静电电容触摸屏面板及其制造方法

静电电容触摸屏面板及其制造方法
【专利摘要】本发明涉及一种静电电容触摸屏面板及其制造方法。静电电容触摸屏面板包括：具有屏幕区域和无源区域的衬底；由衬底的至少一个侧面的屏幕区域上的图案化的透明导电层形成的透明电极图案部分；图案化在衬底的至少一个侧面的无源区域上且与透明电极图案部分电连接的外电极线，外电极线包括依次堆叠在透明导电层上且分别由NiCr合金、包括Cu的导电金属和NiCr合金形成的第一至第三金属层。本发明具有有效降低触摸屏的制造成本且大大减少触摸屏面板的制造工序的效果。另外，可能通过双面曝光/刻蚀的图案化工艺，保持第一和第二透明电极图案之间，第一和第二透明电极图案与第一和第二外电极线之间，以及第一和第二外电极线之间精确的对准公差。
【专利说明】静电电容触摸屏面板及其制造方法
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本申请要求于2013年7月15日在韩国知识产权局提交的韩国专利申请N0.10-2013-0082994的优先权和权益，其公开内容通过引用并入本文。

【技术领域】
[0003]本发明涉及一种静电电容触摸屏面板及其制造方法，尤其是涉及一种静电电容触摸屏面板及其制造方法，通过该静电电容触摸屏面板可有效降低触摸屏的制造成本且可以大大减少触摸屏面板的制造工序。

【背景技术】
[0004]一般而言，触摸屏是一种所有年龄段的人都易于使用的输入设备，允许用户通过手指简单触摸显示在显示器上的按钮来会话地或直观地操作电脑。
[0005]触摸屏的类型包括电阻式、静电电容式、红外线式、超声波式等，电阻式是当前的一般趋势，而静电电容式用于最小化触摸屏的厚度。
[0006]在此，静电电容触摸屏包括具有导电透光板结构的氧化铟锡(ITO)，通过在ITO边缘涂上银粉而形成的电极部分，以及用于隔绝电极下部分的绝缘包覆部分。
[0007]同时，ITO包括由透光树脂形成的ITO薄膜，以及ITO包覆层，其中导电材料涂在ITO薄膜的下部分上。
[0008]在相关技术的静电电容触摸屏中，当用户触摸ITO上表面时，设置在ITO四侧的每一侧的电极根据由手指触摸产生的电容变化检测触摸，从而检测出触摸位置。
[0009]但是，相关技术中的静电电容触摸屏的制造工艺有以下所述的问题。
[0010]第一，当图案化单独的触摸屏之后进行层压时，很难保持精确的公差。即，信号干扰和孔径比会通过移动、重叠等增大。
[0011]第二，很难保持ITO和外电极部分之间的精确的对准公差。S卩，由于通过外参照孔进行的丝网印刷(银浆)操作，很难精确地控制该工艺，且由于ITO的特性，用户很难对对准进行视觉检查。
[0012]第三，由于丝网印刷之后的银浆高温固化工艺，ITO细线宽度部分可发生断裂。
[0013]第四，由于片状层之间的层压，会产生许多缺陷，例如气泡、外来杂质和刮痕。
[0014]第五，在层压之前的片状薄膜很薄，导致很难处理该薄膜，且薄膜可能会出现褶皱。
[0015][相关领域的文献]
[0016][专利文件]
[0017](专利文件I)韩国专利N0.10-0909265


【发明内容】

[0018]本发明旨在提供一种静电电容触摸屏面板及其制造方法，通过该静电电容触摸屏面板可有效降低触摸屏的制造成本且可以大大减少触摸屏面板的制造工序。
[0019]本发明的第一示例性实施例提供一种静电电容触摸屏面板，包括:衬底，衬底具有屏幕区域和无源区域；透明电极图案部分，透明电极图案部分由衬底的至少一个侧面的屏幕区域上的图案化的透明导电层形成；以及外电极线，外电极线图案化在衬底的至少一个侧面的无源区域上，且与透明电极图案部分电连接，其中，外电极线包括依次堆叠在透明导电层上的第一金属层至第三金属层，以及第一金属层至第三金属层分别由NiCr合金、包括Cu的导电金属和NiCr合金形成。
[0020]根据本发明的第一示例性实施例，第一金属层和第三金属层的NiCr合金的Ni和Cr的重量比可为97: 3至93: 7，以及更优选地，第一金属层和第三金属层的所述NiCr合金的Ni和Cr的重量比可为95: 5。
[0021]根据本发明的第一示例性实施例，第一金属层和第三金属层的厚度可以为10nm_60nmo
[0022]根据本发明的第一示例性实施例，第二金属层可以由纯Cu形成。
[0023]根据本发明的第一示例性实施例，透明电极图案部分可在透明电极图案部分彼此相交的方向上形成在衬底的两个侧面上，以及每个外电极线可形成在衬底的一个侧面上，以与形成在衬底的两个侧面上的每个透明电极图案部分电连接，一个外电极线与形成在衬底的另一个侧面处的透明电极图案部分通过通孔电连接，该通孔形成在衬底的无源区域内且穿过衬底的两个侧面。
[0024]本发明的第二示例性实施例提供一种静电电容触摸屏面板的制造方法，包括:提供衬底，在衬底的至少一个侧面上形成用于形成透明电极图案部分的透明导电层，且衬底具有屏幕区域和无源区域；在衬底的至少无源区域内的透明导电层的暴露的表面上沉积用于形成外电极线的多金属层，多金属层包括依次堆叠的第一金属层至第三金属层，第一金属层至第三金属层分别由NiCr合金、包括Cu的导电金属和NiCr合金形成；以及通过曝光/刻蚀在所述衬底的一个侧面的屏幕区域和无源区域内分别形成透明电极图案部分和连接至所述透明电极图案部分的外电极线，透明电极图案部分形成为暴露图案化的透明导电层，外电极线包括透明导电层上的第一金属层至第三金属层并且是图案化的。
[0025]根据本发明的第二示例性实施例，第一金属层和第三金属层的所述NiCr合金的Ni和Cr的重量比为97: 3至93: 7，以及更优选地，第一金属层和第三金属层的所述NiCr合金的Ni和Cr的重量比可为95: 5。
[0026]根据本发明的第二示例性实施例，第一金属层和第三金属层的厚度可以为10nm_60nmo
[0027]根据本发明的第二示例性实施例，第二金属层可以由纯Cu形成。
[0028]根据本发明的第二示例性实施例，提供衬底可以包括:提供在两个侧面上形成有用于形成透明电极图案部分的透明导电层的衬底，该方法可以进一步包括在沉积金属层之前，在衬底的无源区域上形成穿过衬底的两个侧面的用于形成通孔的贯穿孔，沉积金属层可以包括在衬底的两个侧面上沉积由第一金属层至第三金属层形成的多层金属层，以及形成透明电极图案部分和外电极线可以包括:通过双面曝光/刻蚀在衬底的一个侧面和另一个侧面中的每一个的触摸屏区域上在第一透明电极图案和第二透明电极图案彼此相交的方向上形成第一透明电极图案部分和第二透明电极图案部分，在衬底的一个侧面的无源区域上形成与第一透明电极图案部分电连接的第一外电极线，在衬底的一个侧面的无源区域上形成通过通孔与第二透明电极图案部分电连接的第二外电极线。
[0029]根据上述静电电容触摸屏面板的制造方法，可能有效地降低触摸屏的制造成本，并且大大减少触摸屏面板的制造工序。
[0030]根据本发明的示例性实施例，可能有利地最小化由于在对触摸屏进行图案化操作之前对层进行卷对卷式(roll-to-roll)层压工艺而产生的气泡、外来杂质或刮痕造成的缺陷。
[0031]根据本发明的示例性实施例，通过双面曝光/刻蚀的图案化工艺，可能有利地保持透明电极图案之间，透明电极图案和外电极线之间，以及外电极线之间精确的对准公差。
[0032]根据本发明的示例性实施例，通过利用第一层到第三层依次堆叠的三层金属层形成外电极线，可能有利地提高与透明电极图案的金属粘合力，保证外电极线所期待的电阻带的稳定，以及最大化暴露在最顶层上的金属的抗腐蚀性。

【专利附图】

【附图说明】
[0033]图1是根据本发明的静电电容触摸屏面板的第一示例性实施例的整体俯视图；
[0034]图2和图3分别是从图1中提取的第一衬底和第二衬底的俯视图；
[0035]图4是根据本发明的第一示例性实施例的静电电容触摸屏面板的纵向剖视图；
[0036]图5是沿着图1中线A-A’的剖视图；
[0037]图6是根据本发明的静电电容触摸屏面板的第二示例性实施例的整体俯视图；
[0038]图7和图8分别是从图6中提取的第一衬底和第二衬底的俯视图；
[0039]图9是根据本发明的第二示例性实施例的静电电容触摸屏面板的纵向剖视图；
[0040]图10是沿着图6中线B-B’的剖视图；
[0041]图11-16是根据本发明的第一示例性实施例的静电电容触摸屏面板的制造方法的俯视图和剖视图；
[0042]图17-21是根据本发明的第二示例性实施例的静电电容触摸屏面板的制造方法的俯视图和剖视图。

【具体实施方式】
[0043]本发明的各种优点和特征以及实现本发明的方法将从以下参照附图的示例性实施例的具体描述中变得明显。但是，本发明不限于在此公开的示例性实施例，而是将以各种形式实现。提供示例性实施例以完全公开本发明，且本领域的技术人员可充分理解本发明的范围。因此本发明将仅由所附权利要求书的范围限定。在整个说明书中，相同的标号指示相同的元件。术语“和/或”包括所提到的每一项或具有一项或多项的所有组合方式。
[0044]尽管“第一”、“第二”等用于描述各种元件、组成元件和/或部分，元件、组成元件和/或部分当然受这些术语限制。这些术语用于将一个元件、一个组成元件、或一个部分与另一个元件、另一个组成元件、或另一个部分区分开来。因此，在本发明的技术精神内，以下所述的第一元件、第一组成元件或第一部分可为第二元件、第二组成元件或第二部分。
[0045]图1是根据本发明的静电电容触摸屏面板的第一示例性实施例的整体俯视图，图2和图3是分别是从图1中提取的第一衬底和第二衬底的俯视图，图4是根据本发明的第一示例性实施例的静电电容触摸屏面板的纵向剖视图，以及图5是沿着图1中线A-A’的剖视图。
[0046]参考图1-5，根据本发明的静电电容触摸屏面板大体包括第一衬底100和第二衬底110，第一透明电极图案部分120和第二透明电极图案部分130，第一外电极线140和第二外电极线150等。
[0047]在此，第一衬底100和第二衬底110的另一个表面通过层间粘合剂O相互键合，且第一衬底100和第二衬底110具有屏幕区域S和无源区域X。
[0048]第一衬底100和第二衬底110以透明介质薄膜的形式形成，例如可由玻璃、聚酰亚胺(PD、丙烯酸(acryl)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、或聚萘二甲酸乙二酯(PEN)形成。
[0049]层间粘合剂O是透明的粘合剂，例如，光学透明粘合剂(OCA)可用作层间粘合剂O。
[0050]第一透明电极图案部分120形成在第一衬底100的一个侧面的屏幕区域S上，且多个第一透明电极图案125沿横向布置，使其以预定间距相互隔开，其中多个三角形或四边形的感应垫(sensing pad, SP)的顶点在纵向上相互电连接,使其以预定的间距相互隔开。
[0051]第二透明电极图案部分130形成在第二衬底110的一个侧面的屏幕区域S上，且多个第二透明电极图案135沿纵向布置，使其以预定间距相互隔开，其中多个三角形或四边形的感应垫(SP)的顶点在横向上相互电连接，使其以预定的间距相互隔开，这样第二透明电极图案135以正交的形式布置在各个第一透明电极图案125之间，由此形成俯视时呈正交晶格形状的第一衬底100和第二衬底110。
[0052]第一透明电极图案部分120和第二透明电极图案部分130由透明导电层形成，透明导电层为例如，氧化铟锡(Ι--)、氧化铟锌(IZO)、掺铝氧化锌(AZO)、碳纳米管(CNT)、聚乙撑二氧噻吩(PEDOT)、银(Ag)或铜(Cu)透明油墨，且优选ΙΤ0。
[0053]同时，感应垫(SP)可以以例如，三角形、四边形或菱形的形状形成，但是不限于这些形状，且可以以各种形状(例如，圆形、椭圆形或多边形)形成。
[0054]第一外电极线140形成为与第一衬底100的一个侧面的无源区域X上的第一透明电极图案部分120的每个第一透明电极图案125电连接，且具有包括依次堆叠在透明导电层上的第一金属层141至第三金属层143的三层结构。
[0055]第一金属层141形成在与第一透明电极图案125 —体形成的透明导电层上，且由NiCr合金形成。第一金属层141作为种层用于提高与第一透明电极图案125的金属粘合力。
[0056]第二金属层142是介于第一金属层141和第三金属层143之间的导电层，且用于调节第一外电极线140的电阻。第二金属层142可调节厚度以满足期待的电阻带。包括铜(Cu)、优选纯铜(Cu)的导电金属用于第二金属层142。
[0057]第三金属层143 (最顶层)形成在第二金属层142上，且用于抗腐蚀。第三金属层143可由例如类似于第一金属层141的NiCr合金形成。
[0058]在本发明中，在第一金属层141和第三金属层143的NiCr合金中，Ni和Cr的重量比为97: 3至93: 7。NiCr合金形成第一金属层141和第三金属层143，且用于改善金属粘合力和抗腐蚀，当Cr的重量比低于3%时，第一金属层141和第三金属层143很容易被腐蚀，但Cr的重量比大于7%时，在图案的选择性刻蚀工艺中，将不容易进行刻蚀，因此需要使用强化学物质，因而破坏透明电极图案。
[0059]形成第一金属层141和第三金属层143的NiCr合金具有相同的Ni: Cr重量比，即95: 5。第一金属层141和第三金属层143以相同的方式形成,其优势在于形成第一金属层141和第三金属层143的工艺可统一起来，且在防止透明电极图案被损坏的同时，可能保证金属粘合力和抗腐蚀。
[0060]本发明能够使用包括Cu、优选纯Cu的导电金属作为第二金属层142，第二金属层142通过由NiCr合金形成的第一金属层141和第三金属层143在外电极线内大体作为导线。包括Cu的导电金属是指包括铜作为主要成分的合金。考虑到电阻和成本，铜，尤其是纯铜，可用作外电极线的材料，但是在相关技术中的触摸屏面板中，鉴于铜在与透明电极图案的金属粘合力以及抗腐蚀性上的劣势，使用包括价格相对较高的银(Ag)和金(Au)作主材料的合金。但是，本发明能够使用包括Cu，尤其是纯Cu的导电金属，以使有可能降低该触摸屏图案的制造成本，且可能根据必要的电阻且不考虑其他因素来调节第二金属层142的厚度，因此很容易在触摸屏面板中设计处最优的外电极线。
[0061]同时,第一金属层141和第三金属层143的厚度可为10nm-60nm,且第二金属层142的厚度可根据期待的电阻值而改变。
[0062]当第一金属层141和第三金属层143的厚度均小于1nm时,第一金属层141和第三金属层143很容易被腐蚀,且当第一金属层141和第三金属层143的厚度大于60nm时，在选择性刻蚀工艺中，不容易进行刻蚀，且有可能出现断裂。
[0063]第二外电极线150形成为与第二衬底110的一个侧面的无源区域X上的第二透明电极图案部分130的每个第二透明电极图案135电连接。
[0064]第二外电极线150可与第一外电极线140—样，实现为依次堆叠的第一金属层141至第三金属层143的三层结构，从简化工艺的角度更具优势。但是，第二外电极线150不限于此。
[0065]安装有控制器160的外部驱动单元170 (例如柔性印刷电路(FPC)或薄膜上芯片(COF))双面键合至第一衬底100和第二衬底110的一个侧面的无源区域X上，以电连接至第一外电极线140和第二外电极线150，以大体上驱动和控制触摸屏面板。
[0066]图6是根据本发明的静电电容触摸屏面板的第二示例性实施例的整体俯视图，图7和图8分别是从图6中提取的第一衬底和第二衬底的俯视图，图9是根据本发明的第二示例性实施例的静电电容触摸屏面板的纵向剖视图，且图10是沿着图6中线B-B’的剖视图。
[0067]参考图6-10，根据本发明的静电电容触摸屏面板大体包括第一衬底200和第二衬底210，第一透明电极图案部分220和第二透明电极图案部分230，第一外电极线240和第二外电极线250等。
[0068]在此，第一衬底200和第二衬底210以及第一透明电极图案部分220和第二透明电极图案部分230与参考图1-5所描述的相同，因此省略其具体描述。
[0069]如图6-10所示，根据本发明的静电电容触摸屏面板具有单面键合至外部驱动单元270的衬底。
[0070]第一外电极线240形成在第二衬底210的一个侧面的无源区域X上，以与第一透明电极图案部分220的每个第一透明电极图案225通过至少一个通孔VH电连接，该通孔VH穿过第一衬底200和第二衬底210的无源区域X。
[0071]通孔VH将第一衬底200的一个侧面的每个第一透明电极图案225的电极焊盘226与形成在第二衬底210的一个侧面上的第一外电极线240连接。电极焊盘226由堆叠在与第一衬底200的有源区S上的第一透明电极图案225连接的透明导电层上的三层金属层(第一金属层141至第三金属层143)形成，且第一外电极线240由这三层金属层(即，第一金属层141至第三金属层143)形成，第一金属层141至第三金属层143依次堆叠在图案化的透明导电层上，以与第二衬底210的有源区域S上的每个第二透明电极图案235分离。第一金属层141至第三金属层143与图1-5所述的第一金属层141至第三金属层143相同。
[0072]第二外电极线250由三层(第一金属层251至第三金属层253)形成,第一金属层251至第三金属层253与第二衬底210的一个侧面的无源区域X上的第二透明电极图案部分230连接，且依次堆叠在图案化的透明导电层上，以与第二透明电极图案部分230的每个第二透明电极图案235电连接。第一金属层251至第三金属层253与图1_5所述的第一金属层141至第三金属层143相同。
[0073]安装有控制器260的外部驱动单元270单面键合至第二衬底210的另一个侧面的无源区域X上，以电连接至第一外电极线240和第二外电极线250，以大体上驱动和控制触摸屏面板。
[0074]同时，在上述图6中，安装有控制器260的外部驱动单元270突出至外部而被键合，但是不限于此，且外部驱动单元270可单面键合至第二衬底210的另一个侧面的无源区域X上，且没有突出至外部。
[0075]同时，在本发明的第一和第二示例性实施例中，使用通过层间粘合剂O相互键合的第一衬底100和第二衬底110以及第一衬底200和第二衬底210，但是本发明不限于此，且可以使用未使用层间粘合剂O的衬底形成的结构。
[0076]图11-16是根据本发明的第一示例性实施例的静电电容触摸屏面板的制造方法的俯视图和剖视图。
[0077]参考图11-13，制备第一衬底100和第二衬底110，其中用于形成第一透明电极图案部分和第二透明电极图案部分且具有预定厚度的第一透明导电层300和第二透明导电层310形成在第一衬底100和第二衬底110的一个侧面上，第一衬底100和第二衬底110具有屏幕区域S和无源区域X，然后第一衬底100和第二衬底110的另一个侧面通过使用层间粘合剂O而相互键合。
[0078]参考图14，通过普通溅射或印刷工艺，第一层400和第二层410分别沉积在具有预定厚度的第一透明导电层300和第二透明导电层310的暴露的表面上。
[0079]在这种情况下，第一层400为多金属层，且具有依次堆叠的第一金属层401至第三金属层403的结构。即，第一金属层401至第三金属层403依次堆叠在第一透明导电层300的暴露的表面上。第一金属层401至第三金属层403的成分和/或厚度与图1-5所述的第一金属层141至第三金属层143相同。
[0080]第一金属层401形成在第一透明导电层300的暴露的表面上，且作为用于改善金属粘合力的种层。
[0081]第二金属层402为介于第一金属层401和第三金属层403之间的导电金属层，且可由包括Cu、优选纯Cu的导电金属形成。第二金属层402形成在第一金属层401之上,且其厚度可根据第一外电极线140的期待的电阻带调节。
[0082]第三金属层403 (最顶层)形成在第二金属层402上，且用于防止第二金属层402的腐蚀。
[0083]根据本发明，在第一金属层401和第二金属层403中使用具有相同组成的NiCr合金，由此实现沉积工艺的统一化和简单化。
[0084]第一金属层401至第三金属层403可通过使用，例如,派射工艺(如物理气相沉积(PVD)、化学气相沉积(CVD)和等离子体增强化学气相沉积(PECVD))，直接印刷工艺(如丝网印刷、凹版印刷、凹版胶印和喷墨印刷)，涂布工艺和湿法或干法电镀工艺沉积。
[0085]第二层410也可形成为与包括第一金属层401至第三金属层403的第一层400相同，但不限于此。
[0086]同时，在本发明的第一示例性实施例中，第一衬底100和第二衬底110的另一个侧面相互键合，然后第一层400和第二层410分别沉积在第一透明导电层300和第二透明导电层310的暴露的表面上，但是本发明不限于此，第一层400和第二层410可分别沉积在第一透明导电层300和第二透明导电层310的暴露的表面上,然后第一衬底100和第二衬底110的另一个侧面可相互键合。
[0087]本发明可使用由一个衬底形成的结构，而不使用通过层间粘合剂O相互键合的第一衬底300和第二衬底310。
[0088]参考图15，对第一层400，第一透明导电层300，第二层410和第二透明导电层310依次进行毯式刻蚀(blanket-etched)，因此第一衬底100和第二衬底110的一个侧面的屏幕区域S和无源区域X的特定部分通过使用普通光刻工艺暴露。
[0089]在这种情况下，光刻工艺是通过使用包含期待图案的掩膜将光选择性地照射在光刻胶(PR)上，形成与掩膜的图案相同的图案的工艺，该工艺利用当特定化学试剂(如PR)接收光照时发生化学反应以使其特性发生改变的原理。
[0090]光刻工艺由将PR与整张照片的薄膜对应涂布的PR涂布工艺，使用掩膜选择性照射光线的曝光工艺，以及通过利用显影剂去除接收光照的部分的PR从而形成期待的图案的显影工艺组成。
[0091]参考图16,通过选择性地刻蚀第一层400和第二层410,暴露第一衬底100和第二衬底110的屏幕区域S上的第一透明导电层300和第二透明导电层310，如图1-4所示，通过双面曝光/刻蚀，第一透明电极图案部分120和与其电连接的第一外电极线140可分别形成在第一衬底100的一个侧面的屏幕区域S和无源区域X内，同时，第二透明电极图案部分130和与其电连接的第二外电极线150可分别形成在第二衬底110的一个侧面的屏幕区域S和无源区域X内。如图4所示，第一外电极线140由形成在与第一透明电极图案部分125连接的透明导电层上的第一金属层141至第三金属层143形成。
[0092]在根据本发明的第一示例性实施例的静电电容触摸屏面板的制造方法的一个变型的示例中，通过使用普通溅射或印刷工艺和利用特定的掩膜，具有预定厚度的第一层400和第二层410可选择性地沉积在第一衬底100和第二衬底110的无源区域X上的第一透明导电层300和第二透明导电层310的特定的暴露表面上。
[0093]然后，进行双面曝光/刻蚀工艺，以使第一衬底100和第二衬底110的一个侧面的屏幕区域S和无源区域X的特定部分通过使用普通光刻工艺而暴露，在这种情况下，第一透明电极图案部分120和与其电连接的第一外电极线140可分别形成在第一衬底100的一个侧面的屏幕区域S和无源区域X内，且第二透明电极图案部分130和与其电连接的第二外电极线150可分别形成在第二衬底200的一个侧面的屏幕区域S和无源区域X内，不需要使用对屏幕区域S内的第一层400和第二层410进行选择性刻蚀以使第一衬底100和第二衬底110的屏幕区域S上的第一透明导电层300和第二透明导电层310暴露的工艺。
[0094]图17-21是根据本发明的第二示例性实施例的静电电容触摸屏面板的制造方法的俯视图和剖视图。
[0095]参考图17-21，用于形成第一透明电极图案部分和第二透明电极图案部分且具有预定厚度的第一透明导电层300和第二透明导电层310形成在第一衬底200和第二衬底210的一个侧面上，且在准备好具有屏幕区域S和无源区域X的第一衬底200和第二衬底210之后，第一衬底200和第二衬底210的另一个侧面通过使用层间粘合剂O相互键合。
[0096]然后，如图19所示，用于形成通孔VH的至少一个贯穿孔H使用一般的穿孔设备形成在第一衬底200和第二衬底210的无源区域上，以穿过第一透明导电层300和第二透明导电层310。
[0097]参考图20，通过使用普通溅射或印刷工艺，由第一金属层401至第三金属层403形成的第一层400和第二层410分别沉积在包括每个贯穿孔H的内表面的第一透明导电层300和第二透明导电层310的暴露的表面上且具有预定厚度。
[0098]参考图21，对第一层400，第一透明导电层300，第二层410和第二透明导电层310依次进行毯式刻蚀，因此第一衬底200和第二衬底210的一个侧面的屏幕区域S和无源区域X的特定部分通过使用普通光刻工艺被暴露。
[0099]然后，如图22所不,第一层400和第二层410被选择性地刻蚀，以暴露第一衬底200和第二衬底210的屏幕区域S上的第一透明导电层300和第二透明导电层210。第一衬底200的一个侧面的屏幕区域S内的第一透明电极图案部分220和第二衬底210的一个侧面的屏幕区域S内的第二透明电极图案部分230可通过双面曝光/刻蚀工艺形成，且进一步地，第一外电极线240和第二外电极线250可形成在第二衬底210的一个侧面的无源区域X内，第一外电极线240通过每个通孔VH与第一透明电极图案部分220的每个第一透明电极图案225电连接，第二外电极线250与第二透明电极图案部分230的每个第二透明电极图案235电连接。如图9和图10所示，第一外电极线240和第二外电极线250形成为透明导电层上的具有第一金属层241至第三金属层243和第一金属层251至第三金属层253的结构。
[0100]在这种情况下，在本发明的第二示例性实施例的一个变型的示例中，具有预定厚度的第一层400和第二层410可通过普通溅射或印刷工艺使用特定的掩膜选择性地沉积在第一衬底200和第二衬底210的无源区域X上的包括每个贯穿孔H的内表面的第一透明导电层300和第二透明导电层310的特定的暴露的表面上。
[0101]然后，进行双面曝光/刻蚀工艺，以使第一衬底200和第二衬底210的一个侧面的屏幕区域S和无源区域X的特定部分通过使用普通光刻工艺而被暴露。
[0102]在这种情况下，第一透明电极图案部分220和与其电连接的第一外电极线240可分别形成在第一衬底200的一个侧面的屏幕区域S和无源区域X内，且第二透明电极图案部分230和与其电连接的第二外电极线250可分别形成在第二衬底200的一个侧面的屏幕区域S和无源区域X内，不需要使用对屏幕区域S内的第一层400和第二层410进行选择性刻蚀以使第一衬底200和第二衬底210的屏幕区域S上的第一透明导电层300和第二透明导电层310暴露的工艺。
[0103]同时，在本发明的第一不例性实施例和第二不例性实施例中，第一衬底100和第二衬底110，以及第一衬底200和第二衬底210通过层间粘合剂O相互键合，但是本发明不限于此，且可使用由未利用层间粘合剂O的一个衬底形成的结构，由此有效地降低该触摸屏的制造成本，且大大地减少触摸屏面板的制造工序。
[0104]尽管已经描述根据本发明的静电电容触摸屏面板及其制造方法的示例性实施例，但是本发明不限于这些示例性实施例，在权利要求书、本发明的具体描述以及附图的范围内可进行各种修改，且各种修改属于本发明的范围。
【权利要求】
1.一种静电电容触摸屏面板，包括: 衬底，所述衬底具有屏幕区域和无源区域； 透明电极图案部分，所述透明电极图案部分由所述衬底的至少一个侧面的所述屏幕区域上的图案化的透明导电层形成；以及 外电极线，所述外电极线图案化在所述衬底的至少一个侧面的所述无源区域上，且与所述透明电极图案部分电连接， 其中，所述外电极线包括依次堆叠在所述透明导电层上的第一金属层至第三金属层，以及所述第一金属层至第三金属层分别由NiCr合金、包括Cu的导电金属和NiCr合金形成。
2.根据权利要求1所述的静电电容触摸屏面板，其中，所述第一金属层和所述第三金属层的所述NiCr合金的Ni和Cr的重量比为97: 3至93: 7。
3.根据权利要求2所述的静电电容触摸屏面板，其中，所述第一金属层和所述第三金属层的所述NiCr合金的Ni和Cr的重量比为95: 5。
4.根据权利要求1-3任一项所述的静电电容触摸屏面板，其中，所述第一金属层和所述第三金属层的厚度为10nm-60nm。
5.根据权利要求1-3任一项所述的静电电容触摸屏面板，其中，所述第二金属层由纯Cu形成。
6.根据权利要求1所述的静电电容触摸屏面板，其中，所述透明电极图案部分在所述透明电极图案部分彼此相交的方向上形成在所述衬底的两个侧面上，以及 每个所述外电极线形成在所述衬底的一个侧面上，以与形成在所述衬底的两个侧面上的每个所述透明电极图案部分电连接，一个所述外电极线与形成在所述衬底的另一个侧面处的所述透明电极图案部分通过通孔电连接，所述通孔形成在所述衬底的所述无源区域内且穿过所述衬底的两个侧面。
7.一种静电电容触摸屏面板的制造方法，包括: 提供衬底，在所述衬底的至少一个侧面上形成用于形成透明电极图案部分的透明导电层，且所述衬底具有屏幕区域和无源区域； 在所述衬底的至少无源区域内的所述透明导电层的暴露的表面上沉积用于形成外电极线的多金属层，所述多金属层包括依次堆叠的第一金属层至第三金属层，所述第一金属层至第三金属层分别由NiCr合金、包括Cu的导电金属和NiCr合金形成；以及 通过曝光/刻蚀在所述衬底的一个侧面的所述屏幕区域和所述无源区域内分别形成所述透明电极图案部分和连接至所述透明电极图案部分的外电极线，所述透明电极图案部分形成为暴露图案化的透明导电层，所述外电极线包括所述透明导电层上的所述第一金属层至第三金属层并且是图案化的。
8.根据权利要求7所述的方法，其中，所述第一金属层和所述第三金属层的所述NiCr合金的Ni和Cr的重量比为97: 3至93: 7。
9.根据权利要求8所述的方法，其中，所述第一金属层和所述第三金属层的所述NiCr合金的Ni和Cr的重量比为95: 5。
10.根据权利要求7-9任一项所述的方法，其中，所述第一金属层和所述第三金属层的厚度为 10nm_60nm。
11.根据权利要求7-9任一项所述的方法，其中，所述第二金属层由纯Cu形成。
12.根据权利要求7所述的方法，其中，所述提供衬底包括:提供在两个侧面上形成有用于形成所述透明电极图案部分的透明导电层的所述衬底， 所述方法进一步包括在沉积所述金属层之前，在所述衬底的所述无源区域上形成穿过所述衬底的两个侧面的用于形成通孔的贯穿孔， 沉积所述金属层包括在所述衬底的两个侧面上沉积由所述第一金属层至第三金属层形成的多层金属层，以及 形成所述透明电极图案部分和所述外电极线包括:通过双面曝光/刻蚀在所述衬底的一个侧面和另一个侧面中的每一个的所述触摸屏区域上在第一透明电极图案和第二透明电极图案彼此相交的方向上形成第一透明电极图案部分和第二透明电极图案部分，在所述衬底的一个侧面的所述无源区域上形成与所述第一透明电极图案部分电连接的第一外电极线，在所述衬底的一个侧面的所述无源区域上形成通过所述通孔与所述第二透明电极图案部分电连接的第二外电极线。
【文档编号】G06F3/044GK104298407SQ201410324017
【公开日】2015年1月21日 申请日期:2014年7月8日 优先权日:2013年7月15日
【发明者】李龙勋 申请人:E和H有限公司