真空泵的控制装置和具备它的真空泵的制作方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及作为半导体制造装置、平板显示器制造装置、太阳能面板制造装置的工艺腔室、其他腔室的气体排气机构等使用的真空泵的控制装置和具备它的真空泵。
【背景技术】
[0002]以往，这种真空泵作为其控制装置而具备例如专利文献I所记载的电源装置
(50)。该电源装置(50)具备具有开口部(凹部51b的上表面开口部)的第I壳体(基体部件
51)、安装在该第I壳体上并将上述开口部覆盖的第2壳体(覆盖部件52)、设置在上述第I壳体内并控制真空泵的基板(电路基板71)和将该基板覆盖的模制部(保护材料55)，通过上述模制部保护上述基板和该基板上的电子零件(72、73)，防止起因于结露的电路短路的发生等。
[0003]但是，根据上述专利文献I所记载的电源装置(50)，如该文献I的图2或图5等所图示那样，模制部(保护材料55)比第I壳体(基体部件51)的开口部(凹部51b的上表面开口部)伸出。因此，当将由第I壳体(基体部件51)、基板(电路基板71)、模制部(保护材料55)构成的装置主体保管或输送时，通过保管时或输送时的温度变化而模制部膨胀，有可能与其他部件接触而在模制部中发生龟裂等的损坏。如果在模制部发生龟裂等的损坏，则通过因结露带来的水滴从损坏部位向模制部的内部渗透，有可能发生基板上的电子零件损伤或电路短路等，损害控制装置的正常的动作。此外，在将装置主体与第2壳体(覆盖部件
52)分离、将装置主体堆起多个保管或输送时，必须使夹插到堆起的装置主体间的间隔件的高度至少变高模制部的伸出量，在体积变大这一点上不适合于保管及输送。
[0004]在上述专利文献I所记载的电源装置(50)中，由于模制部、第I壳体、基板分别由热膨胀率不同的材料构成，所以有可能通过因温度变化带来的模制部、第I壳体、基板的膨胀收缩而在模制部发生龟裂等的损坏。如果在模制部发生龟裂等的损坏，则还有可能通过因结露带来的水滴从损坏部位向模制部的内部渗透，基板上的电子零件损伤或发生电路短路等，控制装置的正常的动作受损。
[0005]此外，如果参照专利文献I的图5，则在该文献I所记载的电源装置(50)中，如果在模制部(保护材料55)的表面存在凹凸，则因结露带来的水滴集中在凹凸的凸部，还有可能水滴落在没有被模制部覆盖的基板(电路基板81)上、基板上的电子零件损伤或发生电路短路等，控制装置的正常的动作受损。
[0006]另外，上述括号内的部件名称和附图标记是在专利文献I中使用的部件名称和附图标记。
[0007]专利文献1:特开2013 — 29063号公报。
【发明内容】
[0008]本发明是为了解决上述问题而做出的，其目的是提供一种适合防止因温度变化带来的模制部的损坏的真空泵的控制装置。
[0009]为了达到上述目的，本发明是一种真空泵的控制装置，控制真空泵，其特征在于，具备:壳体，具有开口部；电路基板，设置在上述壳体内；和模制部，将上述电路基板覆盖；上述模制部的表面比上述壳体的上述开口部凹陷。
[0010]在上述本发明中，也可以是，其特征在于，上述模制部的表面为平面状。
[0011]在上述本发明中，也可以是，其特征在于，上述模制部的表面的与上述壳体的接触部的高度比上述模制部的表面的其他部分高。
[0012]在上述本发明中，也可以是，其特征在于，对上述基板的角部实施了 R倒角或C倒角。
[0013]在上述本发明中，也可以是，其特征在于，对上述模制部的角部实施了 R倒角或C倒角。
[0014]在上述本发明中，也可以是，其特征在于，使上述壳体内的角部为R形状或C倒角形状。
[0015]在上述本发明中，也可以是，其特征在于，上述壳体和上述电路基板通过连结部件连结；上述连结部件具备密封构造作为密封上述连结部件周围的间隙的机构。
[0016]此外，本发明是一种真空泵的控制装置，控制真空泵，其特征在于，具备:壳体，具有开口部；电路基板，设置在上述壳体内；和模制部，将上述电路基板覆盖；对上述电路基板的角部实施了 R倒角或C倒角。
[0017]进而，本发明是具备上述真空泵的控制装置的真空泵。
[0018]在本发明中，作为真空泵的控制装置的具体的结构，如上述那样，采用模制部的表面比壳体的开口部凹陷的结构。因此，即使通过温度变化而模制部膨胀/收缩，也不会比第I壳体的开口部伸出。因而，例如在将由壳体、基板、模制部构成的装置主体保管或输送时，即使通过保管时或输送时的温度变化而模制部膨胀，也能够降低在模制部发生龟裂等的损坏的可能性。此外，当将装置主体堆起多个保管或输送时，能够使向堆起的装置主体间夹插的间隔件的高度变低，即使在保管或输送时堆起也不会成为大体积，能够提供保管或输送较容易的真空泵的控制装置。
[0019]此外，在本发明中，作为真空泵的控制装置的具体的结构，采用如上述那样对基板的角部实施了 R倒角或C倒角的结构，由此，构成为，即使是通过温度变化而壳体、基板及模制部热膨胀的情况，因温度变化造成的热应力的集中部位也减少，所以能够提供适合防止因温度变化造成的模制部的损坏的真空泵的控制装置。
[0020]在本发明中，在采用如上述那样模制部的表面为平面状的结构的情况下，由于在该模制部的表面没有水滴容易积存的凸部，所以不易发生从模制部表面的水滴的落下，能够有效地防止因落下的水滴带来的不良状况，例如在安装在壳体(第I壳体)上的其他壳体(第2壳体)的内侧安装着没有被模制部覆盖的别的基板的情况下，能够有效地防止水滴落到该基板上、基板上的电子零件损伤或发生电路短路等的不良状况。
[0021]在本发明中，通过采用如上述那样模制部的表面的与壳体的接触部的高度比模制部的表面的其他部分高的结构，即使是使真空泵的控制装置上下反转而使用的情况，水滴也不容易积存在壳体和模制部的边界附近。
【附图说明】
[0022]图1是具备作为本发明的一实施方式的真空泵的控制装置的真空泵的说明图。
[0023]图2是图1的真空泵的控制装置的剖视图。
[0024]图3 Ca)是在图1、图2的真空泵的控制装置中采用的基板的一实施方式的俯视图，图3 (b)是作为该基板的另一实施方式的俯视图。
[0025]图4 Ca)是作为在图1、图2的真空泵的控制装置中采用的第I壳体、模制部的一实施方式的俯视图，图4 (b)是作为该第I壳体、该模制部的其他实施方式的俯视图。
[0026]图5是作为在图1、图2的真空泵的控制装置中采用的密封构造的一实施方式的剖视图。
[0027]图6是作为在图1、图2的真空泵的控制装置中采用的密封构造的其他实施方式的剖视图。
【具体实施方式】
[0028]以下，一边参照附图一边对用来实施本发明的最优选的形态详细地说明。
[0029]图1是具备作为本发明的一实施方式的真空泵的控制装置的真空泵的说明图。此夕卜，图2是图1的真空泵的控制装置的剖视图，图3 (a)是作为在图1、图2的真空泵的控制装置中采用的基板的一实施方式的俯视图，图3 (b)是作为该基板的其他实施方式的俯视图，图4 (a)是作为在图1、图2的真空泵的控制装置中采用的第I壳体、模制部的一实施方式的俯视图，图4 (b)是作为该第I壳体、该模制部的其他实施方式的俯视图。
[0030]图1的真空泵I为将通过驱动马达旋转的转子用磁轴承支承、通过转子的旋转从吸气口 2朝向排气口 3将气体排气的构造，例如作为半导体制造装置、平板显示器制造装置、太阳能面板制造装置的工艺腔室、其他腔室的气体排气机构等使用。
[0031]另外，图1的真空泵I的磁轴承为用电磁铁的磁力将转子在径向及轴向上支承、并将转子的径向变位及轴向变位用传感器检测、将其检测信号向控制装置输出的构造，由于这一点是周知的，所以其详细说明省略。驱动马达也还是周知的，所以其详细说明省略。
[0032]参照图2，安装在图1的真空泵I上的真空泵的控制装置4具备具有开口部5的第I壳体6、安装在第I壳体6上的第2壳体7、从开口部5侧设置在第I壳体6内的电路基板(例如控制真空泵I的基板8 (8A))和将该电路基板覆盖的模制部9。作为上述电路基板，也可以包括在真空泵I的控制以外的其他用途中使用的基板。另外，以下为了说明的方便，作为上述电路基板的一例而举上述例示的基板8 (8A)进行说明。
[0033]在第I壳体6的与开口部5相反的面侧设有水冷单元10，水冷单元10为通过从水冷管11导入到水冷单元10内的冷媒将第I壳体6内冷却的结构。
[0034]此外，第I壳体6经由位于水冷单元10侧的安装间隔件12安装在真空泵I的底部，但也可以通过与它不同的手段将第I壳体6安装到真空泵I上。
[0035]参照图4，第I壳体6的外形从其上表面看是四边形，但也可以是四边以外的多边形。关于这一点第I壳体6的开口部5也是同样的。此外，第I壳体6的外形从其上表面看也可以是大致圆形。
[0036]第2壳体7为通过将其周缘部用螺栓连结在第I壳体6的周缘部上而安装到第I壳体6上、将该第I壳体6的开口部5整体覆盖的构造。另外，也可以采用螺栓以外的连结机构。
[0037]控制真空泵I的基板8如上述那样，大体分为设置在第I壳体6内的基板(以下称作“第I基板8A”)、和设置在真空泵I的第2壳体7的内侧的基板(以下称作“第2基板8B，，)。
[0038]第I基板8A是主要进行对驱动马达或磁轴承等那样的真空泵I的电装零件的电力的供给和该供给电力的控制的电源电路基板，将被该电源电路基板控制的稳定的电力向真空泵I的电装零件供给。
[0039]第2基板8B是将例如从磁轴承的传感器输