光触控结构、光触控显示基板和光触控显示装置的制造方法
【技术领域】
[0001] 本实用新型设及显示领域，特别设及一种光触控结构、光触控显示基板和光触控 显示装置。
【背景技术】
[0002] 随着科技的进步，触控屏技术也经历了从低档向高档逐步升级和发展的过程。根 据其工作原理，其目前一般被分为四大类；电阻式触控屏、电容式触控屏、红外线式触控屏 和表面声波触控屏。
[0003] 然而，上述四种触控屏在实现触控功能时，均需要相应的触控物（例如：手指、触 控笔）与触控屏进行实体接触，即需要使用者与触控屏保持近距离。同时，在触控结构与触 控屏进行实体接触时，触控结构会对触控屏的表面产生磨损。 【实用新型内容】
[0004] 本实用新型提供一种光触控结构、光触控显示基板光触控显示装置，可实现使用 者在远距离处通过发射一定亮度的光线W进行光感触控，从而能有效的避免触控物与触控 屏进行实体接触时对触控屏的表面产生磨损。
[0005] 为实现上述目的，本实用新型提供了一种光触控结构，包括；第一导电层、第二导 电层和光导材料层，所述第一导电层与所述第二导电层相对设置，所述光导材料层设置在 所述第一导电层和所述第二导电层之间，所述第一导电层上的电压大于所述第二导电层上 的电压，所述第一导电层的周边设置有第一非零恒压源，所述第一非零恒压源与所述第一 导电层之间还连接有电流检测单元，所述电流检测单元还与触控信号判断单元连接；
[0006] 所述第一非零恒压源用于从不同方为第一导电层供电W维持所述第一导电层处 于恒压；
[0007] 所述电流检测单元用于检测所述第一非零恒压源与所述第一导电层之间的电流 大小并生成相应的电流信号；
[000引所述触控信号判断单元用于根据所述电流信号判断触控位置。
[0009] 可选地，所述电流检测单元的数量为四个，四个所述电流检测单元分别与所述第 一导电层的四个顶角连接。
[0010] 可选地，所述第一导电层和所述第二导电层中至少一个的材料为透明导电材料。
[0011] 可选地，所述透明导电材料为氧化铜锡。
[0012] 可选地，当所述光导材料层的材料为无机材料时，所述无机材料包括：砸、砸蹄合 金、硫化簡或氧化锋；
[0013] 当所述光导材料层的材料为有机材料时，所述有机材料包括；聚己締巧挫、献菁络 合物、偶氮化合物或斯夸咐化合物。
[0014] 可选地，所述第二导电层连接有第二非零恒压源，所述第一非零恒压源输出的电 压大于所述第二非零恒压源输出的电压；
[0015] 或，所述第二导电层接地。
[0016] 为实现上述目的，本实用新型还提供了一种光触控显示基板，包括；显示基板和光 触控结构，所述光触控结构设置于所述显示基板上，所述光触控结构采用上述的光触控结 构。
[0017] 可选地，所述显示基板包括：衬底基板、彩膜层和黑矩阵，所述光触控结构、所述彩 膜层和所述黑矩阵位于所述衬底基板的同一侧；
[0018] 所述第二导电层形成于所述衬底基板的上方，所述光导材料层形成于所述第二导 电层的上方，所述光导材料层的形状为网状，呈现网状的所述光导材料层限定出若干个像 素区域，所述彩膜层形成于所述像素区域内，所述第一导电层形成于所述彩膜层和所述光 导材料层的上方，所述黑矩阵形成于所述第一导电层的上方，所述黑矩阵在垂直于所述衬 底基板的方向上的投影覆盖所述光导材料层。
[0019] 可选地，所述第二导电层的形状为网状。
[0020] 为实现上述目的，本实用新型还提供了一种光触控显示装置，包括；光触控显示基 板，所述光触控显示基板采用上述的光触控显示基板。
[0021] 为实现上述目的，本实用新型还提供了一种光触控显示基板的制备方法，所述光 触控显示基板包括；显示基板和光触控结构，所述光触控结构采用上述的光触控结构，所述 显示基板包括：衬底基板、彩膜层和黑矩阵，所述光触控结构、所述彩膜层和所述黑矩阵位 于所述衬底基板的同一侧，所述制备方法包括：
[0022] 在所述衬底基板的上方形成所述第二导电层；
[0023] 在所述第二导电层的上方形成所述光导材料层，所述光导材料层的形状为网状， 呈现网状的所述光导材料层限定出若干个像素区域；
[0024] 在所述像素区域内形成所述彩膜层；
[0025] 在所述彩膜层和所述光导材料层的上方形成所述第一导电层；
[0026] 在所述第一导电层的上方形成所述黑矩阵，所述黑矩阵在垂直于所述衬底基板的 方向上的投影覆盖所述光导材料层。
[0027] 本实用新型具有W下有益效果：
[002引本实用新型提供了一种光触控结构、光触控显示基板和光触控显示装置，该光触 控结构包括；第一导电层、第二导电层和光导材料层，第一导电层与第二导电层相对设置， 光导材料层设置在第一导电层和第二导电层之间，第一导电层上的电压高于第二导电层上 的电压，第一导电层的周边设置有第一非零恒压源，第一非零恒压源与第一导电层之间还 连接有电流检测单元，电流检测单元还与触控信号判断单元连接。在本实用新型中，当一定 亮度的光线照射在光导材料层上时，光导材料层上的光照区域由绝缘状态变为导电状态， 第一导电层上的电荷通过光照区域移动至第二导电层上，第一非零恒压源通过向第一导电 层供电W恢复第一导电层上的电荷损失，电流检测单元检测第一非零恒压源与第一导电层 之间的电流大小并生成相应的电流信号，触控信号判断单元根据电流信号判断出触控位 置，从而实现了光感触控功能。
【附图说明】
[0029] 图1为本实用新型实施例一提供的一种光触控结构的结构示意图；
[0030] 图2为图1所示的光触控结构实现光感触控的原理示意图；
[0031] 图3为图1中第一导电层、电流检测单元、第一非零恒压源W及触控信号判断单元 的不意图；
[0032] 图4为本实用新型中触控信号判断单元判断触控位置的原理示意图；
[0033] 图5为本实用新型实施例二提供的一种光触控显示基板的结构示意图；
[0034] 图6为图5中光导材料层的结构示意图；
[0035] 图7为制备图5所示的光触控显示基板的方法流程图；
[0036] 图8a为在衬底基板的上方形成第二导电层的示意图；
[0037] 图8b为在第二导电层的上方形成光导材料层的示意图；
[003引图8c为在在像素区域内形成彩膜层的示意图；
[0039] 图8d为在彩膜层和光导材料层的上方形成第一导电层的示意图；
[0040] 图9为本实用新型实施例二提供的又一种光触控显示基板的结构示意图。
【具体实施方式】
[0041] 为使本领域的技术人员更好地理解本实用新型的技术方案，下面结合附图对本实 用新型提供的光触控结构、光触控显示基板及其制备方法和光触控显示装置进行详细描 述。
[0042] 实施例一
[0043] 图1为本实用新型实施例一提供的一种光触控结构的结构示意图，图2为图1所 示的光触控结构实现光感触控的原理示意图，图3为图1中第一导电层、电流检测单元、第 一非零恒压源W及触控信号判断单元的示意图，如图1至图3所示，该光触控结构包括：第 一导电层1、第二导电层3和光导材料层2,第一导电层1与第二导电层3相对设置，光导材 料层2设置在第一导电层1和第二导电层3之间，第一导电层1上的电压大于第二导电层 3上的电压，第一导电层1的周边设置有第一非零恒压源8,第一非零恒压源8与第一导电 层1之间还连接有电流检测单元7,电流检测单元7还与触控信号判断单元9连接。
[0044] 在本实施例中，当一定亮度（与光导材料层2的材料相