静电电容型输入装置的制造方法及静电电容型输入装置、以及具备其的图像显示装置制造方法【专利摘要】本发明提供能够以高产率获得即使为薄层，亮度及白度也良好的装饰层，能够消除金属配线的短路的担忧，能够以简便的步骤高品质地制造薄层/轻量化的静电电容型输入装置的静电电容型输入装置的制造方法。一种包含前面板、在所述前面板的非接触侧至少包含下述(1)～(3)的要素的静电电容型输入装置的制造方法，其特征在于在所述前面板的非接触侧依序层叠上述(1)、上述(2)及上述(3)，(1)包含无机白色颜料及粘合剂，膜厚为1μm以上且不足30μm的装饰层(2)包含无机物的层叠体或金属的反射层(3)掩膜层。【专利说明】静电电容型输入装置的制造方法及静电电容型输入装置、以及具备其的图像显示装置【
技术领域：
】[0001]本发明涉及一种用以制造可将手指的接触位置检测为静电电容的变化的静电电容型输入装置的装饰用转印膜、静电电容型输入装置的制造方法及由所述制造方法而所得的静电电容型输入装置、以及包含所述静电电容型输入装置作为构成要素的图像显示装置。【
背景技术：
】[0002]在移动电话、汽车导航、个人计算机、售票机、银行终端等电子设备中，近年来在液晶装置等的表面配置平板（tablet)型的输入装置，一面参照液晶装置的图像显示区域所显示的指示图像一面用手指或触控笔等触碰显示所述指示图像的场所，由此进行与指示图像对应的信息输入。[0003]此种输入装置（触摸屏）存在电阻膜型、静电电容型等。然而，电阻膜型输入装置是膜与玻璃的2枚结构，是按下膜而使其短路的结构，因此具有动作温度范围狭窄、或随时间变化减弱的缺点。[0004]相对于此，静电电容型输入装置具有仅仅在一枚基板形成透光性导电膜即可的优点。在所述静电电容型输入装置中，例如存在有如下类型的装置：在相互交叉的方向上使电极图案延伸，探测手指等接触时电极间的静电电容变化而检测输入位置（例如参照下述专利文献1)。[0005]而且，作为静电电容型输入装置，也存在有如下类型的装置：对透光性导电膜的两端施加同相、同电位的交流电，探测在手指接触或接近而形成电容器（capacitor)时所流动的微弱电流，从而检测输入位置。作为此种静电电容型输入装置，揭示有包含如下者的静电电容型输入装置：使多个垫部分经由连接部分而在第一方向上延伸所形成的多个第一透明电极图案、经由层间绝缘层而与上述第一透明电极图案电绝缘，且在与第一方向交叉的方向延伸而形成的包含多个垫部分的多个第二透明电极图案（例如参照下述专利文献2)。然而，所述静电电容型输入装置在所制作的静电电容型输入装置上层叠前面板，因此存在静电电容型输入装置变厚且变重的问题。[0006]另外，揭示了在前面板的非接触侧表面一体地形成有掩膜层、读出电路、层间绝缘层的静电电容型触摸屏（例如参照下述专利文献3)。在所述专利文献3中，静电电容型触摸屏由于前面板与静电电容型输入装置一体化，因此变得可薄层/轻量化，另外由掩膜层遮蔽读出电路，因此装置外观得到改善。[0007][现有技术文献][0008][专利文献][0009][专利文献1]日本专利特开2007-122326号公报[0010][专利文献2]日本专利第4506785号公报[0011][专利文献3]日本专利特开2009-193587号公报[0012][专利文献4]日本专利特开2011-218561号公报[0013][专利文献5]日本专利特开2008-169237号公报[0014][专利文献6]日本专利特开2011-197220号公报【
发明内容】[0015]发明要解决的课题[0016]在专利文献3中，仅仅存在可由黑色树脂或其他不透明的涂层材料形成掩膜层的记载，但可视需要在上述掩膜层与前面板之间设置各种色调（黑、白、中间色（pastelcolor)、金属色泽等）的装饰层，近年来在其中特别是要求提高白色装饰层的亮度与白度。[0017]作为设置所述装饰层的方法，现在的主流是利用涂布液体抗蚀剂或网板印刷等的方法。[0018]另一方面，在液晶或有机电激发光（electroluminescence,EL)显示器上具有静电电容型触摸屏的智能手机（smartphone)或平板个人计算机（personalcomputer，PC)中，开发、发行在前面板（直接用手指接触的面）中使用以康宁（Corning)公司的大猩猩玻璃（gorillaglass)(注册商标）为代表的强化玻璃的。[0019]本发明人等人进行了研究，结果可知若欲在所述强化玻璃基板上使用装饰层形成用液体抗蚀剂或网板印刷墨水而形成白色装饰层，则为了使用遮蔽能力小的液体抗蚀剂或网板印刷墨水而形成白色装饰层，必须分数次进行液体抗蚀剂涂布及网板印刷，从而存在如下问题：产生由此而造成的泡、不均，由于步骤数多而引起产率减少等成本减低并不容易。另外，在强化玻璃上设置装饰层后存在如下的问题点：若在用以制作透明导电层等电路的步骤中进行加热，则白度降低。[0020]相对于此，作为耐热性高的白色膜，提出了如下的多层膜，上述多层膜的特征在于：包含至少含有（A)在分子内实质上不含硅的热固性树脂及（B)白色着色剂的白色热固性树脂组合物的层设于聚酰亚胺膜的至少单面（例如参照专利文献4)。然而，其也同样地存在如下的问题点：若在用以制作透明导电层等电路的步骤中进行高温加热，则白度降低。[0021]同样地，作为耐热性高的膜，提出了如下的白色聚酰亚胺膜，上述白色聚酰亚胺膜可使在使二胺与芳香族四羧酸反应而所得的聚酰胺酸中混合有白色颜料的聚酰亚胺前驱物膜进行酰亚胺化而得（例如参照专利文献5)。然而，其也同样地存在如下的问题点：若在用以制作透明导电层等电路的步骤中进行高温加热，则白度降低。[0022]作为有效利用扩散光的机构，提出了如下的光漫反射膜，上述光漫反射膜在塑料膜的单面至少依序形成有：含有树脂与透明微粒子的光扩散层、及金属反射层（例如参照专利文献6)。[0023]然而，所述光漫反射膜中所使用的树脂及透明微粒子的耐热性低，同样地存在如下的问题点：在用以制作透明导电层等电路的步骤中进行高温加热的情形时，白度降低。[0024]如上所述，本发明人进行了研究，结果可知在利用这些文献中所记载的方法形成薄层的白色装饰层的情形时，无法获得满足转印后的亮度及白度的性能的白色装饰层。而且，可知也难以以高产率获得满足上述特性的白色装饰层。[0025]本发明所欲解决的课题在于提供：能够以高产率获得即使薄层，亮度及白度也良好的白色装饰层，能够以简便的步骤高品质地制造可薄层/轻量化的静电电容型输入装置的静电电容型输入装置的制造方法、及利用所述制造方法而所得的静电电容型输入装置、以及使用所述静电电容型输入装置的图像显示装置。[0026]解决问题的技术手段[0027]对此，本发明人对白色装饰层的白度反复进行进一步研究，结果发现通过在装饰层设置特定组成的反射层，能够以高产率获得即使薄层，亮度及白度也良好的装饰层，而且，可通过设置绝缘性掩膜层而消除导入特定组成的反射层时金属配线的短路的担忧，能够以简便的步骤高品质地制造可薄层/轻量化的静电电容型输入装置，从而完成本发明。[0028]作为用以解决上述课题的具体的手段的本发明如下所述。[0029][1]-种静电电容型输入装置的制造方法，上述静电电容型输入装置包含前面板、在上述前面板的非接触侧至少包含下述（1)?（3)的要素，[0030]上述静电电容型输入装置的制造方法的特征在于：在上述前面板的非接触侧依序层叠上述（1)、上述（2)及上述（3):[0031](1)包含无机白色颜料及粘合剂、膜厚为1μm以上且不足30μm的装饰层[0032](2)包含无机物的层叠体或金属的反射层[0033](3)掩膜层。[0034][2]如[1]所述的静电电容型输入装置的制造方法，其中，[0035]上述反射层优选为包含金属。[0036][3]如[1]或[2]所述的静电电容型输入装置的制造方法，其中，[0037]上述反射层的厚度优选为IOOnm以上。[0038][4]如[1]?[3]中任一项所述的静电电容型输入装置的制造方法，其中，[0039]优选为使用包含着色层的转印膜而至少形成上述（1)。[0040][5]如[1]?[4]中任一项所述的静电电容型输入装置的制造方法，其中，[0041]优选为包含：在层叠上述（1)装饰层之后，在0·08atm?L2atm的环境下加热至IKTC?300°C的步骤。[0042][6]如[1]?[5]中任一项所述的静电电容型输入装置的制造方法，其中，[0043]优选为在上述（3)的要素上层叠透明电极图案。[0044][7]如[1]?[5]中任一项所述的静电电容型输入装置的制造方法，其中，[0045]优选为在上述（3)的要素上层叠下述（4)?（6)的要素：[0046](4)多个垫部分经由连接部分而在第一方向上延伸而形成的多个第一透明电极图案[0047](5)与上述第一透明电极图案电绝缘，在与上述第一方向交叉的方向上延伸而形成的包含多个垫部分的多个第二电极图案[0048](6)使上述第一透明电极图案与上述第二电极图案电绝缘的绝缘层。[0049][8]如[7]所述的静电电容型输入装置的制造方法，其中，[0050]优选为将上述第一透明电极图案及上述第二电极图案的至少一个设置成跨在上述前面板的非接触面及上述掩模层的与上述前面板侧相反侧的面的双方区域。[0051][9]如[7]或[8]所述的静电电容型输入装置的制造方法，其中，[0052]优选为上述第二电极图案是透明电极图案。[0053][10]如[7]?[9]中任一项所述的静电电容型输入装置的制造方法，其中，[0054]上述静电电容型输入装置优选为进一步包含（7)与上述第一透明电极图案及上述第二电极图案的至少一个电性连接，与上述第一透明电极图案及上述第二电极图案不同的导电性要素。[0055][11]如[10]所述的静电电容型输入装置的制造方法，其中，[0056]优选为至少在上述掩膜层的与前面板相反侧的面侧设置上述（7)其他导电性要素。[0057][12]如[10]或[11]所述的静电电容型输入装置的制造方法，其中，[0058]优选为进一步以覆盖上述（1)?（7)的要素的全部或一部分的方式设置（8)透明保护层。[0059][13]如[12]所述的静电电容型输入装置的制造方法，其中，[0060]优选为使用依序包含临时支撑体、热塑性树脂层、光硬化性树脂层的转印膜，转印上述转印膜的光硬化性树脂层而形成上述透明保护层。[0061][14]如[10]?[13]中任一项所述的静电电容型输入装置的制造方法，其中，[0062]优选为使用通过依序包含临时支撑体、热塑性树脂层、光硬化性树脂层的转印膜而形成的蚀刻图案对透明导电材料进行蚀刻处理，由此形成上述第一透明电极图案、上述第二电极图案及上述导电性要素的至少一个。[0063][15]如[10]?[14]中任一项所述的静电电容型输入装置的制造方法，其中，[0064]优选为使用依序包含临时支撑体、热塑性树脂层、导电性光硬化性树脂层的转印膜，转印上述转印膜的导电性光硬化性树脂层而形成上述第一透明电极图案、上述第二电极图案及上述导电性要素的至少一个。[0065][16]如[1]?[15]中任一项所述的静电电容型输入装置的制造方法，其中，[0066]优选为对上述前面板的非接触面进行表面处理，在实施了上述表面处理的上述前面板的非接触面上设置装饰层。[0067][17]如[16]所述的静电电容型输入装置的制造方法，其中，[0068]优选为在上述前面板的表面处理中使用硅烷化合物。[0069][18]如[1]?[17]中任一项所述的静电电容型输入装置的制造方法，其中，[0070]优选为上述前面板在至少一部分具有开口部。[0071][19]一种静电电容型输入装置，其特征在于：[0072]利用如[1]?[18]中任一项所述的静电电容型输入装置的制造方法制造而成。[0073][20]-种图像显示装置，其特征在于：[0074]包含如[19]所述的静电电容型输入装置作为构成要素。[0075]发明的效果[0076]根据本发明可提供：静电电容型输入装置的制造方法，其通过在装饰层设置金属或无机层的层叠体，能够以高产率获得即使薄层，亮度及白度也良好的装饰层，而且，可通过设置绝缘性掩膜层而消除导入金属或无机层的层叠体时的金属配线的短路的担忧，能够以简便的步骤高品质地制造薄层/轻量化的静电电容型输入装置，及利用所述制造方法而所得的静电电容型输入装置、以及使用所述静电电容型输入装置的图像显示装置。【专利附图】【附图说明】[0077]图1是表示本发明的静电电容型输入装置的构成的剖面图。[0078]图2是表示本发明的前面板的一例的说明图。[0079]图3是表示本发明的第一透明电极图案及第二透明电极图案的一例的说明图。[0080]图4是表示形成有开口部的强化处理玻璃的一例的俯视图。[0081]图5是表示形成有装饰层、反射层及掩膜层的前面板的一例的俯视图。[0082]图6是表示形成有第一透明电极图案的前面板的一例的俯视图。[0083]图7是表示形成有第一及第二透明电极图案的前面板的一例的俯视图。[0084]图8是表示形成有与第一及第二透明电极图案不同的导电性要素的前面板的一例的俯视图。[0085]图9是表示金属纳米线剖面的说明图。[0086]图10是表示为了在前面板的X-X'剖面形成装饰层而使用的转印膜的半切割的方法的说明图。[0087]图11是表示为了在前面板的Y-Y'剖面形成装饰层而使用的转印膜的半切割的方法的说明图。[0088]图12是表示预切性的评价中的半切割的方法的说明图。【具体实施方式】[0089]以下，对本发明的静电电容型输入装置的制造方法、静电电容型输入装置及图像显示装置加以说明。[0090]以下所记载的构成要件的说明有时基于本发明的代表性实施方式而进行，但本发明并不限定于此种实施方式。另外，本申请说明书中，所谓"?"是以包含其前后所记载的数值作为下限值及上限值的含义而使用。[0091][静电电容型输入装置的制造方法][0092]本发明的静电电容型输入装置的制造方法（以下也称为本发明的制造方法）是包含前面板、在上述前面板的非接触侧至少包含下述（1)?（3)的要素的静电电容型输入装置的制造方法，其特征在于：在上述前面板的非接触侧依序层叠上述（1)、上述（2)及上述⑶。[0093](1)包含无机白色颜料及粘合剂、膜厚为1μm以上且不足30μm的装饰层[0094](2)包含无机层的层叠体或金属的反射层[0095](3)掩膜层[0096]本发明的静电电容型输入装置的制造方法通过在上述前面板的非接触侧的上述装饰层上的与前面板相反侧的面上设置包含无机层的层叠体或金属的反射层（以下也称为金属或无机层的层叠体），装饰层即使为薄层也可获得充分的亮度与白度。而且，在金属或无机层的层叠体的与上述装饰层相反侧的面设置掩膜层，由此可防止由于金属或无机层的层置体所引起的电路的短路。[0097]另外，自保存性的观点考虑，优选的是在金属或无机层的层叠体与装饰层之间设置密接赋予层，在金属或无机层的层叠体与掩膜层侧设置密接赋予层及障壁层。[0098]〈静电电容型输入装置的构成〉[0099]首先，对利用本发明的制造方法而形成的静电电容型输入装置的构成加以说明。图1是表示本发明的静电电容型输入装置中优选的构成的剖面图。在图1中，静电电容型输入装置10包含：前面板1、装饰层2a、反射层（无机层的层叠体或包含金属的层叠体）2b、掩膜层2c、第一透明电极图案3、第二透明电极图案4、绝缘层5、导电性要素6、透明保护层7。[0100]前面板1包含玻璃基板等透光性基板，可使用以康宁公司的大猩猩玻璃为代表的强化玻璃等。而且，在图1中，将前面层1的设有各要素的一侧称为非接触面la。在本发明的静电电容型输入装置10中，用手指等对前面板1的接触面（la非接触面的相反面）进行接触等而进行输入。以下，有时将前面板称为"基材"。[0101]而且，在前面板1的非接触面上，经由装饰层2a而设有包含无机层的层叠体或金属的反射层2b、掩膜层2c。通过使包含无机层的层叠体或金属的反射层2b与上述装饰层2a组合使用，可满足装饰层2a的亮度及白度。掩膜层2c是在触摸屏前面板的非接触侧所形成的显示区域周围的边框状图案，是为了使引出配线等看不见而形成。[0102]装饰层2a是以装饰为目的而形成于包含无机层的层叠体或金属的反射层2b上、亦即触摸屏前面板的非接触侧与反射层2b之间。[0103]在本发明的静电电容型输入装置10中，优选的是如图2所示那样，以覆盖前面板1的一部分区域（在图2中为输入面以外的区域）的方式设置装饰层2a、包含无机层的层叠体或金属的反射层2b、掩膜层2c。另外，在前面板1上，可如图2所示那样在上述前面板的一部分设置开口部8。在开口部8可设置利用按压的机械开关。用作基材的强化玻璃的强度高、难以加工，因此为了形成上述开口部8,一般情况下是在强化处理前形成开口部8，然后进行强化处理。然而，若在具有所述开口部8的强化处理后的基板上，欲使用装饰层形成用液体抗蚀剂或网板印刷墨水而形成装饰层2a，则有时产生如下的问题：产生抗蚀剂成分自开口部漏出、或者在必须将遮光图案形成至前面板的最边界的且被设于掩膜层与前面板之间的装饰层中抗蚀剂成分自玻璃端渗出，从而污染基板背面侧，但在具有开口部8的基材上使用上述转印膜而形成装饰层2a的情形时，也可解决此种问题。[0104]在前面板1的非接触面形成有：多个垫部分经由连接部分在第一方向上延伸而形成的多个第一透明电极图案3,与第一透明电极图案3电绝缘、在与第一方向交叉的方向上延伸而形成的包含多个垫部分的多个第二透明电极图案4,使第一透明电极图案3与第二透明电极图案4电绝缘的绝缘层5。上述第一透明电极图案3、第二透明电极图案4、后述的导电性要素6例如可利用氧化铟锡（IndiumTinOxide,ΙΤ0)或氧化铟锌（IndiumZincOxide,IZO)等透光性导电性金属氧化膜而制作。此种金属膜可列举：ΙΤ0膜、Al、Zn、Cu、Fe、Ni、Cr、Mo等的金属膜、SiO2等的金属氧化膜等。此时，各要素的膜厚可设为10nm?200nm。而且，由于煅烧而使非晶体（amorphous)的ITO膜成为多晶的ITO膜，因此也可减低电阻（resistance)。而且，上述第一透明电极图案3、第二透明电极图案4、后述的导电性要素6也可使用后述的具有使用有导电性纤维的导电性光硬化性树脂层的转印膜，转印上述转印膜的导电性光硬化性树脂层而制造。另外，在利用ITO等形成第一透明电极图案等的情形时，可参考日本专利第4506785号公报的段落[0014]?段落[0016]等。[0105]而且，第一透明电极图案3及第二透明电极图案4的至少一个可设置成跨在前面板1的非接触面及掩膜层2c的与前面板1相反侧的面的双方区域。在图1中表示第二透明电极图案设置成跨在前面板1的非接触面及掩膜层2c的与前面板1相反侧的面的双方区域的图。这样，即使在将转印膜层叠成跨在必需一定厚度的掩模层与前面板背面的情形，通过使用具有特定的层构成的转印膜，即使不使用真空层叠机等昂贵的设备，也可利用简单的步骤而在掩膜部分边界不会产生泡地进行层叠。[0106]使用图3对第一透明电极图案3及第二透明电极图案4加以说明。图3是表示本发明的第一透明电极图案及第二透明电极图案的一例的说明图。如图3所示那样，第一透明电极图案3是垫部分3a经由连接部分3b在第一方向上延伸而形成的。而且，第二透明电极图案4是利用绝缘层5而与第一透明电极图案3电绝缘，由在与第一方向交叉的方向(图3中的第二方向）上延伸而形成的多个垫部分而构成。此处，在形成第一透明电极图案3的情形时，可使上述垫部分3a与连接部分3b成为一体地制作，也可仅仅制作连接部分3b，使垫部分3a与第二透明电极图案4成为一体而制作（图案化）。在使垫部分3a与第二透明电极图案4成为一体而制作（图案化）的情形时，如图3所示那样将连接部分3b的一部分与垫部分3a的一部分连结，且以由绝缘层5使第一透明电极图案3与第二透明电极图案4电绝缘的方式形成各层。[0107]在图1中，在掩膜层2c的与前面板1相反侧的面侧设置有导电性要素6。导电性要素6是与第一透明电极图案3及第二透明电极图案4的至少一个电性连接、且与第一透明电极图案3及第二透明电极图案4不同的要素。在图1中表示导电性要素6与第二透明电极图案4连接的图。[0108]而且，在图1中，以覆盖各构成要素的全部的方式设置透明保护层7。也能以仅覆盖各构成要素的一部分的方式构成透明保护层7。绝缘层5与透明保护层7可为相同的材料，也可为不同的材料。构成绝缘层5与透明保护层7的材料优选的是表面硬度、耐热性高的材料，可使用公知的感光性硅氧烷树脂材料、丙烯酸树脂材料等。[0109]以下，关于本发明的制造方法，对各层的详细情况加以说明。[0110]作为本发明的制造方法的过程中所形成的形态例，可列举图4?图8的形态。图4是表示形成有开口部8的强化处理玻璃11的一例的俯视图。图5是表示形成有装饰层2a、包含无机层的层叠体或金属的反射层2b、掩膜层2c的前面板的一例的俯视图。图6是表不形成有第一透明电极图案3的前面板的一例的俯视图。图7表不形成有第一透明电极图案3与第二透明电极图案4的前面板的一例的俯视图。图8是表示形成有与第一及第二透明电极图案不同的导电性要素6的前面板的一例的俯视图。这些表示将上述说明具体化的例，本发明的范围并不由这些附图而限定性地解释。[0111]〈⑴装饰层〉[0112]本发明的制造方法包含在上述前面板的非接触侧形成上述（1)包含无机白色颜料及粘合剂、膜厚为1μm以上且不足30μm的装饰层的步骤。[0113]自薄层化的观点考虑，作为上述装饰层的厚度，优选的是1μm以上且不足30μm，自提高装饰层的遮蔽能力的观点考虑，更优选的是1μm?25μm，特别优选的是I.5μm?20μm，进一步特别优选的是1.8μm?18μm，更进一步特别优选的是1.8μm?13μm。[0114]利用本发明的制造方法而形成的装饰层可使用着色性组合物而制作，优选的是至少包含白色无机颜料及粘合剂。作为上述（1)装饰层的形成方法，并无特别限制，例如可将着色性组合物直接涂布在基板上，也可使用转印膜（上述转印膜包含涂布着色性组合物而形成的着色层）而形成，还可利用网板印刷等印刷而形成。[0115]作为上述网板印刷，可并无特别限制地使用公知的方法，例如可使用日本专利4021925号中所记载的方法等。而且，通过进行多次网板印刷，即使是网板印刷也可使膜厚变厚。[0116]本发明的制造方法优选的是使用转印膜至少形成上述（1)装饰层。关于使用转印膜进行转印而形成上述（1)装饰层的方法，如后所述。[0117]而且，上述（1)装饰层可使转印膜与网板印刷组合而形成。[0118]而且，在任意的情形时，本发明中的所谓上述（1)装饰层的厚度均是表示全层的膜厚的合计。[0119]在图2的构成的具有开口部8的静电电容型输入装置中，若使用后述的包含着色层的转印膜或后述的包含光硬化性树脂层的转印膜而形成图1中所记载的上述装饰层2a或后述的掩膜层2c等，则即使在具有开口部的基板（前面板）也不产生抗蚀剂成分自开口部分漏出，特别是在必须将遮光图案形成至前面板的最边界的装饰层或掩膜层中抗蚀剂成分并不自玻璃端渗出，因此不会污染基板背面侧，变得能够以简略的步骤制造具有薄层/轻量化的优点的触摸屏。[0120](转印膜的构成）[0121]在本发明的制造方法中所可使用的转印膜优选的是包含临时支撑体与着色层，且上述着色层至少包含白色无机颜料及粘合剂。[0122]通过使用具有此种构成的转印膜而形成上述装饰层，且通过与后述的反射层组合设置，能够以高产率获得转印后的亮度及白度、网纹及密接性良好的白色装饰层。[0123]可在本发明的制造方法中使用的转印膜优选的是包含临时支撑体与着色层。而且，在临时支撑体与着色层之间也可包含热塑性树脂层。[0124]-临时支撑体-[0125]临时支撑体可使用具有可挠性、在加压下或加压及加热下不会产生显著的变形、收缩或延伸的材料。此种支撑体的例可列举聚对苯二甲酸乙二酯膜、三乙酸纤维素膜、聚苯乙烯膜、聚碳酸酯膜等，其中特别优选的是双轴延伸聚对苯二甲酸乙二酯膜。[0126]临时支撑体的厚度并无特别限制，一般是5μm?200μm的范围，就操作容易性、通用性等方面而言，特别优选的是IOym?150μm的范围。[0127]而且，临时支撑体可透明，也可含有染料化硅、氧化铝溶胶、铬盐、锆盐等。[0128]而且，可利用日本专利特开2005-221726号公报中所记载的方法等而对临时支撑体赋予导电性。[0129]-着色层-[0130]-白色无机颜料一[0131]作为上述着色层中所使用的上述白色无机颜料，可使用日本专利特开2009-191118号公报的段落[0019]或日本专利特开2000-175718号公报的段落[0109]中所记载的白色颜料。[0132]具体而言，在本发明中，上述白色无机颜料优选的是氧化钛（金红石型）、氧化钛(锐钛矿型）、氧化锌、锌钡白、轻质碳酸钙、白碳（whitecarbon)、氧化铝、氢氧化铝、硫酸钡，更优选的是氧化钛（金红石型）、氧化钛（锐钛矿型）、氧化锌，进一步更优选的是氧化钛（金红石型）、氧化钛（锐钛矿型），进一步更优选的是金红石型氧化钛。[0133]二氧化钛的具体例可列举JR、JRNC、JR-301、403、405、600A、605、600E、603、701、800、805、806、JA-1、C、3、4、5、MT-01、02、03、04、05、100AQ、100SA、100SAK、100SAS、100TV、100Z、100ZR、150W、500B、500H、500SA、500SAK、500SAS、500T、SMT-100SAM、100SAS、500SAM、500SAS(帝国化工（Tayca)公司制造）、CR-50、50-2、57、58、58-2、60、60-2、63、67、80、85、90、90-2、93、95、97、953、Super70、PC-3、PF-690、691、711、736、737、739、740、742、R-550、580、630、670、680、780、780-2、820、830、850、855、930、980、S-305、UT771、TT0-51(A)、51(C)、55(A)、55(B)、55(C)、55(D)、S-l、S-2、S-3、S-4、V-3、V-4、MPT-136、FTL-100、110、200、300(石原产业公司制造）、KA-10、15、20、30、KR-310、380、KV-200、STT-30EHJ、65C-S、455、4855六15、495厘、495厘(：（钛工业公司制造）、丁六-100、200、300、400、500、了1?-600、700、750、840、900(富士钛工业公司制造）等，这些可单独或混合使用。[0134]在本发明中，上述白色无机颜料（特别是氧化钛）的表面可进行二氧化硅处理、氧化铝处理、二氧化钛处理、氧化锆处理、有机物处理以及并用这些处理。[0135]由此可抑制上述白色无机颜料（特别是氧化钛）的催化剂活性，可改善耐热性、褪光性等。[0136]自加热后的装饰层的白度的观点考虑，在本发明中上述白色颜料优选的是经无机物进行了表面处理的金红石型氧化钛，更优选的是利用氧化铝处理及氧化锆处理中的至少一个进行了表面处理的金红石型氧化钛，特别优选的是通过并用氧化铝/氧化锆的处理进行了表面处理的金红石型氧化钛。[0137]自形成亮度及白度良好、且同时满足其他要求的特性的装饰层的观点考虑，优选的是上述白色无机颜料相对于上述着色层的所有固体成分的含有率为20质量％?75质量％。而且，在后述的本发明的静电电容型输入装置的制造方法中使用上述转印膜时，自充分缩短显影时间的观点考虑，也优选的是上述白色无机颜料相对于上述装饰层的所有固体成分的含有率为20质量％?75质量％。[0138]上述白色无机颜料相对于上述着色层的所有固体成分的含有率更优选的是25质量％?60质量％，进一步更优选的是30质量％?50质量％。[0139]本说明书中所谓的所有固体成分是表示自上述着色层除去溶剂等的不挥发成分的总质量。[0140]上述白色无机颜料（另外，关于后述的掩膜层中所使用的其他着色剂也同样）理想的是作为分散液而使用。所述分散液可通过如下方式而制备：将上述白色无机颜料与颜料分散剂预先混合而所得的组合物添加于后述的有机溶剂（或载色剂（vehicle))中使其分散。上述载色剂是指涂料处于液体状态时使颜料分散的介质的部分，包含为液状且与上述颜料结合而形成涂膜的成分（粘合剂）、对其进行溶解稀释的成分（有机溶剂）。[0141]作为使上述白色无机颜料分散时所使用的分散机，并无特别限制，例如可列举朝仓邦造著的"颜料事典"、第一版、朝仓书店、2000年、第438项中所记载的捏合机(kneader)、辊磨机、磨碎机、超级研磨机、溶解器、均质混合机、砂磨机等公知的分散机。另夕卜，也可利用所述文献第310页中所记载的机械性磨碎，利用摩擦力而进行微粉碎。[0142]作为本发明中所使用的上述白色无机颜料（装饰层形成用着色剂）的白色无机颜料，自分散稳定性及遮蔽能力的观点考虑，优选的是一次粒子的平均粒径为〇.16μm?0.3μm，更优选的是一次粒子的平均粒径为0.18μm?0.27μm。进一步特别优选的是一次粒子的平均粒径为0.19μm?0.25μm。若一次粒子的平均粒径为0.16μm，则存在遮蔽能力急遽降低而变得容易看到掩膜层的基底，或产生粘度上升的现象。另一方面，若一次粒子的平均粒径超过0.3μm，则白度降低，同时遮蔽能力急遽降低，而且涂布时的表面性状恶化。[0143]另外，此处所谓的"一次粒子的平均粒径"是指将粒子的电子显微照片图像设为同面积的圆时的直径，而且所谓"数量平均粒径"是指对多个粒子求出上述粒径，其100个的平均值。[0144]另一方面，在利用分散液、涂布液中的平均粒径进行测定的情形时，可使用激光散射堀场（HORIBA)H(堀场先进技术股份有限公司制造）。[0145]-粘合剂一[0146]本发明中所可使用的转印材料中，可使用公知的粘合剂作为上述着色层的粘合齐IJ。例如优选的是选自乙烯与丙烯酸酯共聚物的皂化物、苯乙烯与（甲基）丙烯酸酯共聚物的皂化物、乙烯基甲苯与（甲基）丙烯酸酯共聚物的皂化物、聚（甲基）丙烯酸酯、及（甲基）丙烯酸丁酯与乙酸乙烯酯等的（甲基）丙烯酸酯共聚物等皂化物等的至少1种。另夕卜，也可使用"塑料性能便览"（日本塑料工业联盟、全日本塑料成形工业联合会编著、工业调查会发行、1968年10月25日发行）的有机高分子中的可溶于碱性水溶液的。这些可单独使用1种，也可并用2种以上。而且，这些热塑性树脂中优选的是软化点为80°C以下的。另外，在本发明中，所谓"（甲基）丙烯酸"是总称丙烯酸及甲基丙烯酸，其衍生物的情形也同样。[0147]在着色层利用碱性显影而形成图案的情形时，有效的是碱可溶性树脂，可使用日本专利特开2011-95716号公报的段落[0025]、日本专利特开2010-237589号公报的段落[0033]?段落[0052]中所记载的聚合物。[0148]而且，在形成图案时不需要碱性显影，着色层需要耐热性的情形时，优选的是氟刑树脂及硅酮系树脂。[0149]上述硅酮系树脂可使用公知的硅酮系树脂。例如可使用甲基系线性硅酮树脂、甲基苯基系线性硅酮树脂、丙烯酸树脂改性硅酮树脂、聚酯树脂改性硅酮树脂、环氧树脂改性硅酮树脂、醇酸树脂、改性硅酮树脂及橡胶系硅酮树脂等。[0150]此处，作为上述转印膜，上述着色层不需要利用光硬化性树脂与光聚合引发剂的组合的光硬化，上述着色层可包含光硬化性树脂或光聚合引发剂也可不含光硬化性树脂或光聚合引发剂。其中，在上述着色层包含后述的抗氧化剂的情形时，自不会由于对光聚合引发剂进行曝光时所生成的自由基而阻碍上述抗氧化剂的功能，且充分提高烘烤后的白度的观点考虑，优选的是不含光聚合引发剂。因此，上述（B)硅酮系树脂优选的是热固性。[0151]更优选的是甲基系线性硅酮树脂、甲基苯基系线性硅酮树脂、丙烯酸树脂改性硅酮树脂，特别优选的是甲基系线性硅酮树脂、甲基苯基系线性硅酮树脂。这些硅酮系树脂可单独使用也可并用2种以上，优选的是甲基系线性硅酮树脂及甲基苯基系线性硅酮树脂的并用，可通过以任意比率将这些混合而控制膜物性。[0152]作为上述着色层中所使用的上述粘合剂，只要不违反本发明的宗旨则并无特别限制，可使用公知的聚合性化合物。[0153]在上述转印膜为负型材料的情形时，优选的是在上述着色层中包含碱可溶性树月旨、聚合性化合物、聚合引发剂或聚合起始系统。进一步使用着色剂、添加剂等，但并不限定于此。[0154]-光聚合引发剂一[0155]作为上述着色层中所使用的上述光聚合引发剂，可使用日本专利特开2011-95716号公报中所记载的[0031]?[0042]中所记载的聚合性化合物。[0156]--单体一[0157]作为上述着色层中所使用的上述单体，只要不违反本发明的宗旨，则并无特别限制，可使用公知的聚合性化合物。[0158]作为上述聚合性化合物，可使用日本专利第4098550号的段落[0023]?段落[0024]中所记载的聚合性化合物。[0159]在上述感光性膜为正型材料的情形时，在着色层中使用例如日本专利特开2005-221726中所记载的材料等，但并不限定于此。[0160]-抗氧化剂一[0161]作为上述转印膜，自对由转印膜转印上述着色层时所得的装饰层，提高烘烤后的白度的观点考虑，优选的是上述着色层包含抗氧化剂。此处，在静电电容型输入装置中形成ITO等的透明电极图案的情形时，变得必须在高温下进行烘烤，但通过添加抗氧化剂可提高烘烤后的白度。[0162]上述抗氧化剂可使用公知的抗氧化剂。例如可使用受阻酚系、半受阻（semihindered)酚系、磷酸系、在分子内具有磷酸/受阻酚的混合型抗氧化剂。[0163]优选的是磷酸系、磷酸系与受阻酚系或半受阻酚系的并用、或在分子内具有磷酸/受阻酚的混合型抗氧化剂。[0164]上述抗氧化剂相对于上述着色层的所有固体成分的相对于上述的添加量并无特别限制，优选的是〇.001质量％?10质量％，更优选的是〇.01质量％?1质量％，特别优选的是0.05质量％?0.2质量％。[0165]-溶剂一[0166]而且，作为利用涂布而制造转印膜的上述着色层时的溶剂，可使用日本专利特开2011-95716号公报的段落[0043]?段落[0044]中所记载的溶剂。[0167]-添加剂一[0168]另外，在上述着色层中也可使用其他添加剂。上述添加剂例如可列举日本专利第4502784号公报的段落[0017]、日本专利特开2009-237362号公报的段落[0060]?段落[0071]中所记载的表面活性剂、或者日本专利第4502784号公报的段落[0018]中所记载的热聚合抑制剂、以及日本专利特开2000-310706号公报的段落[0058]?段落[0071]中所记载的其他添加剂。[0169]以上，以上述转印膜为非感光性材料的情形为中心加以说明，但上述转印膜也可视需要为负型材料或正型材料。[0170]-厚度一[0171]上述着色层的厚度优选的是1μm以上且不足30μm，自为了提高将上述包含着色层的转印膜用作静电电容型输入装置的装饰层时的装饰层的遮蔽能力的观点考虑，更优选白勺:?Iym~25μm。[0172]上述着色层的厚度特别优选的是I.5μm?20μm，进一步特别优选的是I.8μm?18μm，更进一步特别优选的是1.8μm?13μm。[0173]--着色层的粘度一[0174]优选的是着色层在KKTC下测定的粘度处于2000Pa·sec?50000Pa·sec的区域，进而满足下式（A)。[0175]式㈧：热塑性树脂层的粘度〈着色层的粘度[0176]此处，各层的粘度可如下所述地测定。利用大气压及减压干燥，自热塑性树脂层或装饰层用涂布液中除去溶剂而制成测定样品，例如使用维布隆（Vibron)(DD-III型；东洋鲍德温（Baldwin)股份有限公司制造）作为测定器，在测定开始温度为50°C、测定结束温度为150°C、升温速度为5°C/min及振动频率lHz/deg的条件下进行测定，可使用KKTC的测定值。[0177]-热塑性树脂层_[0178]上述转印膜优选的是在上述临时支撑体与上述着色层之间设置热塑性树脂层。上述热塑性树脂层优选的是碱可溶性。热塑性树脂层是以可吸收基底表面的凹凸（也包含已形成的图像等的凹凸等）的方式发挥作为缓冲材的作用，优选的是具有可根据对象面的凹凸而变形的性质。[0179]热塑性树脂层优选的是包含日本专利特开平5-72724号公报中所记载的有机高分子物质作为成分的形态，特别优选的是包含选自维卡（Vicat)法[具体而言是美国材料试验法材料协会ASTMD1235的聚合物软化点测定法]的软化点为约80°C以下的有机高分子物质的至少一种的形态。[0180]具体而言，可列举聚乙烯、聚丙烯等聚烯烃、乙烯与乙酸乙烯酯或其皂化物等的乙烯共聚物、乙烯与丙烯酸酯或其皂化物的共聚物、聚氯乙烯或氯乙烯与乙酸乙烯酯或其皂化物等的氯乙烯共聚物、聚偏二氯乙烯、偏二氯乙烯共聚物、聚苯乙烯、苯乙烯与（甲基）丙烯酸酯或其皂化物等的苯乙烯共聚物、聚乙烯基甲苯、乙烯基甲苯与（甲基）丙烯酸酯或其皂化物等的乙烯基甲苯共聚物、聚（甲基）丙烯酸酯、（甲基）丙烯酸丁酯与乙酸乙烯酯等的（甲基）丙烯酸酯共聚物、乙酸乙烯酯共聚物、尼龙、共聚尼龙、N-烷氧基甲基化尼龙、N-二甲基氨基化尼龙等聚酰胺树脂、聚酯等有机高分子。[0181]而且，优选的是在热塑性树脂层中添加用以控制剥离性的发泡剂等，可适宜使用日本专利特开2007-225939号公报的段落[0020]?段落[0028]中所记载的发泡剂等。[0182]也优选的是在热塑性树脂层中添加表面活性剂，例如可适宜使用日本专利第4502784号公报的段落[0017]、日本专利特开2009-237362号公报的段落[0060]?段落[0071]中所记载的表面活性剂。[0183]热塑性树脂层的层厚优选的是3μm?30μm。在热塑性树脂层的层厚为3μm以上的情形时，层叠时的追随性充分，容易完全吸收基底表面的凹凸。而且，在层厚为30μm以下的情形时，难以对在临时支撑体上形成热塑性树脂层时的干燥（溶剂除去）带来负荷，热塑性树脂层的显影不会过于耗费时间，处理适合性变良好。上述热塑性树脂层的层厚更优选的是4μm?25μm，特别优选的是5μm?20μm。[0184]热塑性树脂层可涂布包含热塑性有机高分子的制备液等而形成，涂布等时所使用的制备液可使用溶剂而制备。溶剂若可溶解构成所述层的高分子成分，则并无特别限制，例如可列举甲基乙基酮、环己酮、丙二醇单甲醚乙酸酯、正丙醇、2-丙醇等。[0185]优选的是上述热塑性树脂层的在100°C下测定的粘度处于IOOOPa·sec?IOOOOPa·sec的区域。[0186]-其他层_[0187]在上述转印膜中，可在装饰层与热塑性树脂层之间设置中间层、或者在装饰层的表面进一步设置保护膜等而适宜地构成。[0188]在上述转印膜中，优选的是以防止涂布多层时及涂布后的保存时成分的混合为目的而设置中间层。作为中间层，优选的是在日本专利特开平5-72724号公报中记载为"分离层"的具有氧阻隔功能的隔氧膜（oxygen-impermeablefilm)，曝光时的感度提高，可减低曝光机的时间负荷，生广性提1?。[0189]作为上述中间层及保护膜，可适宜使用日本专利特开2006-259138号公报的段落[0083]?段落[0087]及段落[0093]中所记载的。[0190](转印膜的制作方法）[0191]在本发明中装饰层的形成中所使用的转印膜可基于日本专利特开2006-259138号公报的段落[0094]?段落[0098]中所记载的感光性转印材料的制作方法而制作。[0192]具体而言，在形成包含中间层的转印膜的情形时，可通过如下方式而适宜地制作：在临时支撑体上涂布溶解有热塑性有机高分子以及添加剂的溶解液（热塑性树脂层用涂布液），使其干燥而设置热塑性树脂层后，在所述热塑性树脂层上涂布制备液（中间层用涂布液），所述制备液在不会溶解热塑性树脂层的溶剂中添加树脂或添加剂而制备，使其干燥而层叠中间层，在所述中间层上进一步涂布使用不会溶解中间层的溶剂而制备的着色层用涂布液，使其干燥而层叠着色层。[0193]对使用转印膜而形成上述装饰层的方法加以说明。一般在使用转印膜的情形时，若着色层包含光硬化性树脂，则可利用通常的光刻的方法而形成。此处，作为在本发明中装饰层的形成中所使用的转印膜，着色层可包含光硬化性树脂也可不含光硬化性树脂，即使在任意的情形时，均可通过利用以下的半切割的转印方法而使用转印膜形成装饰层。[0194]在利用半切割的转印方法中，首先如图10?图12所示那样用剃刀等预切装饰层的图像部32与非图像部31的边界后，利用胶带将非图像部31的保护膜、装饰层及中间层除去，进一步同样地除去图像部32的保护膜，在基板上转印装饰层图案。[0195]继而，利用显影将热塑性树脂层与中间层除去，由此可形成装饰层图案。[0196]也可视需要组合毛刷或高压喷射机等公知的显影设备。在显影后，也可视需要进行后曝光、后烘烤，优选的是进行后烘烤。[0197]而且，为了提高其后的转印步骤中的利用层叠的装饰层的密接性，可预先对基材(前面板）的非接触面实施表面处理。作为上述表面处理，优选的是实施使用硅烷化合物的表面处理（硅烷偶合处理）。作为硅烷偶合剂，优选的是具有与感光性树脂相互作用的官能基的硅烷偶合剂。例如通过喷淋吹附硅烷偶合液（Ν-β-(氨基乙基）_Y-氨基丙基三甲氧基硅烷的0.3质量％水溶液、商品名为ΚΒΜ603、信越化学股份有限公司制造）20秒，进行纯水喷淋清洗。其后，通过加热使其反应。也可使用加热槽，层叠机的基板预热也可促进反应。[0198]作为形成上述装饰层的方法，对使用上述转印膜的图案化方法加以说明。[0199]优选的是形成上述装饰层的方法包含：在上述转印膜的一部分切出贯通上述着色层且并不贯通上述临时支撑体的深度的切口的步骤；将由上述切口围成的区域中的至少一部分区域的上述着色层除去的步骤；使用除去上述一部分区域的上述着色层后的上述转印膜而形成上述（1)装饰层的步骤。[0200]在上述转印膜的一部分切出贯通上述着色层且并不贯通上述临时支撑体的深度的切口的步骤也称为预先预切着色层中所转印的图像部的步骤。另外，也将切出此种深度的切口的方法称为半切割。[0201]除去由上述切口围成的区域中的至少一部分区域的上述着色层的步骤也称为除去并未转印的非图像部的着色层的步骤。[0202]另外，在转印膜包含保护膜或中间层或热塑性树脂层的情形时，将由上述切口围成的区域中的至少一部分区域的上述着色层除去的步骤优选的是将非图像部的保护膜及着色层、以及图像部的保护膜除去的步骤。[0203]使用除去上述一部分区域的上述着色层后的上述转印膜而形成上述（1)装饰层的步骤也称为将上述图像部的着色层转印至基材上的转印步骤。[0204]另外，在转印膜包含保护膜或中间层或热塑性树脂层的情形时，使用除去上述一部分区域的上述着色层后的上述转印膜而形成上述（1)装饰层的步骤优选的是将除去了上述保护膜的上述转印膜的上述图像部的着色层转印于基材上的转印步骤。[0205]在此情形时，进而使用除去上述一部分区域的上述着色层后的上述转印膜而形成上述（1)装饰层的步骤优选的是包含将在基材上所转印的临时支撑体剥离的步骤。[0206]在此情形时，进而使用除去上述一部分区域的上述着色层后的上述转印膜而形成上述（1)装饰层的步骤更优选的是包含将热塑性树脂层与中间层除去的步骤。[0207]形成上述装饰层的方法更优选的是包含如下步骤的方法：预先预切转印膜的着色层中所转印的图像部的步骤；将非图像部的保护膜及着色层、以及图像部的保护膜除去的步骤；将除去了上述保护膜的上述转印膜的上述图像部的着色层转印于基材上的转印步骤；将基材上所转印的临时支撑体剥离的步骤；将热塑性树脂层与中间层除去的步骤。[0208]另一方面，在上述着色层包含光硬化性树脂层的情形时形成上述装饰层的方法可列举包含如下步骤的方法：自上述转印膜除去上述保护膜的保护膜除去步骤；将除去了上述保护膜的上述感光性转印材料的上述光硬化性树脂层转印于基材上的转印步骤。在此情形时，优选的是在上述转印步骤后进而包含对所转印的光硬化性树脂层进行后曝光的步骤。[0209]-预切步骤-[0210]形成上述装饰层的方法在不通过通常的光刻方式形成图像的情形时，必须在转印以前在着色层形成图像部。关于在上述转印膜的一部分切出贯通上述着色层且并不贯通上述临时支撑体的深度的切口的步骤（预切步骤），在以下加以说明。[0211]作为上述切出切口的方法，并无特别限制，可利用刀、激光等任意方法而切出切口，优选的是利用刀切出切口。而且，刀的结构并无特别限定。[0212]作为上述转印膜，例如在依序层叠临时支撑体、热塑性树脂层、中间层、着色层、保护膜而被构成时，例如可使用刀或激光，自保护膜上切出贯穿保护膜、着色层、中间层，直至热塑性树脂层的一部分的切口，由此可将进行转印的图像部与不进行转印的非图像部之间分离。[0213]-将非图像部的着色层除去的步骤_[0214]将预切的着色层的图像部选择性地转印至基板上时必须设法不转印非图像部。一种方法是在转印前将非图像部的着色层除去的方法，是在除去保护膜后，将非图像部的着色层与中间层同时剥离的方法。另一种是剥去非图像部上的保护膜，继而将着色层与中间层同时剥离，进一步剥去图像部上的保护膜的方法。自直至转印之前保护着色层的图像部的观点考虑，优选的是后者的方法。[0215]-转印步骤-[0216]上述转印步骤是将除去了上述保护膜的上述转印膜的上述着色层转印至基材上的步骤。[0217]此时，优选的是通过如下方式而进行的方法：在将上述转印膜的着色层层叠于基材上之后，将临时支撑体除去。[0218]着色层在基材表面的转印（贴合）可将着色层重叠于基材表面上，进行加压、加热来进行。在贴合中可使用层叠机、真空层叠机、及能够进一步提高生产性的自动切割层叠机等公知层置机。[0219]-将热塑性树脂层除去的步骤、将中间层除去的步骤-[0220]将上述热塑性树脂层与中间层除去的步骤一般可使用在光刻方式中所使用的碱性显影液而进行。在本申请说明书中，所谓显影并不限定于利用显影液对进行了图案曝光的上述着色层或光硬化性树脂层等进行显影的狭义的含义的显影，也包含将热塑性树脂层或中间层除去的步骤。作为上述碱性显影液，并无特别制约，可使用日本专利特开平5-72724号公报中所记载的等公知的显影液。另外，显影液优选的是进行装饰层溶解型的显影举动的显影液，例如优选的是以〇·〇5mol/L?5mol/L的浓度包含pKa=7?13的化合物的，也可进一步添加少量与水具有混合性的有机溶剂。作为与水具有混合性的有机溶齐U，可列举：甲醇、乙醇、2-丙醇、1-丙醇、丁醇、二丙酮醇、乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、乙二醇单正丁醚、苯甲醇、丙酮、甲基乙基酮、环己酮、ε-己内酯、γ-丁内酯、二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、六甲基磷酰胺、乳酸乙酯、乳酸甲酯、ε-己内酰胺、N-甲基吡咯烷酮等。所述有机溶剂的浓度优选的是〇.1质量％?30质量％。[0221]而且，在上述碱性显影液中可进一步添加公知的表面活性剂。表面活性剂的浓度优选的是〇.01质量％?10质量％。[0222]作为将上述热塑性树脂层与中间层除去的步骤的方式，可为覆液、喷淋、喷淋&旋涂、浸渍等的任意方法。此处对上述喷淋加以说明，可通过喷淋而吹附显影液，由此将热塑性树脂层或中间层除去。而且，优选的是在显影后，通过喷淋而吹附清洗剂等，一面利用毛刷等擦拭，一面将残渣除去。液体温度优选的是20°C?40°C，而且其pH优选的是8?13。[0223]-后烘烤步骤_[0224]优选的是在上述转印步骤后包含后烘烤步骤，更优选的是包含在将上述热塑性树脂层与中间层除去的步骤后进行后烘烤的步骤。[0225]作为本发明的制造方法，自兼顾白度与生产性的观点考虑，优选的是将上述转印膜的上述着色层在〇.〇8atm?I.2atm的环境下加热至110°C?300°C而形成上述（1)装饰层。[0226]更优选的是在0.Iatm?I.Iatm的环境下进行上述后烘烤的加热，自可不使用特别的减压装置而减低制造成本的观点考虑，特别优选的是在约Iatm(大气压）环境下进行。此处，在现在通过加热进行硬化而形成上述（1)装饰层的情形时，通过在非常低的压力的减压环境下进行，使氧浓度变低而维持烘烤后的白度，但通过使用包含上述着色层的转印膜，即使在上述压力的范围内进行烘烤后，也可提高装饰层的白度。[0227]上述后烘烤的温度更优选的是120°C?280°C，特别优选的是140°C?260°C。[0228]上述后烘烤的时间更优选的是20分钟?150分钟，特别优选的是30分钟?100分钟。[0229]上述后烘烤可在空气环境下进行，也可在氮气置换环境下进行，自可不使用特别的减压装置而减低制造成本的观点考虑，特别优选的是在空气环境下进行。[0230]-其他步骤-[0231]形成上述装饰层的方法也可包含后曝光步骤等其他步骤。[0232]在上述着色层包含光硬化性树脂层的情形时，在形成上述装饰层时，优选的是包含后曝光步骤。作为上述后曝光步骤，可仅仅自上述着色层的与上述基材接触的侧的表面方向进行，也可仅仅自不与上述透明基材接触的侧的表面方向进行，也可自两个面方向进行。[0233]另外，作为将上述热塑性树脂层与中间层除去的步骤、及其他步骤的例，也可在本发明中适宜地使用日本专利特开2006-23696号公报的段落编号[0035]?段落编号[0051]中所记载的方法。[0234]〈(2)反射层（金属或无机层的层叠体）>[0235]本发明的制造方法的特征在于：在上述前面板的非接触侧依序层叠上述（1)、上述（2)包含无机层的层叠体或金属的反射层及上述（3)。[0236]上述包含无机物的层叠体或金属的反射层可利用公知的方法而制作。[0237]构成上述反射层的材料可使用公知的金属及无机物。作为构成上述反射层的材料，其中优选的是金属的薄膜，自反射率的观点考虑，更优选的是银或铝，特别优选的是银。也可包含不对其性能造成伤害的程度的金、铜、镍、铁、钴、钨、钥、钽、铬、铟、锰、钛、钯、钕等金属杂质。这些物质可使用2种以上，也可形成2层以上。[0238]另一方面，作为上述无机物的层叠体，并无特别限制，例如可列举交互层叠有低折射率介电体与高折射率介电体的层叠体等，可使用日本专利特开2012-032454号公报中所记载的层置体等。[0239]形成上述（2)包含无机物的层叠体或金属的反射层的方法存在有湿式法及干式法。[0240]所谓湿式法是镀敷法的总称，是使金属自溶液中析出而形成膜的方法。若列举具体例，则存在有使用硝酸银的银镜反应，或者通过对包含金属络合物（由碳酸银等制备）的金属络合物溶液进行加热使其还原而获得金属膜的方法等。[0241]另一方面，所谓干式法是真空成膜法的总称，若具体地例示，则存在有电阻加热式真空蒸镀法、电子束加热式真空蒸镀法、离子镀法、离子束辅助真空蒸镀法、溅镀法等。[0242]在真空蒸镀法中，利用电子束、电阻加热、感应加热等使金属的原材料熔融，使蒸汽压上升，优选的是在13.3mPa(0.ImTorr)以下蒸发至基材表面。此时，也可导入13.3mPa以上的氩等气体，产生高频波或直流的辉光放电。[0243]溅镀法可使用直流（DC)磁控溅镀法、射频（RF)磁控溅镀法、离子束溅镀法、电子回旋加速器（electroncyclotron，ECR)?贱镀法、传统RFi贱镀法、传统DCi贱镀法等。在溉镀法中，原材料使用金属板状的靶（target)即可，溅镀气体可使用氦、氖、氩、氪、氙等，但优选的是使用氩。气体的纯度优选的是99%以上，更优选的是99.5%以上。而且，透明氧化膜的形成中优选的是使用真空成膜法。主要使用溅镀法，溅镀气体使用氦、氖、氩、氪、氙等，有时也可视情况使用氧气而进行。[0244]作为上述（2)包含无机物的层叠体或金属的反射层的厚度，是考虑在制成反射片材时透光率不足1%而决定。[0245]上述（2)包含无机物的层叠体或金属的反射层的厚度优选的是70nm?400nm，更优选的是IOOnm?300nm，进一步更优选的是IOOnm?250nm。在所述层的厚度比70nm薄的情形时，无法形成充分的金属层，因此无法获得所期望的反射率。而且，即使比400nm厚，其效果也不变化。[0246]上述（2)包含无机物的层叠体或金属的反射层可直接形成于上述装饰层上，也可将包含上述（2)包含无机物的层叠体或金属的反射层的膜（例如银蒸镀膜的银表面，或在支撑体上涂布包含银络合化合物的溶液之后进行加热处理而形成的Ag薄膜的表面）贴合于装饰层上而形成。上述（2)包含无机物的层叠体或金属的反射层直接形成于上述装饰层上而制造的方法可列举：将银络合化合物溶液直接涂布于装饰层上之后，进行加热的方法。也可视需要在金属或无机层的层叠体（例如银蒸镀膜的银表面，或在支撑体上涂布包含银络合化合物的溶液之后进行加热处理而形成的Ag薄膜的表面）与装饰层的中间设置密接赋予层、障壁层等。[0247]在密接赋予层中可使用公知的粘合剂。在密接赋予层中使用粘合剂时，自耐热性的观点考虑，优选的是硅酮树脂、氟树脂。密接赋予层的厚度优选的是0.1Pm?4μπι。若为0.1μm以上，则获得充分的密接力。若为4μm以下，则可防止在其后步骤的掩膜层的层叠步骤中卷入气泡。[0248]在障壁层中可使用公知的透明氧化物,特别是可优选地使用掺杂有0重量％?5重量％氧化铝的氧化锌或铟与锡的氧化物（ITO)、二氧化硅等透明氧化物。这些物质可使用2种以上，也可形成2层以上。[0249]在障壁层中使用透明氧化物的情形时的厚度优选的是Inm?20nm，更优选的是5nm?10nm。在所述层的厚度比Inm薄的情形时，未能获得所期望的障壁效果，有时在以银为主体的金属层中产生凝聚，或者产生由于氧、氯、硫等所造成的腐蚀。而且，即使比20nm厚，其效果也无变化。[0250]在障壁层中使用金属薄膜的情形时，其厚度优选的是5nm?50nm，更优选的是5nm?30nm。在所述层的厚度比5nm薄的情形时，无法获得所期望的障壁效果，在上述以银为主体的金属层产生凝聚。而且，即使比50nm厚，其效果也无变化。而且，在使用透明氧化物的情形时，所述层的厚度优选的是Inm?20nm，更优选的是5nm?10nm。在所述层的厚度比Inm薄的情形时，有时无法获得所期望的障壁效果，变得容易自金属或无机层的层叠体剥落。而且，即使比IOnm厚，其效果也无变化。[0251]〈（3)掩膜层〉[0252]本发明的制造方法的特征在于：在上述前面板的非接触侧依序层叠上述（I)、上述⑵及上述⑶掩膜层。[0253]上述掩膜层的厚度优选的是0·2μm?10μm，更优选的是0·5μm?8μm，特别优选的是〇·8μm?6μm。[0254]在本发明的制造方法中，优选的是使用依序包含临时支撑体与光硬化性树脂层的转印膜，转印上述转印膜的光硬化性树脂层而形成上述（3)掩膜层2c、第一透明电极图案3、第二透明电极图案4、绝缘层5、导电性要素6、视需要的透明保护层7的至少一个要素。此处，作为上述依序包含临时支撑体与光硬化性树脂层的转印膜，优选的是在上述装饰层的形成中所使用的上述转印膜或者在临时支撑体上层叠有光硬化性树脂层的包含光硬化性树脂层的转印膜。另外，上述依序包含临时支撑体与硬化性树脂层的转印膜更优选的是在上述临时支撑体与硬化性树脂层之间包含上述热塑性树脂层作为在上述装饰层的形成中所用的上述转印膜所包含的层。另外，上述依序包含临时支撑体与硬化性树脂层的转印膜中的"硬化性树脂层"是指上述装饰层的形成中所使用的上述转印膜中的"着色层"、或包含光硬化性树脂层的转印膜中的"光硬化性树脂层"。[0255]更优选的是使用包含光硬化性树脂层的转印膜，转印上述转印膜的光硬化性树脂层而形成上述（3)掩膜层2c、第一透明电极图案3、第二透明电极图案4、绝缘层5、导电性要素6、视需要的透明保护层7的至少一个要素；特别优选的是使用依序包含临时支撑体、热塑性树脂层、光硬化性树脂层的包含光硬化性树脂层的转印膜而形成。[0256]例如，在形成黑色的掩膜层2c的情形时，可通过使用包含黑色装饰层作为上述装饰层的且包含上述着色层的转印膜、或包含黑色光硬化性树脂层的且包含光硬化性树脂层的转印膜，在上述前面板1的表面转印上述黑色装饰层而形成。[0257]另外，在必需遮光性的掩膜层2c的形成中，使用具有在光硬化性树脂层与临时支撑体之间具有热塑性树脂层的特定的层构成的转印膜，由此可防止层叠转印膜时产生气泡，形成并无漏光的高品质的掩膜层2b等。[0258]在将上述转印膜的着色层、或上述包含光硬化性树脂层的转印膜的上述光硬化性树脂层用作掩膜层的情形时，可在上述转印膜的着色层或上述包含光硬化性树脂层的光硬化性树脂层中使用着色剂。作为上述着色剂，可适宜地使用公知的着色剂（有机颜料、无机颜料、染料等）。另外，在本发明中，可使用白、黑、红、蓝、绿色等颜料的混合物等。[0259]特别是在将上述掩膜层用作黑色的掩膜层的情形时，自光学密度的观点考虑，优选的是使用黑色着色剂。黑色着色剂例如可列举碳黑、钛碳、氧化铁、氧化钛、石墨等，其中优选的是碳黑。[0260]为了用作其他颜色的掩膜层，也可将日本专利第4546276号公报的段落[0183]?段落[0185]等中所记载的颜料、或染料混合而用。具体而言可适宜地使用日本专利特开2005-17716号公报的段落编号[0038]?段落编号[0054]中所记载的颜料及染料、日本专利特开2004-361447号公报的段落编号[0068]?段落编号[0072]中所记载的颜料、日本专利特开2005-17521号公报的段落编号[0080]?段落编号[0088]中所记载的着色剂等。[0261]作为上述装饰层以外中所使用的着色剂，自分散稳定性的观点考虑，优选的是数量平均粒径为0.001μm?0.1μm，更优选的是0.01μm?0.08μm。另外，此处所谓的"粒径"是指将粒子的电子显微照片图像设为同面积的圆时的直径，而且所谓"数量平均粒径"是指对多个粒子求出上述粒径，其100个的平均值。[0262]上述包含光硬化性树脂层的转印膜除了上述光硬化性树脂层、上述临时支撑体与上述热塑性树脂层之外，也可包含保护膜或中间层。作为各层的优选构成与层叠顺序，除了在上述的转印膜中使用光硬化性树脂层代替着色层以外，其他相同。[0263]上述包含光硬化性树脂层的转印膜的光硬化性树脂层优选的是以下的构成。[0264]作为上述光硬化性树脂层中所使用的上述单体，只要不违反本发明的宗旨则并无特别限制，可使用公知的聚合性化合物。[0265]上述聚合性化合物可使用日本专利第4098550号的段落[0023]?段落[0024]中所记载的聚合性化合物。[0266]作为上述光硬化性树脂层中所使用的上述上述粘合剂，只要不违反本发明的宗旨则并无特别限制，可使用公知的聚合性化合物。[0267]在包含光硬化性树脂层的转印膜为负型材料的情形时，优选的是在光硬化性树脂层中包含碱可溶性树脂、聚合性化合物、聚合引发剂或聚合引发系统（PolymerizationInitiationsystem)。另外可使用着色剂、添加剂等，但并不限定于此。[0268]作为上述包含光硬化性树脂层的光硬化性树脂层中所含的碱可溶性树脂，可使用日本专利特开2011-95716号公报的段落[0025]、日本专利特开2010-237589号公报的段落[0033]?段落[0052]中所记载的聚合物。[0269]在包含光硬化性树脂层的转印膜为正型材料的情形时，在光硬化性树脂层使用例如日本专利特开2005-221726中所记载的材料等，但并不限定于此。[0270]作为上述光硬化性树脂层中所使用的上述光聚合引发剂，可使用日本专利特开2011-95716号公报中所记载的[0031]?[0042]中所记载的聚合性化合物。[0271]-添加剂_[0272]另外，上述光硬化性树脂层也可使用添加剂。作为上述添加剂，例如可列举日本专利第4502784号公报的段落[0017]、日本专利特开2009-237362号公报的段落[0060]?段落[0071]中所记载的表面活性剂，或日本专利第4502784号公报的段落[0018]中所记载的热聚合抑制剂，另外日本专利特开2000-310706号公报的段落[0058]?段落[0071]中所记载的其他添加剂。[0273]-溶剂-[0274]而且，作为利用涂布制造包含光硬化性树脂层的转印膜时的溶剂，可使用日本专利特开2011-95716号公报的段落[0043]?段落[0044]中所记载的溶剂。[0275]以上，以包含光硬化性树脂层的转印膜为负型材料的情形为中心进行了说明，但上述感光性膜也可为正型材料。[0276](光硬化性树脂层的粘度）[0277]优选的是光硬化性树脂层的在100°C下测定的粘度处于2000Pa·sec?50000Pa·sec的区域，另外满足下式。[0278]热塑性树脂层的粘度〈光硬化性树脂层的粘度[0279]此处，各层的粘度可如下所述地测定。利用大气压及减压干燥，自热塑性树脂层或光硬化性树脂层用涂布液中除去溶剂而作为测定样品，例如使用维布隆（Vibron)(DD-III型；东洋鲍德温（Baldwin)股份有限公司制造）作为测定器，在测定开始温度为50°C、测定结束温度为150°C、升温速度为5°C/min及振动频率为lHz/deg的条件下进行测定，可使用100°C下的测定值。[0280]〈(4)多个垫部分经由连接部分而在第一方向上延伸而形成的多个第一透明电极图案〉[0281]本发明的静电电容型输入装置的制造方法优选的是使用通过依序包含临时支撑体与硬化性树脂层的转印膜而形成的蚀刻图案对透明导电材料进行蚀刻处理，由此而形成上述第一透明电极图案、上述第二透明电极图案及上述导电性要素的至少一个；更优选的是使用通过依序包含临时支撑体、热塑性树脂层与硬化性树脂层的转印膜而形成的蚀刻图案对透明导电材料进行蚀刻处理而形成上述第一透明电极图案、上述第二透明电极图案及上述导电性要素的至少一个。[0282]另外，更优选的是使用通过包含临时支撑体与光硬化性树脂层的且包含光硬化性树脂层的转印膜而形成的蚀刻图案而形成上述第一透明电极图案、上述第二透明电极图案及上述导电性要素的至少一个；特别优选的是使用通过依序包含临时支撑体、热塑性树脂层与光硬化性树脂层的包含光硬化性树脂层的转印膜而形成的蚀刻图案。[0283]另一方面，本发明的静电电容型输入装置的制造方法优选的是使用依序包含临时支撑体与导电性硬化性树脂层的转印膜而形成上述第一透明电极图案、上述第二透明电极图案及上述导电性要素的至少一个，更优选的是使用依序包含临时支撑体、热塑性树脂层与导电性硬化性树脂层的转印膜而形成上述第一透明电极图案、上述第二透明电极图案及上述导电性要素的至少一个。[0284]亦即，上述第一透明电极图案3优选的是使用蚀刻处理或包含导电性硬化性树脂层的转印膜而形成。[0285](蚀刻处理）[0286]在通过蚀刻处理形成上述第一透明电极图案3的情形时，优选的是首先利用溅镀在形成有掩膜层2b等的前面板1的非接触面上形成ITO等的透明电极层。其次，优选的是在上述透明电极层上，使用包含蚀刻用光硬化性树脂层作为上述光硬化性树脂层、除此以外与上述掩膜层的形成中所使用的转印膜同样的转印膜，利用曝光、显影而形成蚀刻图案。其后，可通过对透明电极层进行蚀刻而对透明电极进行图案化，将蚀刻图案除去而形成第一透明电极图案3等。[0287]在将上述包含光硬化性树脂层的转印膜用作蚀刻抗蚀剂（蚀刻图案）的情形时，可与上述方法同样地进行而获得抗蚀剂图案。上述蚀刻可利用日本专利特开2010-152155公报的段落[0048]?段落[0054]等中所记载的公知方法而适用蚀刻、抗蚀剂剥离。[0288]例如作为蚀刻的方法，可列举一般所进行的浸渍于蚀刻液中的湿式蚀刻法。湿式蚀刻中所使用的蚀刻液可根据蚀刻对象而适宜选择酸性型或碱性型的蚀刻液即可。酸性型的蚀刻液可例示盐酸、硫酸、氢氟酸、磷酸等酸性成分的单独水溶液，酸性成分与氯化铁、氟化铵、高锰酸钾等盐的混合水溶液等。酸性成分也可使用多种酸性成分组合而成的。而且，碱性型的蚀刻液可例示氢氧化钠、氢氧化钾、氨、有机胺、四甲基氢氧化铵这样的有机胺的盐等碱成分的单独水溶液，碱成分与高锰酸钾等盐的混合水溶液等。碱成分也可使用多种碱成分组合而成的。[0289]蚀刻液的温度并无特别限定，优选的是45°C以下。作为蚀刻掩膜（蚀刻图案）而使用的树脂图案是使用上述装饰层而形成的，因此对于此种温度区域的酸性及碱性的蚀刻液发挥特别优异的耐受性。因此防止在蚀刻步骤中树脂图案剥离，使不存在树脂图案的部分被选择性蚀刻。[0290]在上述蚀刻后，为了防止线污染而也可视需要进行清洗步骤、干燥步骤。关于清洗步骤，例如在常温下利用纯水对基材清洗10秒?300秒而进行，关于干燥步骤，使用吹风(airblow)，适宜调整吹风压力（0·lkg/cm2?5kg/cm2左右）而进行即可。[0291]其次，作为树脂图案的剥离方法，并无特别限定，例如可列举在30°C?80°C、优选的是50°C?80°C下，将基材浸渍于搅拌中的剥离液中5分钟?30分钟的方法。作为蚀刻掩膜而使用的树脂图案是如上所述地在45°C以下显示出优异的耐药液性的树脂图案，若药液温度成为50°C以上，则显示出由于碱性剥离液而膨润的性质。由于此种性质，具有若使用50°C?80°C的剥离液而进行剥离步骤，则步骤时间缩短、树脂图案的剥离残渣变少的优点。亦即，通过在上述蚀刻步骤与剥离步骤之间设置药液温度的差，作为蚀刻掩膜而使用的树脂图案在蚀刻步骤中发挥良好的耐药液性，另一方面在剥离步骤中显示出良好的剥离性，可同时满足耐药液性与剥离性的相反特性。[0292]剥离液例如可列举使氢氧化钠、氢氧化钾等无机碱成分或三级胺、四级铵盐等有机碱成分溶解于水、二甲基亚砜、N-甲基吡咯烷酮、或这些的混合溶液中而成的。也可使用上述剥离液，利用喷雾法、喷淋法、覆液法等而进行剥离。[0293](使用包含导电性硬化性树脂层的转印膜的方法）[0294]而且，也可使用包含临时支撑体及硬化性树脂层的转印膜作为剥离（lift-off)材，形成第一透明电极图案、第二电极图案及其他导电性构件，上述转印膜可列举包含上述着色层的上述转印膜、或上述包含光硬化性树脂层的转印膜。在此情形时，也优选的是上述包含临时支撑体及硬化性树脂层的转印膜在上述临时支撑体及上述硬化性树脂层之间包含上述热塑性树脂层。在此情形时，使用包含上述着色层的上述转印膜或包含光硬化性树脂层的转印膜而进行图案化后，在基材整个面上形成透明导电层，然后连同所堆积的透明导电层一起溶解除去包含上述着色层的上述转印膜中的着色层或包含光硬化性树脂层的转印膜中的所述光硬化性树脂层，由此可获得所期望的透明导电层图案（剥离法）。[0295]在使用包含导电性硬化性树脂层的转印膜而形成上述第一透明电极图案3的情形时，可通过在上述前面板1的表面转印上述导电性硬化性树脂层而形成。[0296]若使用上述包含导电性硬化性树脂层的转印膜而形成上述第一透明电极图案3，则即使在具有开口部的基板（前面板），抗蚀剂成分也不自开口部分漏出，可在不污染基板背面侧的情况下，以简略的步骤而制造具有薄层/轻量化的优点的触摸屏。[0297]另外，在第一透明电极图案3的形成中，通过使用具有在导电性硬化性树脂层与临时支撑体之间包含热塑性树脂层的特定的层构成的转印膜，可防止层叠转印膜时产生气泡，形成导电性优异、电阻小的第一透明电极图案3。[0298]而且，在上述转印膜包含导电性硬化性树脂层的情形时，上述导电性硬化性树脂层中含有导电性纤维等。[0299]?导电性硬化性树脂层（导电性纤维）?[0300]将上述层叠有导电性硬化性树脂层的转印膜用于形成透明电极图案、或其他导电性要素的情形时，可将以下的导电性纤维等用于装饰层中。[0301]导电性纤维的结构并无特别限制，可视需要而适宜选择，优选的是实心结构及中空结构的任意的。[0302]此处，有时将实心结构的纤维称为"线"，将中空结构的纤维称为"管"。而且，有时将平均短轴长度为5nm?1，OOOnm、平均长轴长度为1μm?100μm的导电性纤维称为"纳米线"。[0303]而且，有时将平均短轴长度为Inm?1，OOOnm、平均长轴长度为0·1μm?1，000μm、且具有中空结构的导电性纤维称为"纳米管"。[0304]作为上述导电性纤维的材料，若具有导电性则并无特别限制，可视需要而适宜选择，优选的是金属及碳的至少任意的，在这些中，上述导电性纤维特别优选的是金属纳米线、金属纳米管、及碳纳米管的至少任意的。[0305]-金属纳米线-[0306]--金属一[0307]上述金属纳米线的材料并无特别限制，例如优选的是选自由长周期表(IUPAC1991)的第4周期、第5周期、及第6周期所构成的群组的至少1种金属，更优选的是选自第2族?第14族的至少1种金属，进一步更优选的是选自第2族、第8族、第9族、第10族、第11族、第12族、第13族、及第14族的至少1种金属，特别优选的是包含这些金属作为主成分。[0308]上述金属例如可列举铜、银、金、钼、钯、镍、锡、钴、铑、铱、铁、钌、锇、锰、钥、钨、铌、钽、钛、铋、锑、铅、这些的合金等。就导电性优异的方面而言，这些中优选的是主要含有银的材料、或含有银与银以外的金属的合金的材料。[0309]上述所谓主要含有银是表示在金属纳米线中含有50质量％以上、优选的是90质量％以上的银。[0310]上述与银的合金中所使用的金属可列举钼、锇、钯及铱等。这些金属可单独使用1种，也可并用2种以上。[0311]-形状一[0312]作为上述金属纳米线的形状，并无特别限制，可视需要适宜选择，例如可使用圆柱状、长方体状、剖面为多边形的柱状等任意形状，在必需高透明性的用途中，优选的是圆柱状、剖面的多边形的角圆滑的剖面形状。[0313]上述金属纳米线的剖面形状可通过在基材上涂布金属纳米线水分散液，利用透射式电子显微镜（TransmissionElectronMicroscope，TEM)观察剖面而调查。[0314]上述金属纳米线剖面的角是表示将剖面的各边延长，与自相邻边落下的垂线相交的点的周边部。而且，"剖面的各边"是这些相邻的角与角连结而成的直线。在此情形时，将上述"剖面的外周长度"相对于上述"剖面的各边"的合计长度的比例作为锐利度。作为锐利度，例如在如图9所示的金属纳米线剖面中，可利用以实线表示的剖面的外周长度与以虚线表示的五边形的外周长度的比例而表示。将所述锐利度为75%以下的剖面形状定义为角圆滑的剖面形状。上述锐利度优选的是60%以下，更优选的是50%以下。若上述锐利度超过75%，则有时在所述角处局部存在电子，等离子体激元（plasmon)吸收增加，因此残存黄色调等而造成透明性恶化。而且，有时图案的边缘部的直线性降低，产生粗糙。上述锐利度的下限优选的是30%，更优选的是40%。[0315]-平均短轴长度径及平均长轴长度一[0316]上述金属纳米线的平均短轴长度（有时也称为"平均短轴径"、"平均直径"）优选的是150nm以下，更优选的是Inm?40nm，进一步更优选的是IOnm?40nm，特别优选的是15nm?35nm〇[0317]若上述平均短轴长度不足lnm，则存在耐氧化性恶化，耐久性变差的现象；若超过150nm，则存在产生由于金属纳米线所引起的散射，无法获得充分的透明性的现象。[0318]上述金属纳米线的平均短轴长度可使用透射式电子显微镜（TEM;日本电子股份有限公司制造、JEM-2000FX)，对300个金属纳米线进行观察，根据其平均值求出金属纳米线的平均短轴长度。另外，上述金属纳米线的短轴并非圆形的情形时的短轴长度可将最长的作为短轴长度。[0319]上述金属纳米线的平均长轴长度（有时称为"平均长度"）优选的是Iym?40μm，更优选的是3μm?35μm，进一步更优选的是5μm?30μm。[0320]若上述平均长轴长度不足1μm，则存在难以形成致密的网状物（network)，无法获得充分的导电性的现象；若超过40μm，则存在金属纳米线过长而在制造时缠绕，在制造过程中生成凝聚物的现象。[0321]上述金属纳米线的平均长轴长度例如可使用透射式电子显微镜（TEM;日本电子股份有限公司制造、JEM-2000FX)，对300个金属纳米线进行观察，根据其平均值求出金属纳米线的平均长轴长度。另外，在上述金属纳米线弯曲的情形时，考虑以此为弧的圆，将根据其半径及曲率而算出的值作为长轴长度。[0322]自涂布液的稳定性或涂布时的干燥或图案化时的显影时间等工艺适合性的观点考虑，导电性硬化性树脂层的层厚优选的是〇·1μm?20μm，更优选的是0·5μm?18μm，特别优选的是1μm?15μm。自导电性与涂布液的稳定性的观点考虑，上述导电性纤维相对于上述导电性硬化性树脂层的所有固体成分的含量优选的是〇.01质量％?50质量％，更优选的是〇.05质量％?30质量％，特别优选的是0.1质量％?20质量％。[0323]〈(5)与上述第一电极图案电绝缘，在与上述第一方向交叉的方向上延伸而形成的包含多个垫部分的多个第二电极图案〉[0324]本发明的静电电容型输入装置的第二电极图案也可为透明电极图案。另外，在本说明书中，以第二透明电极图案代替第二电极图案而加以说明，但第二电极图案的优选的实施方式也与第二透明电极图案的优选的实施方式相同。[0325]上述第二透明电极图案4可使用上述蚀刻处理或上述包含导电性硬化性树脂层的转印膜而形成。此时的优选的实施方式与上述第一透明电极图案3的形成方法相同。[0326]〈(6)使上述第一透明电极图案与上述第二电极图案电绝缘的绝缘层〉[0327]在形成绝缘层5的情形时，可通过如下方式而形成：使用包含绝缘性着色层作为上述着色层的上述转印膜、或者包含绝缘性光硬化性树脂层作为上述光硬化性树脂层的上述包含光硬化性树脂层的转印膜，在形成有第一透明电极图案的上述前面板1的表面转印上述绝缘性着色层或光硬化性树脂层。[0328]另外，在使用转印膜形成绝缘层的情形时，自维持绝缘性的观点考虑，绝缘层的层厚优选的是〇·Iμm?5μm，更优选的是0·3μm?3μm，特别优选的是0·5μm?2μm。[0329]〈(7)与上述第一透明电极图案及上述第二电极图案的至少一个电性连接，与上述第一透明电极图案及上述第二电极图案不同的导电性要素〉[0330]上述其他导电性要素6可使用上述蚀刻处理或上述包含导电性硬化性树脂层的转印膜而形成。[0331]〈(8)透明保护层〉[0332]在形成透明保护层7的情形时，可通过如下方式而形成：使用包含透明着色层作为上述着色层的上述转印膜、或包含透明光硬化性树脂层作为上述光硬化性树脂层的上述包含光硬化性树脂层的转印膜，在形成有各要素的上述前面板1的表面转印上述透明着色层或透明光硬化性树脂层。[0333]在使用转印膜形成透明保护层的情形时，自发挥充分的表面保护能力的观点考虑，透明保护层的层厚优选的是〇·5μm?10μm，更优选的是0·8μm?5μm，特别优选的是Ιμπι?3μηι〇[0334]〈〈静电电容型输入装置、及包含静电电容型输入装置作为构成要素的图像显示装置》[0335]利用本发明的制造方法而所得的静电电容型输入装置、及包含所述静电电容型输入装置作为构成要素的图像显示装置可适用《最新触摸屏技术》（2009年7月6日发行，技术时代股份有限公司（TechnoTimesCo.,Ltd))、三谷雄二主编，《触摸屏的技术与开发》、CMC出版（2004,12)，2009年国际平板显示器展（FPDInternational2009Forum)T-ll讲座教材（textbook)，赛普拉斯半导体公司（CypressSemiconductorCorporation)应用注解AN2292等中所揭示的构成。[0336][实施例][0337]以下，利用实施例对本发明加以更具体的说明。[0338]以下实施例中所示的材料、使用量、比例、处理内容、处理顺序等只要不偏离本发明的宗旨则可适宜变更。因此，本发明的范围并不由于以下所示的具体例而限定性地解释。另外，只要无特别说明，则"％"及"份"是质量基准。[0339][实施例1][0340]〈装饰层形成用转印膜Ll的制备〉[0341]在厚度为75μπι的聚对苯二甲酸乙二酯膜临时支撑体上，使用狭缝（slit)状喷嘴而涂布包含下述配方Hl的热塑性树脂层用涂布液，在100°C下使其干燥2分钟后进一步在120°C下使其干燥1分钟，形成干燥层厚为15μm的热塑性树脂层。此处，干燥条件中的温度"KKTC"及"120°C"均为干燥风的温度。以下的干燥条件中的温度也同样。其次，涂布包含下述配方Pl的中间层用涂布液，在KKTC下使其干燥2分钟后，进一步在120°C下使其干燥10分钟而进行干燥。进一步涂布包含下述配方Ll的着色层用涂布液而使其干燥。如上所述而在临时支撑体上设置干燥膜厚为15.1μm的热塑性树脂层、干燥膜厚为1.6μm的中间层、干燥膜厚为2.5μm的白色着色层，最后压接保护膜（厚度为12μm的聚丙烯膜）。如上所述而制作临时支撑体、热塑性树脂层、中间层（隔氧膜）、着色层、保护膜成为一体的转印材料，将样品名设为装饰层形成用转印膜L1。[0342](热塑性树脂层用涂布液：配方Hl)[0343]甲醇：11.1质量份丙二醇单甲釀乙酸_:6.36质量份?甲基乙基酮：52.4廣量份?甲基丙?酸甲酯/丙烯酸-2-乙基己酯/甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸共聚物（共聚组成比(摩尔比）=55/11.7/4.5/28.8、分子量=10万、Tg=70°C):5.83质量份苯乙烯/丙烯酸共聚物（共聚组成比（摩尔比）=63/37、重量平均分子量=1万、Tg=1000C);13.6质量份?筚体1(商品名：BPE-500、新中村化学工业股份有限公司制）:9.1质量份?表面活性剂（氟系聚合物、商品名：美佳法（Megafoe)F780F、大日本油墨化学工业股份有限公司制造）：0.54质量份[0344]上述氟系聚合物是40份C6F13CH2CH2OCOCh=012与55份H(OCH(CH3)CH2)70C0CH=012与5份!1(001012)700)01=012的共聚物，重量平均分子量为3万、甲基乙基酮为30质量％的溶液。[0345]另外，热塑性树脂层用涂布液Hl的除去溶剂后的120°C的粘度为1500Pa·sec。[0346](中间层用涂布液：配方PI)[0347]聚乙烯醇：32.2质量份(商品名：PVA205、可乐丽（Kuraray)股份有限公司制造、皂化度=88%、聚合度为550)聚乙烯吡咯烷_:14.9质量份(商品名：K-30、ISP日本（ISPJapan)股份有限公司制造）蒸馏水：524质量份?甲醇：429质量份[0348](着色层用涂布液：配方LI)甲基乙基酮（东燃化学股份有限公司制造）：15.7质量份.硅_树脂KR-300(信越化学工业股份有限公司制造：线性硅酮二甲苯溶液（固体成分为50质量％))··104.5质量份硅_树脂KR-3U(信越化学工业股份有限公司制造；线性硅酮二甲苯溶液（固体成分为50质量％)):104.5质量份'白色颜料分散物1(下述组成）：123质量份抗氧化剂（苏米莱泽（Sumilizer)GP、住友化学股份有限公司制造）:0.195质量份-表面活性剂（商品名：美佳法（Megafae)F-780F、迪爰生（DIO股份有限公司制造）:0.78质量份[0349]-白色颜料分散物1的组成_[0350]?氧化tt(石M产业制造的CR97:氧化铝/氧化锆处理金红石型、一次粒径为025μπΟ:70.0质量％?甲基丙烯酸苄議/甲基丙烯酸=72/28摩尔比的无规共聚物、重量平均分子量为3.7万:3.5质量％·￥基乙基_(东燃化学股份有限公司制造）：26.5质量％[0351]〈本发明的静电电容型输入装置的制造〉[0352]使用上述所得的转印膜作为装饰层形成用转印膜，通过以下的方法制造实施例1的静电电容型输入装置。[0353]〈〈装饰层的形成》[0354]对于形成有开口部（15mmΦ)的强化处理玻璃（300mmX400mmX0.7mm)，一面通过喷淋吹附调整为25°C的玻璃清洗剂溶液20秒，一面用具有尼龙毛的旋转毛刷进行清洗，在纯水喷淋清洗后，通过喷淋吹附硅烷偶合溶液（N-β-(氨基乙基）-γ-氨基丙基三甲氧基硅烷为〇.3质量％水溶液、商品名：ΚΒΜ603、信越化学工业股份有限公司制造）20秒，进行纯水喷淋清洗。将所述基材在基材预热装置中在90°C下进行2分钟的预热。[0355]自所得的装饰层形成用转印膜Ll的保护膜25侧，如图10及图11中所记载那样切入贯通保护膜25、着色层24、中间层23,直至热塑性树脂层22的一部分的切口，分成用以转印着色层的图像部32、不转印着色层的非图像部31。其次，使用胶带而仅仅将非图像部31的保护膜25剥离，同样地使用胶带将非图像部31的着色层24与中间层23这2层同时剥离。进一步仅仅将与图像部32对应的区域的保护膜25剥离。[0356]以将保护膜25剥离后所露出的图像部32的着色层24的表面、与上述在90°C下经预热且进行了硅烷偶合处理的强化玻璃基材的表面相接的方式进行叠合，使用层叠机（日立工业（industries)股份有限公司制造（拉米克（Lamic)II型）），在橡胶棍温度为120°C、线性压力为lOON/cm、搬送速度为2.5m/min下进行层叠。继而在与热塑性树脂层22的表面将聚对苯二甲酸乙二酯的临时支撑体21剥离，除去临时支撑体21。[0357]由此由装饰层形成用转印膜Ll在上述玻璃基材的图像部32转印着色层24、中间层23及热塑性树脂层22,由装饰层形成用转印膜Ll在上述玻璃基材的非图像部31仅仅转印热塑性树脂层22。[0358]其次，用三乙醇胺系显影液（含有30质量％的三乙醇胺、利用纯水将商品名T-PD2(富士胶片株式会社制造）稀释10倍而成的液体）在30°C下，在扁嘴（flatnozzle)压力为0.IMPa下进行60秒的喷淋显影，将上述玻璃基材的图像部32的热塑性树脂层22与中间层23、以及非图像部31的热塑性树脂层22除去。继而，对所述玻璃基材的上表面吹附空气而脱液（drainliquidoff)后,通过喷淋吹附纯水10秒,进行纯水喷淋清洗,其次吹附空气而除去玻璃基材上的水分。[0359]其后，在大气压（Iatm)下、空气中、在240°C下进行45分钟的后烘烤处理而使着色层24成为装饰层，获得形成有装饰层的前面板。[0360]〈〈装饰层的评价》[0361](膜厚测定）[0362]使用表面粗糙度计P-IO(科磊（TENCOR)公司制造）而测定强化处理玻璃上形成有装饰层的前面板的装饰层的膜厚。将其结果记载于下述表1中。另外，在下述表1中，"μ"表示"μ--"。[0363](转印性的评价）[0364]将如上述所示而制作的装饰层形成用转印膜Ll的保护膜剥离，将装饰层形成用转印膜Ll的着色层叠合在后述的本发明的静电电容型输入装置的制造中所制备的进行了硅烷偶合处理的强化玻璃的表面，用层叠机进行贴合后，将聚对苯二甲酸乙二酯膜制的临时支撑体剥离，观察所剥离的临时支撑体的膜表面，根据以下基准进行评价。C以上为实用级别。[0365]〈评价基准〉[0366]A:在整个面完全转印，转印性极其良好。[0367]B:仅仅膜的边缘存在稍许转印残留，转印性良好。[0368]C:在膜全体存在轻微的转印残留，转印性普通。[0369]D:膜上到处存在膜状着色层（感光性树脂）的转印残留，转印性差。[0370]将评价结果记载于下述表1中。[0371](预切性的评价）[0372]自装饰层形成用转印膜的保护膜25侧，如图12所记载那样切入贯通保护膜25、着色层24、中间层23,直至热塑性树脂层22的一部分的切口而进行预切后，进行所形成的着色层的图像图案轮廓部分及周边部分的光学显微镜观察，根据下述基准评价在轮廓及周边是否残存切割屑。实用级别为D以上，优选的是C以上。[0373]〈评价基准〉[0374]A:剖面被干净地切断，完全无刀的污垢，预切适合性极其良好。[0375]B:仅仅剖面的边缘存在稍许的污垢或剥落，完全无刀的污垢，预切适合性良好。[0376]C:在剖面存在稍许污垢或剥落，但烘烤后光滑而无问题，刀的污垢也极其少，预切适合性普通。[0377]D:在剖面存在数mm宽的污垢或剥落，即使进行烘烤也不恢复，实用上需要修复。刀的污垢严重，必须每隔数次进行一次清洗，预切适合性差。[0378]E:以剖面的缺落为起点而图像部分被破坏，存在实用上的问题。或者刀的污垢严重，必须每次进行清洗，非常差。[0379]将评价结果记载于下述表1中。[0380]〈〈反射层的形成》[0381]〈反射层形成用转印膜Ml的制备〉[0382]在真空腔体内安放2.0μm的聚酰亚胺膜，使用Ag革巴（原子比率Ag/Ga=98.5/1.5)，利用DC磁控溅镀（极限真空0.27XmPa以下、Ar气压：0.27Pa、溅镀功率：200W、极间距离：55mm、基板温度：室温），在其上形成厚度为200nm的Ag薄膜。[0383]在所述Ag蒸镀面上涂布下述密接赋予层用涂布液，在KKTC下进行2分钟的干燥，制作0.6μm的附有密接赋予层的银反射层膜。[0384](密接赋予层用涂布液：配方Pl)[0385]?丙二醇单甲11乙酸酯：42质量份?甲基乙基酬（东燃化学股份有限公司制造）：48质量份二甲苯：24质量份?硅酮树脂KR-+282(信越化学工业股份有限公司制造；线性硅酮二甲苯溶液（固体成分为50质童％)):209质量份?抗氧化剂（苏米莱泽（Sumilizer)GP、住友化学股份有限公司制造）:0.195质量份?表面活性剂（商品名：美佳法（Megafae)F-780F、迪爱生（DIC)股份有限公司制造）:0.78质量份[0386]对所述附有保护层的银反射层膜，自密接赋予层的面放入剃刀。以与边框形状的装饰层的内侧重叠的部分与前面板重叠时锥角（coneangle)成为约30度的方式切入切□。[0387]利用硅烷偶合液对前面板进行处理，进行纯水喷淋清洗。在基材预热装置中，将所述基材在90°C下进行2分钟的加热。继而，与实施例1的装饰层的形成同样地以前面板的装饰层与银反射层膜的密接赋予层重叠的方式进行层叠。[0388]在冷却后，使银反射层膜成为下侧而将所层叠的前面板移至平的金属板上，沿着前面板的边缘接触剃刀，将伸出的银反射层膜切落。[0389]自前面板的未形成装饰层的面测定亮度，结果L值为87.0、b值为1.62。[0390]而且，利用目视判断前面板的装饰层的白度，结果是并无问题，为良好的级别。[0391]〈〈掩膜层的形成》[0392]〈掩膜层形成用转印膜Kl的制备〉[0393]在上述装饰层形成用转印膜Ll的制备中，将包含上述配方Ll的着色层用涂布液替代为包含下述配方Kl的掩膜层形成用涂布液，除此以外与装饰层形成用转印膜Ll的制备同样地进行而获得临时支撑体、热塑性树脂层、中间层（隔氧膜）、掩膜层形成用光硬化性树脂层及保护膜成为一体的掩膜层形成用转印膜K1。掩膜层形成用光硬化性树脂层的膜厚为2.2μm。[0394](掩膜层形成用涂布液：配方ΚΙ)[0395]?Κ颜料分散物1(下述的组成）：19.5质量份?白色颜料分散物1(与着色层用涂布液中所使用的相同）；3.65质量份MMPGAo(大赛璐化学股份有限公司制造）：6.+2质量份甲基乙基酬（东燃化学股份有限公司制造）：34.0质量份?环己_C关东电化工业股份有限公司制造）：8.5质量份[0396]粘合剂2(甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸=78/22摩尔比的无规共聚物、重量平均分子量为3.8万）：10.8质量份俯__(phenothiazine)(东京化成股份有限公苛制造）：0.01质量份-DPHA(二季戊四醇六丙烯酸||、日本化薬殷份有限公司制造）的丙二醇单甲_乙酸B溶液（76质量％):5.5质量份2-(二甲基氨基)-2-[(4-甲基苯基)甲基]-l-[4-(4-吗啉基)苯基]-1-丁丽（商品名：艳佳固(Irgacure)379、巴斯夫（BASF)制造）：0.17质量份表面活性剂（商品名：美佳法（Megafac)F-780F、大日+油墨股份有[?公司制造）:0.〗M量份[0397]-K颜料分散物1的组成-[0398]碳黑（商品名：尼派克斯（Nipex)35、德固赛（Degussa)公司_造）:B.1质量％?下述分散剂1:0.65质量％?粘合?H￥基丙?酸苄酯/甲基丙烯酸=72/28摩尔比的无规共聚物、重量平均分子量为3.7万.）：6J2质量。/〇?丙二醇单甲11乙酸β:79.53质m%【权利要求】1.一种静电电容型输入装置的制造方法，所述静电电容型输入装置包含前面板、在所述前面板的非接触侧至少包含下述（1)?（3)的要素，所述静电电容型输入装置的制造方法的特征在于：在所述前面板的非接触侧依序层叠所述（1)、所述⑵及所述（3)，(1)包含无机白色颜料及粘合剂，膜厚为1Um以上且不足30ym的装饰层；(2)包含无机物的层叠体或金属的反射层；(3)掩膜层。2.根据权利要求1所述的静电电容型输入装置的制造方法，其特征在于：所述反射层包含金属。3.根据权利要求1或2所述的静电电容型输入装置的制造方法，其特征在于：所述反射层的厚度为lOOnm以上。4.根据权利要求1至3中任一项所述的静电电容型输入装置的制造方法，其特征在于：使用包含着色层的转印膜而至少形成所述（1)。5.根据权利要求1至4中任一项所述的静电电容型输入装置的制造方法，其特征在于：包含在层叠所述（1)装饰层之后，在0.08atm?1.2atm的环境下加热至110°C?300°C的步骤。6.根据权利要求1至5中任一项所述的静电电容型输入装置的制造方法，其特征在于：在所述（3)的要素上层叠透明电极图案。7.根据权利要求1至5中任一项所述的静电电容型输入装置的制造方法，其特征在于：在所述（3)的要素上层叠下述（4)?（6)的要素：(4)多个垫部分经由连接部分而在第一方向上延伸而形成的多个第一透明电极图案(5)与所述第一透明电极图案电绝缘，在与所述第一方向交叉的方向上延伸而形成的包含所述多个垫部分的多个第二电极图案(6)使所述第一透明电极图案与所述第二电极图案电绝缘的绝缘层。8.根据权利要求7所述的静电电容型输入装置的制造方法，其特征在于：将所述第一透明电极图案及所述第二电极图案的至少一个设置成跨在所述前面板的非接触面及所述掩模层的与所述前面板侧相反侧的面的双方区域。9.根据权利要求7或8所述的静电电容型输入装置的制造方法，其特征在于：所述第二电极图案是透明电极图案。10.根据权利要求7至9中任一项所述的静电电容型输入装置的制造方法，其特征在于：所述静电电容型输入装置进一步包含（7)与所述第一透明电极图案及所述第二电极图案的至少一个电性连接、与所述第一透明电极图案及所述第二电极图案不同的导电性要素。11.根据权利要求10所述的静电电容型输入装置的制造方法，其特征在于：至少在所述掩膜层的与前面板相反侧的面侧设置所述（7)其他导电性要素。12.根据权利要求10或11所述的静电电容型输入装置的制造方法，其特征在于：进一步以覆盖所述（1)?（7)的要素的全部或一部分的方式设置（8)透明保护层。13.根据权利要求12所述的静电电容型输入装置的制造方法，其特征在于：使用依序包含临时支撑体、热塑性树脂层、光硬化性树脂层的转印膜，转印所述转印膜的光硬化性树脂层而形成所述透明保护层。14.根据权利要求10至13中任一项所述的静电电容型输入装置的制造方法，其特征在于：使用通过依序包含临时支撑体、热塑性树脂层、光硬化性树脂层的转印膜而形成的蚀刻图案对透明导电材料进行蚀刻处理，由此形成所述第一透明电极图案、所述第二电极图案及所述导电性要素的至少一个。15.根据权利要求10至14中任一项所述的静电电容型输入装置的制造方法，其特征在于：使用依序包含临时支撑体、热塑性树脂层、导电性光硬化性树脂层的转印膜，转印所述转印膜的导电性光硬化性树脂层而形成所述第一透明电极图案、所述第二电极图案及所述导电性要素的至少一个。16.根据权利要求1至15中任一项所述的静电电容型输入装置的制造方法，其特征在于：对所述前面板的非接触面进行表面处理，在实施了所述表面处理的所述前面板的非接触面上设置装饰层。17.根据权利要求16所述的静电电容型输入装置的制造方法，其特征在于：在所述前面板的表面处理中使用硅烷化合物。18.根据权利要求1至17中任一项所述的静电电容型输入装置的制造方法，其特征在于：所述前面板在至少一部分具有开口部。19.一种静电电容型输入装置，其特征在于：利用根据权利要求1至18中任一项所述的静电电容型输入装置的制造方法制造而成。20.-种图像显示装置，其特征在于：包含根据权利要求19所述的静电电容型输入装置作为构成要素。【文档编号】G06F3/041GK104508608SQ201380035907【公开日】2015年4月8日申请日期:2013年8月30日优先权日:2012年9月19日【发明者】后藤英范,吉成伸一申请人:富士胶片株式会社