出的信号(转子的径向变位及轴向变位)等从真空泵I的电装零件输出的信号接收、基于接收到的信号进行电装零件的控制(例如在磁轴承的情况下是对于电磁铁的励磁电流的调节控制)的控制电路基板。但是，第I基板8A和第2基板SB的作用并不限定于此。此外，基板也并不限定于两片。
[0040]模制部9由树脂等绝缘性模制材料构成，将存在于第I基板8A上的变换器或逆变器等电子零件18及配线电路(图示省略)从水滴保护。在图1、图2的例子中，由于在第I基板8A的表背面设有电子零件18及配线电路，所以与此对应，模制部9为将第I基板8A的表面和背面覆盖的形态。此外，参照图1、图2，在这些图中，仅将第I基板8A用模制部9覆盖，但根据需要，也可以将第2基板SB也用模制部9覆盖。
[0041]此外，模制部9的表面如图1、图2那样比第I壳体6的开口部5凹陷。其凹陷的程度(凹陷量或凹陷深度)至少为模制部9的表面不因真空泵I的使用时、保管时、输送时的温度变化而比第I壳体6的开口部5伸出的程度。
[0042]上述模制部9可以通过使树脂等绝缘性模制材料流入到第I壳体6内并使其固化来制作。此时，在本实施方式中构成为，通过使用具有在固化前为大致平面状之程度的粘性的模制材料，模制部9的表面大致整体上为平面状。此外，由于在本实施方式中使用的模制材料粘性较低，所以设定基板上的电子零件18被模制部9覆盖的量(模制部9的高度)比较容易。
[0043]这里，上述“平面状”，是指面为大致平坦的。
[0044]如果模制部9的表面不是平面状而模制部9的表面上存在凹凸，则通过水滴集中于凸部而水滴较快地成长，水滴容易从模制部9表面向第2基板SB侧落下。作为有效地防止这样的不良状况的手段，在本实施方式中，通过如上述那样将模制部9的表面做成平面状，在模制部9的表面上减少水滴容易集中而积存的部位。
[0045]参照图2，通过模制部9和第I壳体6的边界附近、具体而言接触在第I壳体6上的模制部9表面外周缘9A例如利用模制材料的粘性形成为图2那样的凸形状，减少了水滴容易集中而积存的部位。这样的凸形状的构造例如在使本实施方式的真空泵的控制装置4上下反转使用的情况下具有特别有用的技术意义。
[0046]S卩，在专利文献I所记载的电源装置(50)中，第I壳体(基体部件51)和模制部(保护材料55)的边界附近、具体而言模制部(保护材料55)表面外周缘凹陷(参照该文献I的图2或图5等)。因此，在使该电源装置(50)例如上下反转使用的情况下，还有因结露带来的水滴积存在该凹陷中、在该第I壳体(基体部件51)为铁制的情况下生锈的问题。此外，还有可能积存在该凹陷中的水滴穿过因膨胀/收缩产生的模制部的龟裂向基板(电路基板71)侧渗透，基板上的电子零件损伤或发生电路短路等，电源装置(50)的正常的动作受损。(在该段落中，上述括号内的部件名称和附图标记是在专利文献I中使用的。)。
[0047]相对于此，在本实施方式的真空泵的控制装置4中，如上述那样，第I壳体6和模制部9的边界附近、具体而言模制部9表面外周缘9A如上述那样形成为凸形状，变得比模制部9的其他部分高，所以在使真空泵的控制装置4上下反转而使用的情况下，水滴也不会积存在第I壳体6和模制部9的边界附近，即使在该第I壳体6是铁制的情况下也不会生锈，并且也不会有通过水滴穿过龟裂渗透而真空泵的控制装置4的正常的动作受损的情况。
[0048]对于第I基板8A的角部，实施了图3 (a)那样的R倒角或图3 (b)那样的C倒角。通过第I基板8A的发热或水冷单元10的动作而第I壳体6内的温度变化，第I壳体6、第I基板8A及模制部9热膨胀或收缩。其膨胀率或收缩率按照第I壳体6、第I基板8A、模制部9分别不同。因此，如果在第I基板8A上存在角部，则因温度变化带来的热应力集中在该角部周边的模制部9，容易在模制部9发生龟裂等的损坏。作为有效地抑制由起因于这样的温度变化的热应力的集中造成的模制部9的损坏的手段，在本实施方式中，对第I基板8A的角部实施了 R倒角或C倒角。
[0049]另外，虽然图示省略，但也可以采用对通过上述C倒角产生的角部再实施R倒角的结构、即C倒角和R倒角的组合。此外，上述R倒角或C倒角、以及R倒角与C倒角的组合也可以对第2基板SB的角部实施。
[0050]对于模制部9的角部实施了图4 (a)那样的R倒角或该图(b)那样的C倒角。如上述那样，模制部9热膨胀或收缩。通过膨胀、收缩的反复，容易在模制部9发生龟裂等的损坏。作为有效地抑制这样的模制部9的损坏的手段，在本实施方式中，对模制部9的角部实施了 R倒角或C倒角。在本实施方式中，在对第I壳体6内的角部实施图4 (a)那样的R形状或图4 (b)那样的C倒角形状的加工后，通过使树脂等绝缘性模制材料流入到该已加工的第I壳体6内并使其固化，对模制部9的角部实施R倒角或C倒角，但并不限定于此。例如也可以通过研磨或切削等机械加工对模制部9的角部实施R倒角或C倒角。
[0051]图5是作为在图1、图2的真空泵的控制装置中采用的密封构造的一实施方式的剖视图，图6是作为该密封构造的另一实施方式的剖视图。
[0052]参照图1、图2，第I壳体6和第I基板8A通过连结螺栓13连结，连结螺栓13具备图5或图6所示的密封构造14作为密封该连结螺栓13周围的间隙的机构。
[0053]图5的密封构造14通过在连结螺栓13的头部与第I壳体6之间作为密封部件而夹装填密件15，将连结螺栓13周围的间隙密封。由这样的构造构成的图5的密封构造14作为降低从连结螺栓13周围的间隙的模制材料的泄漏的机构、以及降低经由该间隙的从壳体6外部向内部的水滴的渗透的机构发挥功能。
[0054]图6的密封构造14通过在穿设在第I壳体6上的连结螺栓13的通孔周围设置密封件安装槽16并在该密封件安装槽16中作为密封部件安装O形圈17，将连结螺栓13周围的间隙密封。由这样的构造构成的图6的密封构造也还具有与前面说明的图5的密封构造同样的功能。
[0055]如以上说明，在本实施方式的真空泵的控制装置4中，作为其具体的结构，采用模制部9的表面为比第I壳体6的开口部5凹陷的形态的结构。因此，即使通过温度变化而模制部9膨胀/收缩，也不会从第I壳体6的开口部伸出。因而，例如在将由第I壳体6、基板8 (8A)、模制部9构成的装置主体保管或输送时，即使通过保管时或输送时的温度变化而模制部膨胀，也能够降低在模制部发生龟裂等的损坏的可能性。此外，当将装置主体和第2壳体7各自分离、将装置主体堆起多个而保管或输送时，能够使夹插到堆起的装置主体间的间隔件的高度变低，即使在保管或输送时堆起也不会成为大体积，保管或输送较容易。
[0056]此外，在本实施方式的真空泵的控制装置4中，作为其具体的结构，采用对基板8(8A)的角部实施了 R倒角或C倒角的结构，由此，构成为，即使在通过温度变化而第I壳体6、基板8 (8A)及模制部9热膨胀的情况下，因温度变化带来的热应力的集中部位减少，所以适合于防止因温度变化带来的模制部9的损坏。
[0057]本发明并不限定于以上说明的实施方式，在本发明的技术思想内能够由在本领域具有通常的知识的人进行许多变形。例如，本发明能够应用到在图1所示的真空泵的控制装置4中省略了第2壳体的结构中。
[0058]附图标记说明 I真空泵
2吸气口 3排气口
4真空泵的控制装置 5开口部 6第I壳体 7第2壳体 8基板 8A第I基板 8B第2基板 9模制部
9A模制部的表面外周缘 10水冷单元 11水冷管 12安装间隔件 13连结螺栓 14密封构造 15填密件 16密封件安装槽 17 O形圈
18电子零件。
【主权项】
1.一种真空泵的控制装置，控制真空泵，其特征在于，具备:壳体，具有开口部；电路基板，设置在上述壳体内；和模制部，将上述电路基板覆盖；上述模制部的表面比上述壳体的上述开口部凹陷。2.如权利要求1所述的真空泵的控制装置，其特征在于，上述模制部的表面为平面状。3.如权利要求1或2所述的真空泵的控制装置，其特征在于，上述模制部的表面的与上述壳体的接触部的高度比上述模制部的表面的其他部分高。4.如权利要求1?3中任一项所述的真空泵的控制装置，其特征在于，对上述电路基板的角部实施了 R倒角或C倒角。5.如权利要求1?4中任一项所述的真空泵的控制装置，其特征在于，对上述模制部的角部实施了 R倒角或C倒角。6.如权利要求1?5中任一项所述的真空泵的控制装置，其特征在于，使上述壳体内的角部为R形状或C倒角形状。7.如权利要求1?6中任一项所述的真空泵的控制装置，其特征在于，上述壳体和上述电路基板通过连结部件连结；上述连结部件具备密封构造作为密封上述连结部件周围的间隙的机构。8.一种真空泵的控制装置，控制真空泵，其特征在于，具备:壳体，具有开口部；电路基板，设置在上述壳体内；和模制部，将上述电路基板覆盖；对上述电路基板的角部实施了 R倒角或C倒角。9.一种真空泵，其特征在于，具备权利要求1?8中任一项所述的真空泵的控制装置。
【专利摘要】提供一种适合防止由温度变化带来的模制部的损坏的真空泵的控制装置。控制真空泵（1）的控制装置（4）具备具有开口部（5）的壳体（6）、设置在壳体（6）内的电路基板（8）和将电路基板（8）覆盖的模制部（9），模制部（9）的表面比第1壳体（6）的开口部（5）凹陷。
【IPC分类】F04D27/00
【公开号】CN104912829
【申请号】CN201510062645
【发明人】大立好伸, 高阿田勉, 前岛靖
【申请人】埃地沃兹日本有限公司
【公开日】2015年9月16日
【申请日】2015年2月6日