与 微步进马达连接。
全文摘要
本发明涉及晶片喷涂领域,具体为一种高精持续供胶泵装置,应用于半导体制程中对晶片喷涂的供胶。该装置设有三个活塞缸,每个活塞缸的一端安装活塞,每个活塞缸的另一端分别通过活塞缸出口连接管路与出口管路连通,通过活塞缸进口连接管路与进口管路连通,在所述活塞缸出口连接管路、活塞缸进口连接管路上分别设有单向阀,出口管路连接外部喷嘴,进口管路连接供液罐,三个活塞的活塞杆端部分别与一传动轴上的三个凸轮顶触,三个凸轮围绕传动轴均匀分布。本发明实现喷胶工艺中的胶液供应,对液体流量高精度控制,保证连续运转的稳定性。
文档编号F04B9/04GK102022300SQ201010284590
公开日2011年4月20日 申请日期2010年9月17日 优先权日2010年9月17日
发明者孙东丰, 王冲 申请人:沈阳芯源微电子设备有限公司
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